クリーンテクノロジー 発売日・バックナンバー

■特集:半導体洗浄技術の最新動向
○半導体洗浄技術・洗浄装置の最新動向/Hattori Consulting International/服部毅
○FEOL(high-k/メタルゲート)の洗浄・エッチング・剥離技術/大日本スクリーン製造㈱/和田昌之
○次世代デバイスのバックエンド(BEOL)洗浄技術/大阪大学 大学院/青木秀充
○先端デバイス製造用洗浄技術/アプリシアテクノロジー㈱/松浦江里子
○半導体工場で使用される化学薬品の省資源化/ソニー㈱/稲垣靖史・西崎光広
○ドライ・ウェット・ハイブリド枚葉洗浄装置/Hattori Consulting International/服部毅
○低CoOウエーハ洗浄を可能にした枚葉式洗浄システム/FSI International, Inc./Dan J. Syverson/(訳)アプリシアテクノロジー㈱/三田村塁
○第11回ECS半導体洗浄シンポジウム報告/服部毅
■解説
○原子状水素を用いたレジスト除去技術/金沢工業大学/堀邊英夫
○太陽電池用部材の分析評価/㈱住化分析センター/行嶋史郎・大図佳子・高萩寿
■シリーズ:研究室紹介
○職業能力開発総合大学校 電気物性研究室/職業能力開発総合大学校/岡野一雄・岩本菜夏
■製品特集
○最適なBCR構築のための製品と技術/編集部

■特集:CO2削減に貢献する最新鋭のヒートポンプと排熱回収機器
○〔総論〕CO2削減に貢献するヒートポンプと排熱回収技術/東京電力㈱/原田光朗
○CO2熱風ヒートポンプ/㈱前川製作所/佐々木健太
○温水ヒートポンプ/三菱重工業㈱/奥田誠一
○冷温水同時取出しヒートポンプ/サイエンス㈱/桑原崇
○超高効率高温ヒートポンプチラー/㈱神戸製鋼所/住元弘明
○空気熱源ヒートポンプチラー/㈱ダイキンアプライドシステムズ/松浦恵
○最新のヒートポンプ給湯機/三菱電機㈱/阿部敏郎・大柳俊彦
○空冷ヒートポンプ式熱回収外調機/木村工機㈱/長伸和
○排ガス&排水熱回収熱交換器/MDI㈱/岩澤賢治
○蒸気配管ロスの簡易計測方法/東京電力㈱/柴田祐亮・千田仁・加藤陽一
■コーヒーブレイク
○今年の半導体産業の景気予測/服部毅
■解説
○室内空気質の知覚評価と人間の作業性へ及ぼす影響/東京都市大学/岩下剛
○半導体デバイスの静電気保護設計手法/沖エンジニアリング㈱/福田保裕・山田朋美
■シリーズ:研究室紹介
○㈱テクノ菱和技術開発研究所/㈱テクノ菱和/田村一
○吸着タイプ除塵・除菌フローリング/ニッシン・ジャパン㈱/具志堅雅夫
○クリーンルーム対応搬送台車/ミスズトレーディング㈱/吉田満
○空気・液体・圧縮エアーの一括温度管理装置/日本スピンドル製造㈱/泉憲司
■基礎講座:わかりやすいクリーンルームの運転・保守管理技術8
○クリーン化技術の公式について/福井工業大学/浅田敏勝

■特集:クリーンルームの電気設備と省エネルギー
○国内外における太陽電池の開発状況/産業技術総合研究所/松原浩司
○太陽光発電の海外事情/新エネルギー・産業技術総合開発機構/諸住 哲
○公共・産業用太陽光発電システムの最新動向/資源総合システム/大橋孝之
○太陽電池製造とクリーン化の現状/ナノフロント研究所/佐藤淳一
○ウェットエッチングによるテクスチャー形成技術/三菱電機/西本陽一郎
○太陽電池用ウェーハ洗浄薬液とウェットエッチング用薬液/和光純薬工業/林田一良
○結晶Si太陽電池用ウェット処理技術/ワイエイシイ/川田 靖・佐藤礼悟
○超音波洗浄技術の太陽電池への応用/カイジョー/岡野勝一

