＜７月号目次＞
■特集：クリーンテクノロジーの変遷と展望
【電子分野】
○半導体製造におけるクリーン化技術の変遷と展望 ㈱ルネサステクノロジ　林出吉生
○半導体クリーンルームの変遷と展望 第一施設工業㈱　技術顧問　橋本孝禧
○クリーンルーム用部材のケミカル汚染対策の変遷と展望 清水建設㈱　田中 勲・梶間智明
○液晶製造におけるクリーン化技術の変遷と展望 日本アイ・ビー・エム㈱　北原洋明
○ハードディスク製造におけるｺﾝﾀﾐﾈｰｼｮﾝｺﾝﾄﾛｰﾙの変遷と展望 福井工業大学　浅田敏勝
【製薬・医療・食品分野】
○製剤工場の清浄化技術の変遷と展望 本誌編集委員　朝倉康之
○医薬品ＧＭＰの変遷と展望 ＪＰＣ研究所　中村宥治
○ＨＡＣＣＰ技術の変遷と展望 　㈱ＧＳＩクレオス　学術顧問　倉田 浩
○バイオクリーン手術室の発展と展望　　　 東京医科歯科大学　古橋正吉

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■解　説
○分子シュミレーションによるケミカル汚染物質の吸着挙動解析 新日本空調㈱ 神戸正純　東北大学 宮本　明
○クリーンルーム内高濃度有機ガスの温室浄化 清水建設㈱ 岡田　博
○ＩＣＰ－ＭＳによる半導体材料中の超微量金属元素の分析 ㈱三井化学分析センター　米重嘉寛
○光散乱式粒子計数器の校正方法とそれに関わる諸問題 (財)日本品質保証機構　片桐拓朗
○半導体工場の振動対策と条件 富士通㈱　岩坪竜二
○65nmデバイスのエッジクリーニング効果 セミツール㈱　Dana.R.Scranton

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■「第13回ファインテック・ジャパン」開催記念 製品ガイド

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■製品紹介
○省エネ型ガス除去空調機「G-GET」 高砂熱学工業㈱　永岡真紀
○多段式枚葉スピン洗浄システム「ASTRAIA」 エム・エフエスアイ㈱　小林徳弘

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■コーヒーブレイク
○ベルギーにて ソニー㈱　服部　毅