■特集：次世代半導体材料開発最前線
○総論 次世代半導体材料開発／次世代半導体材料技術研究組合／川本佳史
○次世代向けCMP材料の開発／JSR／長谷川亨
○ポーラスLow-k膜の物性評価技術／JSR／小久保輝一
○特殊材料ガスのビジネス展開とその課題／昭和電工／大久保雅裕
○Low-k、バッファコート材料の開発／住友ベークライト／朝隈純俊・番場敏夫
○耐熱化とウエーハ裏面加工プロセスへの応用／積水化学工業／杉田大平・大山康彦
○半導体製造におけるリソアシスト材料の開発／東京応化工業／熊谷智弥
○ポジ型感光性ポリイミドの開発と300mmプロセスへの対応／東レ／富川真佐夫
○ARC関連材料の開発とその課題／日産化学工業／渡邊久幸・中島康之
○CMPスラリー／日立化成工業／木村忠広・芳賀浩ニ
○フォトレジスト、CMPスラリ、Low-kの開発とその課題／富士フィルム／樽谷晋治・加藤知夫・浅野 明

■コーヒーブレイク
○セミコン・ウェスト2007／服部 毅

■解説
○電気集じんに関する新しい技術／豊橋技術科学大学／水野 彰
○異物対策の現状と検出・防除技術の課題／日本生活協同組合連合会／佐藤邦裕
○天然成分を用いたウィルス撃退フィルター／三菱製紙／奥 恭行
○進化するX線異物検出技術の最新動向／アンリツ産機システム／植山英弘
○包装品の密封不良検出への取り組みと改善課題／ニッカ電測／上村久仁男

■シリーズ：研究室紹介
○福井工業大学 浅田研究室／福井工業大学／浅田敏勝

■製品紹介
○花粉症対策用エアシャワー／三機工業／横山峰二・飯嶋和明・新村浩一
○エアロゾルエレクトロメータの原理と計測法／東京ダイレック／船戸浩二

■基礎講座：エンジニアリングのためのGMP豆知識7
○無菌医薬品製造における清浄度レベル／GMPリサーチ／山川康泰

■SEAJ News
○半導体製造装置販売統計（7月）／日本半導体製造装置協会