■コーヒーブレイク
○韓国の鉄道・温泉事情/服部 毅

■解説
○ナノ粒子の実用化動向と安全な利用/東京農工大学/神谷秀博・飯島志行
○ナノリスク対策の動向/JFEテクノリサーチ/大塚研一
○光触媒材料の評価:国際標準化最前線/産業技術総合研究所/佐野泰三・根岸信彰・竹内浩士
○超純水のTOC測定方法と精度/日本ミリポア/石井直恵
○マイクロチップを応用したガス分析システム/マイクロ化学技研/青田 新

■シリーズ:研究室紹介
○金沢大学理工学域 自然システム学類/金沢大学/大谷吉生・瀬戸章文

■製品紹介
○量産型GaN-MOCVD装置/日本パイオニクス/高橋 譲

■基礎講座:わかりやすいクリーンルームの運転・保守管理技術 7
○クリーンルーム用衣服の洗濯管理/福井工業大学/浅田敏勝

■連載:クリーン化技術とオゾンの基礎知識 1
○オゾンとは/荏原実業/岡崎 仁

■特集1:クリーンルームの電気設備と省エネルギー
○クリーンルームの電気設備と省エネルギー/日立プラントテクノロジー/田中健一
○クリーンルームにおける電気設備設計/三機工業/永山浩之
○クリーンルーム中央監視設備の重要性/三機工業/千野祐一
○クリーンルームの照明器具/三菱電機照明/神野昌幸

■コラム
○半導体リソグラフィーはどこへ行く?/服部 毅

■特集2:半導体分野の分析技術とクリーンテクノロジー 2
○低加速SEM-TES-EDSシステムによる大気粉塵及びナノ物質の分析/東京理科大学/小野有紀・中井 泉
○多機能SPMによるプロセス材料の表面分析/東京応化工業/塩野大寿
○電子顕微鏡による先端半導体デバイス評価/東レリサーチセンター/伊藤俊彦
○XVisionシリーズによるTEM試料作製/エスアイアイ・ナノテクノロジー/藤井利昭

■解説
○中性能フィルタの海塩粒子防御性能についての評価方法/清水建設/伊澤康一・長谷部弥・鈴木良延
○室圧制御ダンパーにより室圧制御されたクリーンルームにおける定常時の室圧変動に関する実験/戸田建設/村江行忠・岩村多美男/岡谷精立工業/齊藤 充
○固体アルカリを用いた半導体用PFC14の乾式分解/中部電力/竹内章浩/名古屋大学/平林大介
○嗅覚ディスプレイの研究動向/東京工業大学/中本高道

■シリーズ:研究室紹介
○大気社 研究開発センター/大気社/山本芳嗣

■製品紹介
○自律走行型無人搬送台車/日立製作所/守屋俊夫/日立プラントテクノロジー/冨岡芳治・古野英昭

■基礎講座:わかりやすいクリーンルームの運転・保守管理技術 6
○クリーンルーム用衣服の選定/福井工業大学/浅田敏勝

■特集1:半導体分野の分析技術とクリーンテクノロジー 1
○LSIの故障解析の新手法/NECエレクトロニクス/二川 清
○先端LSIプロセスにおける極表面キャラクタリゼーション/東芝/圷 晴子/エスアイアイ・ナノテクノロジー/立花繁明
○TES型マイクロカロリーメータによる分析事例/エスアイアイ・ナノテクノロジー/田中 啓一
○ナノピンセット:EUVLマスクへの応用/セイコーインスツル/梅基 毅・安武正敏/エスアイアイ・ナノテクノロジー/荒巻文朗

■特集2:先進のミニエンバイロメント技術 2
○ミニエン廻りの局所領域におけるクリーン環境制御評価/鹿島建設/塩谷正樹・武政祐一・宅間康人・松本尚史
○300mm半導体工場のミニエン容器の自動搬送/ムラテックオートメーション/山本 眞
○局所空間における粒子計測の課題/リオン/角田智良
○クリーンルーム対応クリーンコンベア/ワイエイシイ/島田満広・鶴 敏孝

■コーヒーブレイク
○セミコン展示会はどこへ行く?/服部 毅

■解説
○ナノテクノロジーにおける「ナノマテリアルハザード」への取り組み/ダルトン/鶴山竜太郎
○特化則改定に対するホルムアルデヒドガスによる室内殺菌/テクノ菱和/海老根猛/メルシャンクリンテック/松岡 宏
○クリーンプロセス用チップID書き込み技術/コマツエンジニアリング/国師義明・森 彰

