クリーンテクノロジー 発売日・バックナンバー

■ 特集:フラットパネル製造ラインの汚染対策
○ ＴＦＴ液晶製造ラインにおける汚染対策 日本アイ・ビー・エム 北原洋明
○ 有機EL用クリーンルームの有機汚染対策と空調設備 日立プラント建設 平田順太
○ 有機ELディスプレイにおける汚染対策の最新の動向 有機エレクトロニクス研究所
鈴木譲治・米田清
○ 液晶パネル表示異常の分析技術 東レリサーチセンター 村木直樹・林智之・萬尚樹・田口嘉彦
○ ＦＰＤ用洗浄技術 栗田工業 井田純一
○ クリーンルーム内の汚染計測について 堀場製作所 光成京子
○ クリーンルームにおいて（ＦＰD・液晶）の洗浄技術 野村マイクロ・サイエンス 自在丸隆行
○ 排水・回収水系における水質管理 ティ・アンド・シー・テクニカル 福田愛二

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■ 小特集:有機ELの最新の動向 2

○ 有機ＥＬ製造装置デバイスの基礎と製造装置 アルバック 根岸敏夫
○ 有機ＥＬ計測評価装置 オプテル 住田哲夫・宮崎智

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■ コーヒーブレイク
○ 半導体ウエーハプロセス 本誌編集委員 服部毅

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■ 解説
○ 微生物を用いたBTEX汚染空気の浄化技術 大成建設 瀧寛則・高畑陽・有山元茂

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■ 連載:クリーンルーム設計・施工基礎講座
○ 第５章　クリーンルームの維持管理 テクノ菱和 田村一

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■ 連載:ＦＰＤの基礎
○ 第２回　表示デバイスとしての特性 日本アイ・ビー・エム 北原洋明

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■ 連載:クリーンルームの総合的分子汚染対策
○ クリーンルームの分子汚染対策の変遷 大氣社 村田耕一

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■ 連載:
○ クリーンルームの地震対応② 高砂熱学工業 村上三千博

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■ 随筆・見聞録

○ ＩＳＣＣ参加記 テクノ菱和 田村一
○ 第１５回フラットパネルディスプレイ研究開発・製造技術展の見どころ 　 　

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■ 製品紹介
○ リソ工程の自動化 ﾌﾞﾙｯｸｽ　ｵｰﾄﾒｰｼｮﾝ　ｼﾞｬﾊﾟﾝ 柴田哲夫
○ 極低振動ターボ分子ポンプ 大阪真空機器製作所 大林哲郎・山田昭文

■ 特集:WEEE・RoHSその対応と対策②
○ 有害物質分析技術とそのサービス
ダイヤ分析センター
三菱化学科学技術センター
清水忠雄
重田喜太郎
○ 有害物質分析技術とそのサービス ＮＴＴｱﾄﾞﾊﾞﾝｽﾃｸﾉﾛｼﾞ

分析ｾﾝﾀ
岩﨑亨
篠塚功
黒澤勝
○ WEEE・RoHS対応の蛍光Ｘ線分析装置の紹介 堀場製作所　 坂東篤
○ RoHSに対応した蛍光Ｘ線分析装置 日本電子
安東和人
小野寺浩
○ 半導体試験装置における鉛フリー実装技術 アドバンテスト 須賀昇
平野八郎
内藤憲成
秀野精二

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■ 特集:クリーンルームにおける停電、瞬時電圧低下現象対策④
○ 電解コンデンサ形瞬時電圧低下対策装置 日新電機 池田幸市
○ 電圧障害対策機器「低圧回路用アレスタ」 富士電機テクニカ 新井慶之輔
○ 雷害対策に関連する規格について 富士電機テクニカ 新井慶之輔

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■ 小特集:有機ELの最新の動向①
○ 有機ELディスプレイの最新の動向 有機エレクトロニクス研究所 米田清
○ 有機ELディスプレイの製造装置 トッキ 松本栄一

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■ コーヒーブレイク
○ ウエーハー大口径（４５０mm）化への検討始まる 本誌編集委員 服部毅

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■ 解説
○ クリーンルーム循環空気のケミカル汚染対策 沖環境テクノロジー 松木幹雄
中村淳
○ 美術館・クリーンルーム対応
『超高感度型アンモニア簡易測定キット』の開発 鹿島建設 武廣絵里子
涌井健
○ 一般空調用エアフィルタによる微生物粒子の除去 国立保健医療科学院 柳宇
池田耕一

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■ 連載:クリーンルーム設計・施工基礎講座
○ 第４章　クリーンルームの性能評価③ 新日本空調 水谷旬

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■ 連載
○ ＴＦＴ－ＬＣＤの基礎①　構造と動作 日本アイ・ビー・エム 北原洋明

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■ 連載
○ クリーンルームの地震対応① 高砂熱学工業 村上三千博

