■特集：半導体用洗浄薬液の最新動向
○先端半導体用薬液の現状と動向／本誌編集委員／服部 毅
○High-k/メタルゲート構造形成プロセスとエッチング・洗浄技術／半導体先端テクノロジーズ／佐藤基之・杉田義博
○Cu/Low-k構造プロセスの課題と洗浄技術／大日本スクリーン製造／杉本憲司・荒木浩之・今井正芳
○銅配線用CMP後洗浄液の開発／富士フイルム／西脇良典
【製品紹介】
○Cu/Low-k用の薬液／関東化学／小田貴文
○高性能Cu-CMP用後洗浄剤の特徴／和光純薬工業／林田一良
■コーヒーブレイク
○還暦を迎えたトランジスタ／服部 毅
■解説
○室内空気中の化学物質と吸着現象の基礎／九州大学大学院／伊藤一秀
○ホルマリン燻蒸対策技術／五洋建設／高橋祐一・小座野貴弘・末永義明
○虫は入れない／竹中工務店／稲岡 徹
○食品プラントで使用されるバイオサイドの特性と応用／アーチ・ケミカルズ・ジャパン／清野和浩
○食品の微生物学的リスクアナリシス／国立医薬品食品衛生研究所／山本茂貴
○企業におけるCSR活動について／アサヒビール／麻生尚輝
○アジアの環境水と食品の衛生状態／京都大学／西渕光昭・中口義次・小板橋努
■製品紹介
○0.1pA超の低ノイズ測定環境を実現した空気冷却式サーモチャック装置／東京ガスケミカル／秋澤徹郎
○塩分やアルミ包材に影響を受けない高感度金属異物検出技術／トック・エンジニアリング／近藤信一
○超極細繊維ワイパー／三菱製紙／松岡昌伸・兵頭建二
■基礎講座：エンジニアリングのためのGMP豆知識8
○無菌医薬品の製造過程に要求される洗浄度レベル／GMPリサーチ／山川康泰
■SEAJ News

○半導体製造装置販売統計／日本半導体製造装置協会