■シリーズ:研究室紹介
○早稲田大学ナノテクノロジー研究センター/早稲田大学/関口哲志・竹内輝明

■製品紹介
○パーティクルセンサーによるパーティクルの見える化と活用事例/オムロン/細田 亨
○省オペレーションコスト・省逆帯電効果イオナイザー/日本エム・ケー・エス/田村康博/原田産業/水谷 智

■基礎講座:わかりやすいクリーンルームの運転・保守管理技術 5
○クリーンルームの導入計画で忘れてはならない基本事項/福井工業大学/浅田敏勝

■特集:先進のミニエンバイロメント技術1
○巻頭特別インタビュー:「半導体量産ラインへの国内初のミニエンバイロメント全面採用」秘話/Hattori Consulting International/服部 毅/日本ケンブリッジフィルター/木崎原稔郎
○ミニエンバイロメントに対応したクリーンルーム技術/工学院大学/並木則和/東京工業大学/諏訪好英
○ミニエンバイロメントとケミカル汚染測定/住化分析センター/大川典子
○パーティクル発生を低減した450FOUPロードポートの提案/TDK/岡部 勉
○450mmウェーハ用SEMI規格開発動向/アクティオン/小松省二

■コーヒーブレイク
○ペルー・チチカカ湖上の太陽電池/服部 毅

■解説
○インフルエンザウイルス不活化剤を有するエアフィルタの効果/日本バイリーン/望月堂照・西堀 寧・大垣 豊/鳥取大学/伊藤壽啓・伊藤啓史
○大型ガラス基板向けカセットストッカ内の気流制御/日立プラントテクノロジー/神谷松雄・橋本敏浩/日立プラントエンジニアリング/藤田恭成
○マイコンを活用した恒温恒湿省エネシステム/菱機工業/阿部俊明・役山孝之・神成孝則・村田 元・山本友範・金塚憲一

■シリーズ:研究室紹介
○(株)朝日工業社 技術研究所/朝日工業社/本田重夫

■製品紹介
○メディカル用クリーンブース/高砂熱学工業/伏水 聖
○クリーンルームガスモニタ/横河電機/中川直樹
○低発塵、低価格、クリーン市場要求に応えて/THK/田中俊也

■基礎講座:わかりやすいクリーンルームの運転・保守管理技術4
○クリーンルームの汚染管理/福井工業大学/浅田敏勝

■連載:シリコンウエーハに起因したデバイス不良とウエーハエンジニアリング5(最終回)
○ウエーハ形状のデバイス・プロセスへの影響/三菱電機/山本秀和

■製品特集
○ドラフトチャンバー/編集部
商品のご購入はこちらから

■特集:先端半導体デバイス製造のための超純水
○これからの純水への要求/大阪大学/青木秀充
○RCモニタによる超純水装置の水質管理/野村マイクロ・サイエンス/野口幸男
○超純水中の極微量金属不純物の除去/オルガノ/川田和彦
○過酸化水素フリー超純水/栗田工業/小林秀樹
○液浸露光用の超純水/日本インテグリス/松本 隆
○ガスコントロール超純水/セルガード/大嶺 浩

■コーヒーブレイク
○目で見る最先端300mm半導体工場/服部 毅

■解説
○液晶製造工程で生じる廃リン酸からのリン酸の高純度化プロセス/関西大学/芝田隼次
○一般換気用エアフィルタの試験規格/日本バイリーン/大垣 豊

■研究室紹介
○広島大学大学院　工学研究科　熱流体材料工学研究室/広島大学/奥山喜久夫・矢吹彰広・Ferry Iskandar

■製品紹介
○カセット型クリーンルーム/テクネット/釜石裕光
○新しいコンセプトのユースポイント用超純水製造装置/ヴェオリア・ウォーター・ソリューション&テクノロジー/黒木{文

■基礎講座:わかりやすいクリーンルームの運転・保守管理技術 3
○クリーンルームの清掃技術と清掃管理/福井工業大学/浅田敏勝

■連載:シリコンウエーハに起因したデバイス不良とウエーハエンジニアリング 4
○不純物汚染のデバイスへの影響/三菱電機/山本秀和

■製品特集
○水質管理系(TOC計他)/編集部

■特集:フレキシブル・プリンタブルエレクトロニクスの新展開
○フレキシブル材料とその励起状態の課題/筑波大学/徳丸克己
○プリンテッド・エレクトロニクスの現状と課題/大阪大学/菅沼克昭
○プリンタブル薄膜トランジスタ技術の現状と展望/産業技術総合研究所/鎌田俊英・吉田 学
○フィルムエレクトロニクスを目指した高分子ナノ材料/東北大学/宮下徳治
○フレキシブル発光有機ELパネル/富山大学/岡田裕之・中 茂樹
○プリンタブル、フレキシブル色素増感光電変換素子の開発/桐蔭横浜大学/宮坂 力

