■特集:超純水と半導体洗浄の先端技術
○なぜラボ用純水・超純水装置ではパーティクルフリー水を採水できないのか
/ヴェオリア・ジェネッツ㈱ 黒木祥文
○ICP-MS分析に求められる超純水
/メルク㈱ 石井直恵
○最新の超純水中の不純物分析技術動向
/オルガノ㈱ 椙原健司
○SPMを代替えする高濃度オゾン水によるレジスト剥離
/野村マイクロ・サイエンス㈱ 自在丸隆行
○化学品消費量を削減するサステナブルなウエハ洗浄
/Siconnex Japan(同) 八尋大輔
○バッチ式ウエハ洗浄装置内水流解析と設計の視点
/横浜国立大学 羽深等
○原子間力顕微鏡による砥粒-洗浄ブラシ間相互作用の解析
/金沢大学 福間剛士
○超純水を利用した半導体基板の最終表面仕上げ技術
/大阪大学 藤大雪
■解説
○クリーン機器におけるカーボンフットプリント(CFP)の算出と運用について
/日本エアーテック㈱ 川口颯斗
○硫化鉛量子ドット太陽電池の世界最高性能を達成
/電気通信大学 沈青・丁超・劉東
○列車風が室内のCO₂濃度に与える影響に関する研究
/芝浦工業大学 西村直也
/国士舘大学 南泰裕
○連続波レーダによる非接触呼吸・心拍計測技術とその応用
/電気通信大学 孫光鎬・黒沢正樹
○プラズマが誘起する表面反応の理解と反応制御による膜作製
/福岡大学 篠原正典
○エアコン室外機群の3次元気流構造
/北海道大学 村井祐一・大須賀侑
/東京農工大学 大友衆示
/㈱ヤブシタ 山口哲太
○埃の静電特性とその堆積量
/岩谷学園 大谷昌生
/神奈川工科大学 金井徳兼
○食品分野での過熱水蒸気の利用
/大阪公立大学 伊與田浩志
■「SEMICON®Japan 2024」展示会の見どころ
/SEMIジャパン 佐藤秀一
クリーンテクノロジーの内容
- 出版社:日本工業出版
- 発行間隔:月刊
- 発売日:毎月5日
- サイズ:A4変形判
その研究・設計から維持管理まで
本誌は、発展と応用分野の拡張の時代にあるクリーンテクノロジーの総合専門誌です。毎号、クリーンテクノロジーの最新情報を、その研究・調査・企画設計から建設・維持・メンテナンスにいたるまで、ソフトとハードの両面にわたって、実際に役立つかたちで皆様にお届けしてまいります。
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