■特集：微細加工とその周辺技術について
○微細加工面を利用した霜結晶の生成抑制技術/富士電機㈱/田岸未来子/玉川大学/大久保英敏
冷凍空調機器の熱交換器の着霜対策として、加熱によらない機械的除霜は省エネの観点から有効である。本稿では、その実現に向け、冷却面に凹凸型微細加工を施すことで霜結晶の生成を制御する手法を検討したので紹介する。

○静電紡糸によるナノファイバ生成過程の解析/金沢大学/森田時禎・瀬戸章文/トヨタ紡織㈱/﨑山　要・内田鉄也
静電紡糸法におけるナノファイバの繊維径の制御とスケールアップには、静電紡糸過程の解明が必要である。本研究では、MPS法を用いて数値計算を行うことで、静電紡糸過程の再現とナノファイバの繊維径の予測を試みた。

○筋組織を用いたバイオアクチュエーションシステム/（国研）理化学研究所/田中　陽
クリーンな機械デバイスの究極の姿の一つとして、生体組織、具体的には平滑筋細胞やその類似組織であるミミズの体壁筋を用い、その機能とマイクロ流体デバイス技術とを組み合わせた形による、従来の機械デバイスとは全く異なる新たな駆動原理の細胞デバイスについて、俯瞰・紹介する。

■解説
○高活性医薬品取扱い施設のミストシャワー/㈱竹中工務店/齊藤　智・佐々木陽平・村山昌之
高活性医薬品取扱いエリアから退出する際に、スーツに微量に付着した薬塵が脱衣時に再飛散して作業者が暴露することのないように、ミストシャワーを浴びる対策が取られることがあるが、その効果を定量的に評価した事例は少ない。そこで、模擬粉体を用いてミストシャワーの再飛散防止効果の評価を行った。

○ウィズコロナ時代に求められる食品衛生管理/（公社）大阪食品衛生協会/大西景子
新型コロナウイルス感染症の拡大により、社会や環境にさまざまな変化が起こった。食品関連事業者は、事業の継続のため通販や出前等、業態や販路の変更を行っている。本稿では、そこに発生する問題と解決案について紹介する。

○食品取扱施設に漂う微生物の制御について/（特非）HACCP実践研究会/宮地洋二郎
食品取扱施設内外の空気質環境は食品の安全・安心を阻害する有害微生物が数多く存在している。それらの物質の制御にはエアーフィルタと次亜塩素酸水溶液の空間噴霧が有効である。本稿では、それらの事例について紹介する。

○給水・給湯設備におけるレジオネラ汚染実態と対策/（特非）入浴施設衛生管理推進協議会/木村博美・福原千佳子
給水・給湯のレジオネラ属菌汚染リスクを検討し、事例を交えて具体的対策を紹介する。給湯・シャワーヘッドの衛生管理の注意点について紹介する。

○B5G/6G時代における宇宙通信の将来像/（国研）情報通信研究機構/豊嶋守生
B5Gや6Gの時代には、衛星通信システムを包含して通信ネットワークをグローバルに拡張する非地上系ネットワークと呼ばれるNTNとの通信の高度化が重要になる。本稿では、その超拡張性において鍵を握る光空間・光衛星通信技術について紹介し、超スマート社会におけるNTNとのネットワーク技術の将来像を述べる。

○Si-IGBTの技術動向と新世代IGBTの開発/東京大学/更屋拓哉・平本俊郎
Si-IGBT開発の歴史や技術動向を、最近の研究動向も含めて紹介する。さらに、従来技術の延長ではない「新世代IGBT」を実現するための手法として、スケーリングIGBTの基本コンセプトと両面ゲートIGBTについて紹介する。

○機械学習による半導体製造装置のイノベーション/東京エレクトロン㈱/川人大希・守屋　剛
近年の半導体デバイス製造には、ナノメートルオーダーの加工精度が求められる。半導体製造装置における機械学習を用いた回帰アルゴリズムを用いた新規材料や製造プロセスの探索は、今後のプロセス開発に期待される技術である。

○近赤外光と偏光による食品の異物検知とその可視化/徳島大学/山口堅三・大津朋也・獅々堀正幹/阿南工業高等専門学校/釜野　勝
偏光の概念を導入し、近赤外光と偏光による食品中の異物検知として、近赤外の発光波長を有する発光ダイオードと、この光を制御が可能な偏光子を用いた検査技術を開発したので紹介する。また、画像処理による本技術で検知した異物可視化の方法を解説する。

○酸化物半導体のコロイド科学が切りひらく光・電子デバイス/九州工業大学/横野照尚・中戸晃之・村上直也
酸化物半導体ナノロッドによる高機能光触媒の開発、ナノシートによる集積構造制御と光触媒応用、さらには光音響分光を用いた半導体微粒子光触媒のその場観察による反応機構解析に関する著者らの研究を紹介する。

○ガス分析からアプローチする臭気成分の解析/㈱東レリサーチセンター/竹本紀之・大橋晃子
空気清浄機のフィルター（脱臭・集塵）に捕集された臭気成分について、従来のにおい嗅ぎ併用型GC/MS法ではなく、データ解析ソフトを用いたGC/MS法で定性分析を試みた結果を紹介する。

■製品紹介
○真空成形可能な高性能帯電防止プレート/積水化学工業㈱/南出実穂
従来の帯電防止プレートでは、延伸による帯電防止性能・透明性の悪化が生じ、大きな変形を伴う真空成形へは対応不可であった。当社は延伸に伴う性能低下メカニズムを解明し、真空成形工後も優れた帯電防止性能・透明性を維持できる「エスロンサーモフォームDCプレート」を新たに開発した。

○帯電防止装置/野村マイクロ・サイエンス㈱/自在丸隆行
同社は、1970年代後半より炭酸水による帯電防止装置を製品化している。本稿では、機能水の一つである炭酸水について紹介したが、ほかにもオゾンガスを溶解させたオゾン水や水素ガスを溶解させた水素水があり、それらは超純水にはない洗浄効果がある。機能水は薬品使用量が極めて少なく、使用後の廃水処理設備への負荷を劇的に削減でき環境問題への対応にも繋がるので、半導体製造の微細化に伴い増加する洗浄工程のさまざまな場面での採用が期待される。

○先端半導体製造用中負荷プロセス向けドライ真空ポンプ/㈱荏原製作所/関口信一・伊東一磨
半導体製造における中負荷プロセス向けに、ドライ真空ポンプEV-X型を2021年11月に上市した。主な特長は、広範囲なプロセス適用性と省フットプリント・省エネルギー性能である。本稿では、各仕様や特長の詳細を紹介する。