■コーヒーブレイク
○最強の半導体工場か、さもなくば製造撤退か/服部 毅

■解説
○エアフィルタの新たな展開/金沢大学/大谷吉生
○浮遊ナノ粒子の粒子径・化学組成同時計測技術の開発/関西大学/岡田芳樹
○レーザー誘起蛍光によるアスベスト識別法/日本原子力研究開発機構/大図 章
○ゼオライトハニカムにおけるVOCの濃縮分離/東洋紡績/杉浦 勉・川田和之・谷 雅文
○放電プラズマによるSO2の粒子化機構/高知工業高等専門学校/長門研吉
○ナノ繊維層エアフィルタの構造化による捕集性能の高度化/広島大学/尹　基明・Ferry Iskandar・奥山喜久夫

■製品紹介
○VOC濃縮燃焼装置/西部技研/田中康弘

■基礎講座:わかりやすいクリーンルームの運転・保守管理技術 2
○クリーンルーム作業者教育/国際資格認証制度の動向/福井工業大学/浅田敏勝

■連載:シリコンウエーハに起因したデバイス不良とウエーハエンジニアリング 3
○構造欠陥のデバイスへの影響/三菱電機/山本秀和

■製品特集
○マスフローコントローラと関連機器/編集部

■特集：有機エレクトロニクスの新展開
○有機エレクトロニクスの現状／大阪大学／横山正明
○有機トランジスタの基礎と発光デバイスへの展開／東北大学／竹延大志・岩佐義宏
○高次構造制御による有機発光デバイスの高性能化／九州大学／中野谷一・安達千波矢
○有機トランジスタのディスプレイへの応用／大日本印刷／前田博己
○フレキシブル有機ELディスプレイの開発／日本放送協会／時任静士
○有機EL照明の技術動向／パナソニック電工／菰田卓哉

■コーヒーブレイク
○フレキシブル・プリンタブル・有機エレクトロニクス／服部 毅

■解説
○動物試験による工業用ナノ材料の有害性評価／産業医科大学／森本泰夫・大神 明・明星敏彦・田中勇武
○NiO1+x(0<1)半導体の熱活性を利用したVOC分解システム／横浜国立大学／水口 仁・佐藤義志
○芽胞菌の大気圧高周波プラズマ滅菌技術／佐賀大学／大津康徳
○大気圧プラズマ流による滅菌技術の開発／東北大学／佐藤岳彦
○駅構内の衛生環境評価／鉄道総合技術研究所／川崎たまみ

■研究室紹介
○鹿島建設(株)「クリーン生産環境研究施設」／鹿島建設／松本尚史

■基礎講座：わかりやすいクリーンルームの運転・保守管理技術 1
○クリーンルームの運転・保守管理技術／福井工業大学／浅田敏勝

■基礎講座：進化するプリント配線板とクリーン化技術入門 7(最終回)
○プリント配線板の今後の展開と要求されるクリーン化／小林技術事務所／小林 正／長谷川事務所／長谷川 堅一

■連載：シリコンウエーハに起因したデバイス不良とウエーハエンジニアリング 2
○構造欠陥および不純物汚染の導入と評価／三菱電機／山本 秀和

■製品特集
○先進のパーティクルカウンター／編集部

■特集：先端半導体洗浄と新材料対応薬液
○次世代半導体製造における洗浄技術の課題／東芝 セミコンダクター社／冨田 寛
○フッ素系ウェットエッチング液・洗浄液／ステラ ケミファ／宮下雅之・久次米孝信
○Cu/Low-k用の機能性薬品／関東化学／小田貴文
○高性能Post Cu-CMP 洗浄剤の開発／三菱化学／水谷文一・河瀬康弘
○薬液レス・ダメージレス洗浄に向かう機能水／オルガノ／山下幸福

