クリーンテクノロジー 発売日・バックナンバー

■特集：半導体洗浄用薬液の最新動向
○半導体洗浄用薬液の最新動向 関東化学㈱ 森　清人
○半導体工場で使用される化学薬品の再資源化 ソニー㈱ 稲垣靖史
○わが社の洗浄用薬液 EKCテクノロジー㈱ 鈴木智子
○半導体製造用機能性薬品 関東化学㈱ 鈴木陽介
○半導体洗浄新時代　同一系統の廃液処理でコスト大幅削減 岸本産業㈱ 溝口哲郎
○最先端BEOL用剥離液 Air Products and Chemicals，Inc. Mike Legenza
○三菱ガス化学の半導体プロセス向け薬液 三菱ガス化学㈱ 安部幸次郎

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■コーヒーブレイク
○米国オーランドにて ソニー㈱ 服部　毅

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■特集：ハードディスク装置の製造技術とクリーン化
○ハードディスク製造工程における清浄度管理 福井工業大学 浅田敏勝
○パーティクル/スクラッチ検出の進歩 カンデラ・インスツルメンツ ｽﾃｨｰﾌﾞﾝｽW・ﾐｰｸｽ
○低汚染性の電気抵抗率制御樹脂 呉羽化学工業㈱ 西畑直光
○ハイクリーンコンベア ワイエイシイ㈱ 米山憲一

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■解説
○病院内浮遊微生物粒子濃度の実態 国立保健医療科学院 柳　　宇

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■製品紹介
○精密部品用超小型洗浄機「DTFラボ・クリーナー」 ㈱三協精機製作所 佐藤史朗
○銅コーティング製　抗菌ファンコイルユニット 新日本空調㈱ 久保一朗
○空気清浄化装置「ハニカムウォッシャー」 ニチアス㈱ 田中伸明

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■製品ガイド
○製品ガイド　「静電気・帯電防止機器・用品」 編集部
○クリーンテクノロジー誌半導体関連記事総索引① 編集部

■特集：半導体多層配線工程の洗浄・クリーン化技術
○Cu/Low-ｋ洗浄技術 NECエレクトロニクス㈱ 青木秀充
○CMP後洗浄技術と装置材料 ㈱東芝　ｾﾐｺﾝﾀﾞｸﾀｰ社 竪山佳邦
○Cu/Low-ｋプロセス対応薬液洗浄技術 EKCテクノロジー㈱ 鈴木智子
○90，65nm世代の多層配線プロセス ㈱東芝　セミコンダクター社 宮島秀史
○ウェーハ裏面Cu汚染の半導体素子に及ぼす影響とその対策 ㈱日立製作所 朴澤一幸
○わが社の配線工程用洗浄技術・装置 大日本スクリーン製造㈱ 今井正芳
○わが社の配線工程用洗浄技術・装置 日本エスイーゼット㈱ 松井　淳

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■コーヒーブレイク
○セミコン・ウェスト2003 ソニー㈱ 服部万里子
服部　毅

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■特集：300mmウェーハの搬送技術とクリーン化
○300mm半導体工場のFA化と当社の自動搬送システム ㈱ダイフク 堀田卓宏
○300mm半導体搬送システム(AMHS）の現状 アシストシンコー㈱ 大西正紀
○半導体300mm工場の自動搬送システム 村田機械㈱ 山本　眞
○ウェーハ搬送技術の歴史と現状 ローツェ㈱ 崎谷文雄
○FOUPを利用した300mmプロセスのクリーン化 信越ポリマー㈱ 古川幹雄
○次世代自動化システムの展望 ブルックスオートメーションジャパン㈱ 青木利一郎
○不活性ガスによるパージ－システム性能の本質 Brooks Automation, Inc. Michael Bufano
Entegris, Inc. Kirk Mikkelsen
Brooks Automation, Inc. Stefan Walber
インテグリス ジャパン㈱ 芥河千恵子
○大日商事の300mmウェーハ用「Super FUOP」とその関連機器 大日商事㈱ 大山幸次
○FOUPロードポート「TAS300」 TDK㈱ 宮嶋俊彦
○FOUP洗浄装置 ㈱テクノビジョン 高比良葦人　　
○AMHS対応全自動FOUP洗浄システム ﾋｭｰｸﾞﾙｴﾚｸﾄﾛﾆｸｽ㈱ 菅原　明
○300mmウェーハ搬送クリーンロボット「XU－RC350D」 ㈱安川電機 古谷和久
○「セミコンジャパン2003」の見どころ SEMIジャパン 立間滋子

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■製品紹介
○Elix-UVによる小型超純水システム 日本ミリポア㈱ 金沢旬宣
世間瀬覚

＜７月号目次＞
■特集：クリーンテクノロジーの変遷と展望
【電子分野】
○半導体製造におけるクリーン化技術の変遷と展望 ㈱ルネサステクノロジ　林出吉生
○半導体クリーンルームの変遷と展望 第一施設工業㈱　技術顧問　橋本孝禧
○クリーンルーム用部材のケミカル汚染対策の変遷と展望 清水建設㈱　田中 勲・梶間智明
○液晶製造におけるクリーン化技術の変遷と展望 日本アイ・ビー・エム㈱　北原洋明
○ハードディスク製造におけるｺﾝﾀﾐﾈｰｼｮﾝｺﾝﾄﾛｰﾙの変遷と展望 福井工業大学　浅田敏勝
【製薬・医療・食品分野】
○製剤工場の清浄化技術の変遷と展望 本誌編集委員　朝倉康之
○医薬品ＧＭＰの変遷と展望 ＪＰＣ研究所　中村宥治
○ＨＡＣＣＰ技術の変遷と展望 　㈱ＧＳＩクレオス　学術顧問　倉田 浩
○バイオクリーン手術室の発展と展望　　　 東京医科歯科大学　古橋正吉

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■解　説
○分子シュミレーションによるケミカル汚染物質の吸着挙動解析 新日本空調㈱ 神戸正純　東北大学 宮本　明
○クリーンルーム内高濃度有機ガスの温室浄化 清水建設㈱ 岡田　博
○ＩＣＰ－ＭＳによる半導体材料中の超微量金属元素の分析 ㈱三井化学分析センター　米重嘉寛
○光散乱式粒子計数器の校正方法とそれに関わる諸問題 (財)日本品質保証機構　片桐拓朗
○半導体工場の振動対策と条件 富士通㈱　岩坪竜二
○65nmデバイスのエッジクリーニング効果 セミツール㈱　Dana.R.Scranton

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■「第13回ファインテック・ジャパン」開催記念 製品ガイド

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■製品紹介
○省エネ型ガス除去空調機「G-GET」 高砂熱学工業㈱　永岡真紀
○多段式枚葉スピン洗浄システム「ASTRAIA」 エム・エフエスアイ㈱　小林徳弘

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■コーヒーブレイク
○ベルギーにて ソニー㈱　服部　毅