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■ シリーズ
○ におい・かおり環境の現状と学会の役割について におい・かおり環境協会 重岡久美子

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■ 製品紹介
○ 可視光応答型光触媒を用いた消菌クリーンシステム 平山設備 入内嶋一憲

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■ 製品ガイド
○ 「パーティクルカウンター」 編集部

＜７月号目次＞
■特集：ＦＰＤ製造における静電気の利用と対策
○液晶用ガラス基板のイオナイザーによる静電気対策 テクノ菱和 鈴木政典
○静電力を利用した薄板ガラスのハンドリンング技術 東京大学 樋口俊郎
○液晶製造工程における静電気対策と管理手法 ブイ・テクノロジー 山本　稔
○ＦＰＤ製造施設における静電気対策 大成建設 島村耕作
○ＣＶＤ装置内での異常放電をチャンバー外から検知する方法 ファブソリューション 鈴木功一
○パーティクルの可視化技術とこれを用いた異常放電時の観測 NECエレクトロニクス 伊藤奈津子
○液晶パネル用ガラスの帯電特性 三菱電機 北林宏佳
○イオナイザーの現状と動向 原田産業 鋒　治幸　

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■特集：製品紹介
○スーパークリーンイオナイザー 高砂熱学工業 八木祥行
○透明制電持続性プレート「バイヨン」 呉羽化学工業 阿部貴之
○大風量イオン送風機 ﾋｭｰｸﾞﾙｴﾚｸﾄﾛﾆｸｽ 下村浩一
○除塵除電装置 オーディオテクニカ 松澤忠芳

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■クリーンルーム設計・施工基礎講座：クリーンルーム設計の予備知識②　
○クリーンルームに使用される構成部材と関連設備 高砂熱学工業 菊地　栄

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■解説
○木質材料におけるホルムアルデヒド放散と真菌成長の関係 国立保健医療科学院 池田耕一　
○軟Ｘ線で発生させたイオンによるエアロゾル粒子の荷電 広島大学 島田　学
○非平衡低温プラズマによる脱臭技術 大阪府立大学 大久保雅章
山本俊昭

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■連載：第１章　クリーンルーム設計の予備知識②
○クリーンルームに使用される校正部材と関連設備 高砂熱学工業 西村浩一

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■コーヒーブレイク
○半導体経営戦略セミナー「ISSジャパン2004」① ソニー 服部 毅

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■製品紹介
○オゾン殺菌脱臭装置「eZ-10」「JS-3000」 石川島播磨重工業 釜瀬幸広
○スターミルでのナノ粒子製造法 アシザワ・ファインテック 石井利博
○組立式クリーンブース「美優風」 朝日工業社 小熊一敏

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■製品ガイド：「ファインテックジャパン」開催記念製品ガイド
○クリーンテクノロジー誌半導体関連記事総索引④

■特集：半導体洗浄用薬液の最新動向
○半導体洗浄用薬液の最新動向 関東化学㈱ 森　清人
○半導体工場で使用される化学薬品の再資源化 ソニー㈱ 稲垣靖史
○わが社の洗浄用薬液 EKCテクノロジー㈱ 鈴木智子
○半導体製造用機能性薬品 関東化学㈱ 鈴木陽介
○半導体洗浄新時代　同一系統の廃液処理でコスト大幅削減 岸本産業㈱ 溝口哲郎
○最先端BEOL用剥離液 Air Products and Chemicals，Inc. Mike Legenza
○三菱ガス化学の半導体プロセス向け薬液 三菱ガス化学㈱ 安部幸次郎

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■コーヒーブレイク
○米国オーランドにて ソニー㈱ 服部　毅

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■特集：ハードディスク装置の製造技術とクリーン化
○ハードディスク製造工程における清浄度管理 福井工業大学 浅田敏勝
○パーティクル/スクラッチ検出の進歩 カンデラ・インスツルメンツ ｽﾃｨｰﾌﾞﾝｽW・ﾐｰｸｽ
○低汚染性の電気抵抗率制御樹脂 呉羽化学工業㈱ 西畑直光
○ハイクリーンコンベア ワイエイシイ㈱ 米山憲一

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■解説
○病院内浮遊微生物粒子濃度の実態 国立保健医療科学院 柳　　宇

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■製品紹介
○精密部品用超小型洗浄機「DTFラボ・クリーナー」 ㈱三協精機製作所 佐藤史朗
○銅コーティング製　抗菌ファンコイルユニット 新日本空調㈱ 久保一朗
○空気清浄化装置「ハニカムウォッシャー」 ニチアス㈱ 田中伸明

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■製品ガイド
○製品ガイド　「静電気・帯電防止機器・用品」 編集部
○クリーンテクノロジー誌半導体関連記事総索引① 編集部

