■特集：半導体・液晶のクリーン化を推進する分析技術
○クリーン化と分析技術／分析工房／藪本周邦

　LSIの製造時におけるクリーン化の進展にともなって材料分析技術も感度を向上させ続けてきた。ここではシリコンウェーハ上の金属汚染や有機物を物理的化学的に分析する技術の現状を述べ、あわせて適用上の限界や留意点について紹介する。


○ITRSの要求値と開発現場の感覚／シャープ／粟屋信義

　最近20年のSi-LSIプロセスの歴史の中で、シリサイド、銅配線、高誘電率ゲート絶縁膜等、新材料の導入は、デバイスの微細化や性能向上を実現する上で不可欠な技術革新と位置づけられている。本稿では、金属汚染を嫌うMOS製造ラインに新材料を導入してきた現場の研究開発者の視点からみたITRASの要求値の意味することを論じ、今後の技術動向を展望する。


○次世代の新材料系メタルのデバイスへの影響とCu配線等への化学汚染の影響／NECエレクトロニクス／白水好美

　新材料として使用される各種メタルのクロスコンタミネーションの懸念が出てきている・クリーンルーム環境、FOUP内環境、装置内環境からの化学汚染の実態と影響に関して注目されている。本稿では新材料系メタルのデバイスへの影響と化学汚染のCu配線等への影響について記述する。


○極微量領域におけるウエーハ上金属汚染の評価技術／東京エレクトロン／土橋和也・斉藤美佐子

　本報告では5E9atoms/cm2レベルに対応するウエーハ上金属汚染の評価技術として、一般的に使用されている溶液化前処理＋ICP-MS法について、溶液化前処理によるコンタミネーション影響を明確にすることで、高感度かつ再現性よく安定した分析手法を立ち上げたので紹介する。


○有機ELパネル開発における分析技術／富士電機アドバンストテクノロジー／瀧川亜樹

　多層薄膜デバイスのひとつである、有機ELパネルの発光不良部の分析は、発光不良種類に応じて微視解析・表面分析・分光分析など種々の手法を柔軟に適用することが必要である。ここでは発光不良とこれらの手法適用について説明する。


○ディスプレイ材料における微小異物の分析方法／東レリサーチセンター／青木靖仁・村木直樹

　ディスプレイ材料で観測される異物は、表示材料という特性上、小さなものであっても製品の品位を著しく低下させる重大な欠点となりうる。異物の混入防止や原因究明のためには、発生異物の位置確認や形態観察、どの工程・部材由来かという組成分析が非常に重要である。微小部の分析手法には様々なものがあり、それぞれの目的に応じて使い分ける必要性がある。微小異物の有効な分析手法について、その事例を含めて紹介する。


○二次イオン質量分析法（SIMS）における表面近傍における深さ校正技術／NTTアドバンステクノロジ／高野明雄

　二次イオン質量分析法（SIMS）は、半導体中の不純物深さ方向分析技術として不可欠な手法であるが、この深さ方向分析に対して年々浅い領域での正確な評価が望まれている。ここでは、SIMS深さ方向分析における表面近傍での深さの校正法について概説する。


○ナノメートルスケールにおける機械的物性評価手法／オミクロン ナノテクノロジー ジャパン／大川登志郎

　ナノメートルスケールにおける機械的物性評価を行う場合、従来の光学顕微鏡を用いて圧痕・スクラッチ痕の観察を行う測定手法では限界が生じている。本稿では、現在注目されている光学顕微鏡を用いずに機械的物性評価を行う、ナノインデンテーション法、ナノスクラッチ法・走査型摩耗試験を紹介する。


○テラヘルツ波の産業応用／先端赤外／西澤誠治

　テラヘルツ波は、基礎研究応用のみならず、既に産業応用への試みが勢力的にはじめられている。世界に先駆けて実用化開発されたテラヘルツ・パルス分光（THz-TDS）汎用市販装置について、その原理的優位性・基礎分光測光性能を集約しその産業応用への展開を述べる。


○ガス純度1pptへの挑戦／日本エイピーアイ／溝上員章

　ガス純度PPT（10－12）の測定が可能な大気圧イオン化質量分析装置（APIMS）を用いたウルトラクリーンテクノロジー評価技術や半導体・液晶製造装置等のユースポイントまでPPTレベルを実現可能なクリーン化技術（ハイパー処理）、ナノテク・素粒子計測等の最先端分野で行われている最新技術に関して紹介する。