■コーヒーブレイク
○野口英世のサンフランシスコ／服部 毅

■解説
○半導体装置構成パーツの汚染管理への『HACCP：食品の品質管理手法』の適用／東京エレクトロン／土橋和也・斉藤美佐子／東京エレクトロン技術研究所／林 輝幸
○大気圧熱プラズマによる有害物質の分解・除去技術／東京工業大学／渡辺隆行
○個別方式空調とその衛生管理の現状／国立保健医療科学院／柳 宇
○バイオパーティクルの濃度迅速計測と殺菌／豊橋技術科学大学／水野 彰・安田八郎・水野 彰
○PFCs等の排出量測定技術／大陽日酸／伊崎隆一郎
○日本の抗菌から世界のKOHKINへ／INAX／今井茂雄
○日本薬局方微生物試験法の現状／近畿大学／坂上吉一

■研究室紹介
○新日本空調(株) 技術開発研究所／新日本空調／進藤伸二

■製品紹介
○マルチドライミストシステム／双葉リース／福山 慎一
○高品質・高機能な瞬時電圧低下補償装置／山洋電気／奥井 芳明
○潤滑剤など不純物を使用しない焼付き防止ステンレス鋼ねじ部品／田中／村上恒成

■基礎講座：進化するプリント配線板とクリーン化技術入門 6
○プリント配線板製造工程のクリーン化の実践／小林技術事務所／小林 正／長谷川技術事務所／長谷川 堅一

■連載：シリコンウエーハに起因したデバイス不良とウエーハエンジニアリング 1
○シリコンデバイスの構造と製造プロセス／三菱電機／山本秀和

■特集：光触媒技術の最新動向
○光触媒技術の可能性／東京大学／橋本和仁・砂田香矢乃

　生活空間にあるリスクを低減するための光触媒技術の可能性について、従来の酸化チタン光触媒を使った空気清浄ならびに室内光など、十分な紫外線が得られない可視光下においても光触媒活性を発揮する新規な可視光応答光触媒材料について紹介する。


○高性能な酸化タングステン光触媒の調整とその有機物分解／産業技術総合研究所／佐山和弘

　本稿では、各種銅系助触媒を利用した各種VOC反応について紹介し、これら銅系助触媒やPd助触媒の役割や反応機構について考察する。さらに高性能なWO3半導体粉末自体の調製法について紹介する。


○酸化タングステン光触媒の高機能化／北海道大学／阿部 竜

　有機コロイド結晶をテンプレートとして用いた手法により、大比表面積と高結晶性を兼ね備えた高活性酸化タングステン光触媒の合成を検討した。その結果、可視光領域で極めて高い量子収率（約70％）を示す酸化タングステン微粒子が得られた。


○可視光型光触媒における反応活性種の検出／長岡技術科学大学／野坂芳雄

　可視光を用い、環境浄化を行なう光触媒が最近注目されているが、その反応機構にはいくつかの種類がある。反応の特徴を区別し、高活性な光触媒を設計するために、反応初期に発生する活性種の検出方法を、窒素あるいは横硫ドープ酸化チタン光触媒を例に解説する。


○可視光型光触媒による悪臭物質の分解／パナソニック電工／野間真二郎・三木慎一郎・絹川謙作・矢口光雄・高濱孝一

　汚染物質、有害物質の低減に光触媒の応用を検討している。今回は悪臭原因物質の一つであるメチルメルカプタンの各種光触媒コーティングによる分解挙動について、どの光触媒なら完全酸化が可能か。どの光触媒が悪臭低減に優れているのか。この2点を中心に報告する。


○プラスチックへのセルフクリーニング塗工／宇部日東化成／高見和之

　プラスチック材料へのセルフクリーニング化は、新しい商品アイデアの創造性を飛躍的に拡大させる反面、プラスチックへの光触媒塗工は、様々な工夫を必要とする。本稿では、光触媒塗膜の設計指針や塗工上の工夫や商品化への試みについて、その一端を紹介する。


○高感度可視光応答型酸化チタン光触媒技術／九州工業大学／横野照尚

　近年日本、ドイツで活発に開発が進められている室内環境浄化用の可視光応答型光触媒について解説する。なかでも、市販製品中最も高性能で、著者も開発ならびに量産プロセス確立に関わった硫黄ドープ可視光応答型酸化チタン光触媒について詳説する。


