■特集1：最先端半導体製造におけるクリーンテクノロジー
○最先端半導体製造における金属汚染とその対策／東芝セミコンダクター社／嶋崎綾子
○最先端半導体製造におけるパーティクル対策／東京エレクトロン／守屋 剛
○最先端半導体における分子状汚染とその対策／ソニー／嵯峨幸一郎
○ケミカル汚染モニタ／スペクトリス／加藤 洋／Particle Measuring Systems Inc.／Steven Rowley
○超高感度アンモニアモニタ／ソナック／山崎和子・余 万吉

■コーヒーブレイク
○写真でみるセミコン・ウェスト2008／服部 毅

■特集2：半導体標準化に貢献するSEMIスタンダード
○コンセンサス標準戦略／一橋大学／江藤 学
○300mmシリコンウェーハ標準化のインパクト／東洋大学／富 純一／立命館大学／立本博文
○SEMIスタンダードの役割と可能性／SEMIジャパン／奥田健一郎
○SEMIスタンダードの変革と業界の変遷／TDK／岡部 勉
○450mmウェーハ用SEMI規格開発動向／アクティオン／小松省二
○SEMIスタンダード利用のSiウエーハメーカからのメリット／コバレントマテリアル／泉妻宏治
○半導体製造装置への静電気放電(ESD)と静電吸着(ESA)による影響評価と制御のためのSEMIガイドE78／原田産業／村上俊郎
○新ガイドラインSEMI S26-0308／大日本スクリーン製造／西口直克
○SEMI S2 半導体製造装置の環境、健康、および安全に関するガイドライン／キヤノンアネルバ／真白すぴか

■解説
○色素増感太陽電池の実用化に向けて／東京理科大学／荒川裕則
○自動車の塗装工程、乾燥炉中の粒子測定／ソナック／水野真人・池田卓司

■製品紹介
○顧客ニーズに合ったTOC連続測定シリーズ／ティ・アンド・シー・テクニカル

■基礎講座：分かりやすいクリーンルームの管理手法 9
○これだけは身に付けたい作業員管理の基礎知識／三菱電機／園田信夫