■特集１：フィルタにおけるクリーン化技術の最新動向
○半導体製造におけるフィルタの最新技術／三菱電機／園田信夫
○超純水の清浄化技術／オルガノ開発センター／大信紀子
○最新のフィルタ材料／北越製紙／渡辺正克
○超音波洗浄装置のクリーン化技術／カイジョー／副島潤一郎
○CMPの清浄化技術／荏原製作所／辻村 学
○薬液中の粒子検出器の現状と課題／リオン／松田朋信
■特集２：VOC排出規制と処理・回収技術１
○大気汚染防止法の改正に伴うVOC排出規制の考え方／経済産業省／神取 勉
○シリコーンゴム膜モジュールによるVOC回収／新潟大学／伊東 章
○マイクロ波を用いたVOC処理システムの開発／新日鐵化学／大西清高・樋口雅一／新日本製鐵／平 初雄／第和工業／高倉正照／奈良工業高等専門学校／梅原 忠／岡山大学／和田雄二／大阪大学／塚原保徳
■コーヒーブレイク
○半導体製造の未来を語るConFab2006／ソニー／服部 毅
■解説
○エアフィルタから発生する有機化合物の測定／国立保健医療科学院／鍵 直樹・池田耕一・柳 宇
○クリーンルーム内ケミカル汚染の実態調査／日本産業機械工業会／クリーンルーム委員会
○簡易増設型ケミカルフィルタの開発／鹿島建設／高橋幸成
○クリーンルームで使用される滅菌剤の現状と将来／国立医薬品食品衛生研究所／新谷英晴
■製品と技術
○液中のパーティクル管理をリアルタイムで簡単に／ミクニキカイ／林 泰寛・小堀裕子