＜８月号目次＞
■ 特集1：地球温暖化防止に貢献するＰＦＣ対策
○ 温室効果ガスの排出抑制対策の現状について JEITA半導体環境安全委員会 大越隆之
○ GWPの問題点と新評価指標 産業技術総合研究所 関屋章
○ 最近のＰＦＣ排出量測定について 大塚電子 新田哲士
○ CVDチャンバクリーニング排ガス処理への大気圧プラズマ除害装置の応用 エアー・リキード・ラボラトリーズ 佐藤美鈴
リーチュン・ハオ
野澤成偵
日本エア・リキード 田畑真大
リコー 山本秀巳
○ ＰＦＣ除害後の排水中のフッ素処理技術 松下環境空調エンジニアリング 立木悦二
○ 300mm工場のPFC除害に関して カンケンテクノ 別府達郎

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■ コーヒーブレイク
○ 目で見る半導体クリーンテクノロジーの変遷１ 本誌編集委員 服部毅

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■ 特集2：研究施設の安全性と変風量型ドラフトチャンバの紹介
○ 研究・実験室施設の安全について shoow Q Corporation 朝倉康之
○ 実験・研究施設のドラフトチャンバーの紹介 理化学研究所 吉識肇
○ 研究施設の可変風量制御の考え方 ダルトン 春原伸次
○ 大型卓上フード付き実験台 島津理化器械 齋藤督
○ ＶＡＶヒュームフードシステム オリエンタル技研工業 佐藤謙志

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■ 解説
○ 300mm半導体工場と搬送ニーズ・設備技術の動向 ダイフク 堀田卓宏
○ 実温度条件下における材料から放散される準揮発性有機化合物測定法の開発と応用 ジーエルサイエンス 星野邦広

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■ 連載:クリーンルームの汚染対策
○ クリーンルームの総合的分子汚染対策３ 大気社 村田耕一

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■ シリーズ
○ 厨房排気の臭気測定における注意点 大同工業大学 光田恵

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■ 製品紹介
○ 「クリーンイーラ」クリーンルーム消耗品シリーズ 中外商工 川上正彦
○ 半導体製造工程における洗浄技術 エム・エフエスアイ 小林徳弘
○ バイオテクニカル　クリーンルーム対応滅菌 茨城シーアイシー研究所 伊村智安