○先進の表面分析機器／アルバック・ファイ／眞田則明・金鍾得・飯田真一

　表面微小部の欠陥・パーティクルの化学組成を調べる手法であるオージェ電子分光装置（AES）、表面極浅領域の微量の無機・有機汚染を調べる手法である飛行時間型二次イオン質量分析装置（TOF-SIMS）の最新装置と分析事例を紹介する。


○薬品・水の極微量分析／多摩化学工業／赤羽勤子

　半導体産業における技術・材料の開発及び評価にとって極微量金属不純物分析は非常に重要である。ppbレベル以下の分析値の精度と信頼性の確保に必要不可欠である超純水・試薬の品質と役割について述べる。


○アンモニア中の高感度不純物分析／大陽日酸／小野宏之・竹口東士夫

　GaN薄膜半導体製造の原料ガスであるNH3ガス中の高感度不純物分析法を検討した。H2O不純物を10ppb以下、Si不純物を0.1wt.ppb以下で測定する方法を確立した。特にH2O分析はOn-site分析法を確立し、原料ガス中の不純物濃度とデバイス特性の関係性について評価した。



■コーヒーブレイク
○450㎜大口径ウエーハへの移行に関する誤解／服部 毅

■解説
○バイオクリーンルーム室内環境の迅速・高感度微生物計測技術／日立製作所／野田英之・岡野定雅弘／日立プラントテクノロジー／宮下野恵・後藤田龍介・小沢 理

　本稿では、ATP生物発光法を利用した迅速・高感度浮遊菌計測システムについて解説する。無培養で菌体を数個レベルから検出でき、1時間で微生物汚染度の結果を得ることが可能となった。培養法に代わるBCR向け微生物汚染モニタとしての利用が期待できる。



■製品紹介
○クリーンルーム用低アウトガス防振ゴム／テクノ月星／川地恵子・児玉洋典／スターコックス／利行眞一

■連載：半導体製造装置の新たなクリーン化の課題 1
○熱によるパーティクル飛散と輸送／東京エレクトロン／守屋 剛・松井英章

■基礎講座：分かりやすいクリーンルームの管理手法 10（最終回）
○これだけは身に付けたいクリーン化技術の基礎 おさえておきたいクリーン化技術の注目点と考え方（その10）／三菱電機／園田信夫

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クリーンテクノロジー　2008年12月号　PDF版価格: 2,000円（税込）
品番: 200812pdfl
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10セット
■特集1：最先端半導体製造におけるクリーンテクノロジー
○最先端半導体製造における金属汚染とその対策／東芝セミコンダクター社／嶋崎綾子
○最先端半導体製造におけるパーティクル対策／東京エレクトロン／守屋 剛
○最先端半導体における分子状汚染とその対策／ソニー／嵯峨幸一郎
○ケミカル汚染モニタ／スペクトリス／加藤 洋／Particle Measuring Systems Inc.／Steven Rowley
○超高感度アンモニアモニタ／ソナック／山崎和子・余 万吉

■コーヒーブレイク
○写真でみるセミコン・ウェスト2008／服部 毅

■特集2：半導体標準化に貢献するSEMIスタンダード
○コンセンサス標準戦略／一橋大学／江藤 学
○300mmシリコンウェーハ標準化のインパクト／東洋大学／富 純一／立命館大学／立本博文
○SEMIスタンダードの役割と可能性／SEMIジャパン／奥田健一郎
○SEMIスタンダードの変革と業界の変遷／TDK／岡部 勉
○450mmウェーハ用SEMI規格開発動向／アクティオン／小松省二
○SEMIスタンダード利用のSiウエーハメーカからのメリット／コバレントマテリアル／泉妻宏治
○半導体製造装置への静電気放電(ESD)と静電吸着(ESA)による影響評価と制御のためのSEMIガイドE78／原田産業／村上俊郎
○新ガイドラインSEMI S26-0308／大日本スクリーン製造／西口直克
○SEMI S2 半導体製造装置の環境、健康、および安全に関するガイドライン／キヤノンアネルバ／真白すぴか

■解説
○色素増感太陽電池の実用化に向けて／東京理科大学／荒川裕則
○自動車の塗装工程、乾燥炉中の粒子測定／ソナック／水野真人・池田卓司

■製品紹介
○顧客ニーズに合ったTOC連続測定シリーズ／ティ・アンド・シー・テクニカル

■基礎講座：分かりやすいクリーンルームの管理手法 9
○これだけは身に付けたい作業員管理の基礎知識／三菱電機／園田信夫