クリーンテクノロジーのバックナンバー
2008/08/05発売号 (8月号)

出版社：日本工業出版
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■クリーンテクノロジーの目次

■特集：太陽電池とクリーンテクノロジー
○太陽電池の現状と将来／産業技術総合研究所／近藤道雄

太陽電池への関心は急速な高まりを見せ、また生産量や産業規模も大きく膨らんできている。しかし導入ポテンシャルを考えるとまだ現状は序の口であり、更なる普及拡大が期待できる。本稿では太陽電池産業、技術の現状と将来について概観を述べる。
○NEDOにおける太陽光発電を用いた実証研究／新エネルギー・産業技術総合開発機構／諸住哲

（独）新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO技術開発機構）では新エネルギーの普及に密接に関係する系統連係技術の実証研究を行っている。本稿では太陽光発電の利用を主とする実証研究において、その研究の目的と成果について解説する。
○太陽光発電集中連系時の課題と対応技術／電力中央研究所／小林広武

温暖化対策等により、導入ニーズが益々高まっている太陽光発電を対象に、配電系統に集中連係した場合の電圧管理面と保護保安上の問題点と、パワーエレ機器や通信を利用した、太陽光発電側、系統側それぞれの新しい対策技術の開発状況について述べる。
○太陽電池の製造プロセスとクリーンテクノロジー／三菱電機／有本智

多結晶シリコン太陽電池は、量産レベルで15％以上の変換効率が容易に得られるようになっている。しかし更なる低コスト化の実現には、変換効率の改善と基板薄肉化が最重要課題である。本稿では、多結晶シリコン太陽電池の現状と今後の高性能化に向けた技術を紹介する。
○太陽電池用ガラス基板／旭硝子／尾山卓司

太陽電池市場の伸びは目覚ましく、今後も更なる拡大が期待されている。また使用原料の少ない薄膜型が市場における存在感を増している。本稿では、これらの太陽電池に用いられるガラス基板、特に薄膜太陽電池に用いられる透明導電膜付きガラス基板について述べる。
○薄膜太陽電池の新たな提案／アプライドマテリアルズジャパン／佐藤辰哉

地球環境に優しいエネルギー源として、太陽電池の需要は世界的に増大している。本稿では太陽電池技術について俯瞰すると共に、アプライドマテリアルズの『SunFab Thin Film Line』を題材とした新たな提案について紹介する。
○高効率太陽電池／三洋電機／辰見治彦・丸山英治

結晶Si系太陽電池は、現在の市場で圧倒的なシェアを占めている。本稿では、結晶Si系太陽電池の現状ならびに、三洋電機が開発したHIT太陽電池の特長および今後の低コスト化に向けたアプローチについて紹介する。
○太陽光発電という名のバブル／本誌編集委員長／服部毅

■コーヒーブレイク
○常識を疑うシリーズ(6)／服部毅

■小特集：ITRS2007改訂のポイント
○ITRS2007の概要／富士通マイクロエレクトロニクス／長田俊彦

目下45nmHik導入が進行しており、デバイス性能（処理能力／消費電力）が大きく改善している。またFLASHの1年前倒しで、微細化技術が一段と進歩している。他方、従来技術の改良により、半導体の利用範囲が広がり、新しい素子の開発も促進され、多様な可能性を示している。
○歩留まり改善における改訂のポイント／NECエレクトロニクス／桑原純夫

ITRSのYE章は、以前はDR（Defect Reduction）章と呼ばれており、SEMATECH会員会社がデータを公開／共有した欠陥低減プロジェクトの資産を引き継いだものだが、微細化／水平分業の進展等により、内容の見直しが求められている。
○ウエーハ環境汚染制御における改訂のポイント／日立製作所／津金賢

ITRSにおける歩留まり改善の章は、歩留まりモデルと装置許容欠陥数（YMDB）、欠陥検出と特徴付け（DDC）、そしてウエーハ環境汚染制御（WECC）の3つに分けられている。本稿ではWECCの要求項目内容と改訂のポイントについて解説する。
○クリーンルーム搬送における改訂のポイント／村田機械／山本眞

450mm、NGFが議論されているが、半導体工場内キャリア搬送の将来に大きな指針を与えるものの一つにITRSロードマップがある。主要な指標を2007年度版と2005年度版とを比較することにより、その変更のポイントを明確にする。
■解説
○TiO2/光触媒フィルタによるホルムアルデヒドの除去特性／朝日工業社／村上栄造／横浜国立大学／堀雅宏

近年、光触媒を利用した空気浄化装置が普及してきたが、酸化能力が不十分な場合は、有害な中間生成物の発生を伴うことがある。本稿ではホルムアルデヒドを除去対象物質とし、強力なUV照射と光触媒ユニットの多段設置による有害生成物の抑制効果を紹介する。
○続・日本薬局方第15改正：製薬用水のJP、USP及びEP三局の比較／大気社／村上大吉郎

本誌2007年7月号において解説した『日本薬局方第15改正：製薬用水のJP、USP及びEP三局の比較』の続編として、JP15、USP30、さらにEUP2002の概要を示し、また合わせて3局の相違について解説する。
■研究室紹介
○清水建設（株）技術研究所新クリーンルーム実験棟／清水建設／長谷部弥

■製品紹介
○半導体製造装置用軸受／ジェイテクト／奥田康一
○pnダイード温度センサのMEM型真空センサへの応用／メムス・コア／慶光院利映・小山克人・桜井史敏

■基礎講座：分かりやすいクリーンルームの管理手法 5
○これだけは身に付けたいクリーン化技術の基礎知識（その5）／三菱電機／園田信夫