特 集
半導体次世代キープロセスと新材料
＜総 論＞
EUVリソグラフィ技術の最新開発動向
技術研究組合 超先端電子技術開発機構（ＡＳＥＴ） 西山岩男
45nmプロセスにおけるLow-k洗浄 エム・エフエスアイ 三浦和弘
高機能300mmシリコンウェハの開発動向 ＳＵＭＣＯ 高石和成
次世代CVD・ALD向け液体材料 ジャパン・エア・ガシズ 植野敬弘
半導体パッケージのめっきプロセス用表面処理剤 日鉱マテリアルズ 熊谷正志

＜注目技術①：液浸リソグラフィ技術＞
液浸リソグラフィ技術の最新動向 ニコン 長坂博之・大和壮一
６kHz露光用インジェクションロックＡｒＦエキシマレーザ ギガフォトン 溝口 計

＜注目技術②：ＣＭＰ／平坦化技術＞
量産型CMP装置「nTrepid」 ストラスバー東京支社 犬塚 仁
銅研磨用ＣＭＰスラリー 富士写真フイルム 山下克宏
新ガラス研磨用固定砥粒プレート ノリタケカンパニーリミテド 永田 滉
ＣＭＰ用電着コンディショナ 三菱マテリアル 力田直樹
平坦化ＣＭＰ要素技術とその応用――ＭＥＭＳデバイス用スラリーの開発――
D-Process 土肥英之･櫻井 伸

＜注目技術③：ＳｉＣ関連技術＞
ＳｉＣ半導体用高温真空炉 岩崎電気 岩崎朋宏
ＳｉＣデバイス向けイオン打ち込み装置 アルバック 横尾秀和


特別記事 車載用電子部品の信頼性技術 カルソニックカンセイ 冨永 保


今 月 の 人 つくば半導体コンソーシアム構想を機軸に競争力強化に貢献
半導体先端テクノロジーズ社長 渡辺久恒氏

連 載
プラズマテレビで眺めてみれば② 内池平樹
半導体製造の基礎知識② 寺子屋みほ 宇津木 勝
マーケットＩＮＤＥＸ(158） グローバルネット 武野泰彦
ベンチャー企業の実像を探る(42) 日本起業家新聞社 森野 進

＜展示会レポート＞
センサエキスポジャパン２００６ 編集部

＜会議速報＞
有機分子バイオエレクトロニクス研究会報告 三洋電機 浜田祐次
電子デバイス研究会報告 東北大学 尾辻泰一


特別レポート ＜連載＞フランスのナノテクノロジー①
Ⅰ．フランスのナノテク政策とグルノーブル・イゼールのナノテク産業クラスター
本誌編集長 大島雅志