○TiO2による気相中メチルスルホン酸ジメチルの光触媒分解／産業技術総合研究所／米良信昭・平川 力・佐野泰三・根岸信彰・竹内浩士／警察庁科学警察研究所／瀬戸康雄

　TiO2光触媒によるDMMPガスの光触媒反応を試みた。その結果(1)DMMPガスの除去に光触媒反応が有効であり、有毒な分解生成物は生じない(2)長時間連続使用で光触媒活性は低下するが、新たに強い吸着作用が発現しDMMPガスの大量除去が可能であることを示した。


○室内環境浄化型光触媒建材／大林組／堀 長生・奥田章子

　吸着性に優れた高機能けい酸カルシウム板の表面に、光触媒酸化チタンをコーティングした内装材を開発した。吸着した物質を光触媒酸化チタンが分解するため、特別なメンテナンス無しでも継続的に室内環境を浄化できる。


○医療現場における光触媒環境浄化装置／盛和工業／栗屋野伸樹

　光触媒技術は40年以上前に発見された日本発の技術であり、環境浄化を目的とした光触媒の利用に関する研究は、さまざまな研究機関や企業などで活発に行われている。本稿では、光触媒セラミックフィルターの医療分野での活用を中心に紹介する。



■コーヒーブレイク
○理科系のための…(その12)／服部 毅

■解説
○室内環境中のギ酸の生成および粒子化メカニズム／東海大学／関根嘉香

　ギ酸は皮膚や粘膜に対して強い刺激を有し、シックハウス症候群への関与が示唆されている。また絵画や銅像の変色・腐食の原因となり、美術館では重要な空気汚染物質の一つである。本稿では室内環境中のギ酸の生成メカニズム、ガス－粒子転換について解説する。


○クリーンルーム省エネルギー技術の光と影／高砂熱学工業／大久保義典

　クリーンルーム工場では、さまざまな省エネルギー手法が導入され、効果を上げている。しかしながら良い面ばかりが強調され、それに起因する不具合についてはあまり言及されることが無かった。今後さらなる省エネルギーを目指すためには、これらを明確にする必要がある。



■製品紹介
○Blu-ray用レーザを使って維持管理費を減らすウエーハ表面検査装置／トプコン／渡邊幸二・仲野健一・平田浩幸・三保谷雄二
○ハザードスコアを用いた、製品含有化学物質の統合評価ツール／イー・アンド・イー ソリューションズ／橋本真也／IHSジャパン／三角誠一郎

■基礎講座：進化するプリント配線板とクリーン化技術入門 5
○プリント配線板の品質保証／小林技術事務所／小林 正／長谷川技術事務所／長谷川堅一

■連載：半導体製造装置の新たなクリーン化の課題 6(最終回)
○パーティクル低減技術の知識共有の障壁／東京エレクトロン／守屋 剛／筑波大学／Caroline Benton

■特集：クリーンルームの付帯設備と省エネルギー
○総論：クリーンルームの付帯設備と省エネルギー／東芝 セミコンダクター社／大下繁之

　半導体クリーンルームの省エネを展開する上で、付帯設備の省エネは、生産装置への安定供給とともに重要度を増している。その解決には、動力施設・生産装置メーカ・半導体メーカ間の三位一体の協力が最重要である。


○超純水製造設備と省エネルギー／オルガノ／川田和彦

　超純水製造設備は、イオン交換装置や逆浸透膜（RO）装置を中心に構成されている。超純水水質の維持管理のためにモニタ計器とサンプリングを組み合わせて評価をしている。超純水製造設備では、使用された超純水の回収・再利用を積極的に行っている。


○省資源・省エネルギー型排水処理設備／オルガノ／清水和彦

　半導体工場のクリーンルームから排出される排水および廃液の処理方法について紹介する。有機系排水は省エネルギー性の高い生物処理について、フッ酸系排水は高効率な凝集沈殿やフッ素回収を達成する晶析装置について紹介する。


○生産装置用冷却水設備と省エネルギー／日立プラントテクノロジー／小西俊一

　半導体設備における生産冷却水設備は、半導体製造装置の稼働に必要欠くべからざる重要な設備である。設備を構成する装置・機器を紹介するとともに、省エネ対策としてフリークーリング手法、省エネガイドで推奨されている32℃化の概要を、事例を含め紹介する。


○薬品供給設備と省エネルギー／関東化学エンジニアリング／斎藤 誠

　ウエーハ洗浄やエッチング工程で使用される薬品を供給する設備は、大型化に伴い「集中供給設備」へと発展している。本稿では、初期投資の低減化対応も含めていくつかの項目について述べる。


