クリーンテクノロジー 5月号 (発売日2007年05月05日) 表紙
  • 雑誌:クリーンテクノロジー
  • 出版社:日本工業出版
  • 発行間隔:月刊
  • 発売日:毎月5日
  • サイズ:A4変形判
  • 参考価格:2,178円
クリーンテクノロジー 5月号 (発売日2007年05月05日) 表紙
  • 雑誌:クリーンテクノロジー
  • 出版社:日本工業出版
  • 発行間隔:月刊
  • 発売日:毎月5日
  • サイズ:A4変形判
  • 参考価格:2,178円

クリーンテクノロジー 5月号 (発売日2007年05月05日)

日本工業出版
■特集1:先進の半導体平坦化CMP技術
○半導体平坦化CMP技術の課題と展望/九州大学/土肥俊郎
○半導体デバイスと平坦化CMPの最新動向/日立製作所/山田洋平
[製品紹介]
○Applied Materials Reflexion LK(...

クリーンテクノロジー 5月号 (発売日2007年05月05日)

日本工業出版
■特集1:先進の半導体平坦化CMP技術
○半導体平坦化CMP技術の課題と展望/九州大学/土肥俊郎
○半導体デバイスと平坦化CMPの最新動向/日立製作所/山田洋平
[製品紹介]
○Applied Materials Reflexion LK(...

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目次

■特集1:先進の半導体平坦化CMP技術
○半導体平坦化CMP技術の課題と展望/九州大学/土肥俊郎
○半導体デバイスと平坦化CMPの最新動向/日立製作所/山田洋平
[製品紹介]
○Applied Materials Reflexion LK(TM) CMP装置/アプライド マテリアルズ ジャパン/有馬靖二
○次世代酸化セリウムスラリー及びCu/CMPスラリー/昭和電工/伊藤 桂
○次世代CMP技術に要求されている装置技術と弊社CMP装置の特徴/東京精密/山根昭彦
○CMPスラリー供給装置/東横化学/平川 清
○あらゆるワークに対応するポリッシング装置/不二越機械工業/中村由夫
○銅配線用CMPスラリーの開発/富士フイルム/関 裕之・安波昭一郎
■特集2:空気浄化テクノロジー2
○正極・負極性クラスターイオンによる空気清浄化技術/シャープ/西川和男
○土壌を用いた大気浄化システム/フジタ/金子和己
○可視光応答型光触媒による室内空気質の浄化/住友金属工業/田坂誠均・正木康浩/
 和歌山工業高等専門学校/福田 匡/積水ハウス/間瀬昭則・木村俊朗
■コーヒーブレイク
○理科系のための… 8/服部 毅
■解説
○誘電分極体スクリーンによる病害虫遮蔽システム
 /近畿大学/野々村照雄・松田克礼・豊田秀吉/野菜茶葉研究所/本多健一郎/
 大阪府食とみどりの総合技術センター/草刈眞一/奈良県農業総合センター/井村岳男/カゴメ/金原淳司
○事務所ビルにおけるバイオエアロゾルの挙動とその制御方法/国立保健医療科学院/柳 宇
○浮遊微生物粒子の捕集と検出/産業医科大学/石松維世
○建築室内環境における超微粒子の分布/芝浦工業大学/西村直也
○短ギャップ・高濃度オゾン発生器/三菱電機/葛本昌樹
■製品と技術
○電源障害対策による生産システムの安定稼動/オムロン/林 昭
○床振動制御システム/鹿島建設/片村立太
■基礎講座:製薬用水とクリーン化技術6
○製薬用水へ求められる視点と水システムの全貌について/野村マイクロ・サイエンス/布目 温
■SEAJ News
○半導体製造装置 販売統計/日本半導体製造装置協会


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商品情報・内容

  • 出版社:日本工業出版
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