■特集：半導体多層配線工程の洗浄・クリーン化技術
○Cu/Low-ｋ洗浄技術 NECエレクトロニクス㈱ 青木秀充
○CMP後洗浄技術と装置材料 ㈱東芝　ｾﾐｺﾝﾀﾞｸﾀｰ社 竪山佳邦
○Cu/Low-ｋプロセス対応薬液洗浄技術 EKCテクノロジー㈱ 鈴木智子
○90，65nm世代の多層配線プロセス ㈱東芝　セミコンダクター社 宮島秀史
○ウェーハ裏面Cu汚染の半導体素子に及ぼす影響とその対策 ㈱日立製作所 朴澤一幸
○わが社の配線工程用洗浄技術・装置 大日本スクリーン製造㈱ 今井正芳
○わが社の配線工程用洗浄技術・装置 日本エスイーゼット㈱ 松井　淳

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■コーヒーブレイク
○セミコン・ウェスト2003 ソニー㈱ 服部万里子
服部　毅

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■特集：300mmウェーハの搬送技術とクリーン化
○300mm半導体工場のFA化と当社の自動搬送システム ㈱ダイフク 堀田卓宏
○300mm半導体搬送システム(AMHS）の現状 アシストシンコー㈱ 大西正紀
○半導体300mm工場の自動搬送システム 村田機械㈱ 山本　眞
○ウェーハ搬送技術の歴史と現状 ローツェ㈱ 崎谷文雄
○FOUPを利用した300mmプロセスのクリーン化 信越ポリマー㈱ 古川幹雄
○次世代自動化システムの展望 ブルックスオートメーションジャパン㈱ 青木利一郎
○不活性ガスによるパージ－システム性能の本質 Brooks Automation, Inc. Michael Bufano
Entegris, Inc. Kirk Mikkelsen
Brooks Automation, Inc. Stefan Walber
インテグリス ジャパン㈱ 芥河千恵子
○大日商事の300mmウェーハ用「Super FUOP」とその関連機器 大日商事㈱ 大山幸次
○FOUPロードポート「TAS300」 TDK㈱ 宮嶋俊彦
○FOUP洗浄装置 ㈱テクノビジョン 高比良葦人　　
○AMHS対応全自動FOUP洗浄システム ﾋｭｰｸﾞﾙｴﾚｸﾄﾛﾆｸｽ㈱ 菅原　明
○300mmウェーハ搬送クリーンロボット「XU－RC350D」 ㈱安川電機 古谷和久
○「セミコンジャパン2003」の見どころ SEMIジャパン 立間滋子

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■製品紹介
○Elix-UVによる小型超純水システム 日本ミリポア㈱ 金沢旬宣
世間瀬覚

＜７月号目次＞
■特集：クリーンテクノロジーの変遷と展望
【電子分野】
○半導体製造におけるクリーン化技術の変遷と展望 ㈱ルネサステクノロジ　林出吉生
○半導体クリーンルームの変遷と展望 第一施設工業㈱　技術顧問　橋本孝禧
○クリーンルーム用部材のケミカル汚染対策の変遷と展望 清水建設㈱　田中 勲・梶間智明
○液晶製造におけるクリーン化技術の変遷と展望 日本アイ・ビー・エム㈱　北原洋明
○ハードディスク製造におけるｺﾝﾀﾐﾈｰｼｮﾝｺﾝﾄﾛｰﾙの変遷と展望 福井工業大学　浅田敏勝
【製薬・医療・食品分野】
○製剤工場の清浄化技術の変遷と展望 本誌編集委員　朝倉康之
○医薬品ＧＭＰの変遷と展望 ＪＰＣ研究所　中村宥治
○ＨＡＣＣＰ技術の変遷と展望 　㈱ＧＳＩクレオス　学術顧問　倉田 浩
○バイオクリーン手術室の発展と展望　　　 東京医科歯科大学　古橋正吉

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■解　説
○分子シュミレーションによるケミカル汚染物質の吸着挙動解析 新日本空調㈱ 神戸正純　東北大学 宮本　明
○クリーンルーム内高濃度有機ガスの温室浄化 清水建設㈱ 岡田　博
○ＩＣＰ－ＭＳによる半導体材料中の超微量金属元素の分析 ㈱三井化学分析センター　米重嘉寛
○光散乱式粒子計数器の校正方法とそれに関わる諸問題 (財)日本品質保証機構　片桐拓朗
○半導体工場の振動対策と条件 富士通㈱　岩坪竜二
○65nmデバイスのエッジクリーニング効果 セミツール㈱　Dana.R.Scranton

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■「第13回ファインテック・ジャパン」開催記念 製品ガイド

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■製品紹介
○省エネ型ガス除去空調機「G-GET」 高砂熱学工業㈱　永岡真紀
○多段式枚葉スピン洗浄システム「ASTRAIA」 エム・エフエスアイ㈱　小林徳弘

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■コーヒーブレイク
○ベルギーにて ソニー㈱　服部　毅