○ガス供給設備と省エネルギー／大陽日酸／並木智雄

　半導体、液晶、太陽電池向け産業ガス供給設備の最近のトレンドは、超高純度ガスの安定かつ安全な供給から、コスト削減、法令遵守、さらには地球環境保全の観点より、省エネを考慮したガス供給設備に移行しつつある。本稿ではその設備と省エネについて概観する。


○排ガス処理設備と省エネルギー／大陽日酸／冨田雅浩

　代表的な排ガス処理装置の原理・特長・概要を紹介するとともに、最新の排ガス処理システムの紹介を中心として、そこで取り組まれている省エネルギー、省ユーティリティ対策の現状について述べる。



■コーヒーブレイク
○サムスン恐るべし！(6)／服部　毅

■解説
○半導体デバイスのトレーサビリティ／エイデム／大和田敦之

　平成22年には、種々の障害を克服してLSIなど半導体製品のトレーサビリティシステムが稼働する事を期待している。その為にITが駆使されるであろう。IDの書込みはチップに直接刻印するダイレクトマークである事が肝要である。課題は、システムが稼働しICの偽物が駆逐される事である。


○超臨界フッ素化合物を用いた洗浄・乾燥技術／NTTアドバンステクノロジ／生津英夫

　常温・常圧で液体であるフッ素化合物を用いた超臨界洗浄・乾燥技術について論述した。二酸化炭素同様パタンにダメージを与えない超臨界乾燥が可能であるとともに、レジスト除去とエッチング残渣（ポリマー残渣）を行うことが出来ることを実証した。


○低湿度ケミカルクリーンルームの性能検証／清水建設／梶間智明

　2007年春に建設した新しいクリーンルーム実験施設の機能の一つに、低湿度とナノレベルのケミカルクリーン度を兼ね備えたスーパーナノクリーンルームがある。本稿では、このクリーンルームの除湿性能とケミカルクリーン性能を検証した結果について解説する。


○検知管法による微量有機酸測定／光明理化学工業／三枝正吾・本間弘明／鹿島建設／武廣絵里子・涌井 健

　文化財保存施設やクリーンルームにおいて、酢酸・ギ酸などの有機酸による空気質汚染が問題視されている。これら有機酸の簡易測定法として、検知管による微量有機酸の測定手法を開発した。実際の美術館や建材を対象に実証実験を行った結果、本法の実用性・有効性が確認された。



■製品紹介
○次世代TOC計への挑戦／ティ・アンド・シー・テクニカル／矢作 昇
○中小型クリーンルームシステム「MSCR」／大林組／宮原英男
○クリーンルーム用高機能クリーンクロス／エービーシー商会／堀田一弘

■基礎講座：進化するプリント配線板とクリーン化技術入門 4
○プリント配線板の要素技術とクリーン化／小林技術事務所／小林 正／長谷川技術事務所／長谷川堅一

■連載：半導体製造装置の新たなクリーン化の課題 5
○プラズマ中のパーティクル挙動と制御／東京エレクトロン／守屋 剛・松井英章

■特集：製造現場の静電気問題とその対策
○製造現場の静電気問題とその対策／元カイジョー／藤江明雄

　LSIは微細設計の進行とともにESD耐性が低下する。そこで半導体前工程CVDやウエット洗浄装置に関わるESD課題とその対策概要について、参考文献や筆者の対策事例を引用して技術変遷を記述し、読者の参考に供する。


○クリーンルームにおける制電エンジニアリング／高砂熱学工業／稲葉 仁

　静電気対策の基本は、発生抑制を上位の対策として、静電気耐性向上、除電対策へと進めていく。本稿では空調設備、材料、製造装置製造形態、除電技術全てを含め、コストパフォーマンスを最大にすべく制電エンジニアリング技術について紹介する。


○静電気による微粒子汚染問題とその対策／テクノ菱和／鈴木政典・松田 喬

　ウエーハ上に電子回路をつくる最少加工線幅がより微細になってきた。そのため、微粒子汚染を防止するために、製造プロセスから排除しなければならない微粒子径は、益々微細になっていくことが予想される。しかし、そのような微細な粒子ほど、静電気によってウエーハ表面への付着が促進されることが知られている。本稿では、静電気力の微粒子汚染への影響と静電気力によって引起される微粒子汚染の防止方法として、2方式クリーンルーム用イオナイザについて述べる。


○静電気を用いたシリコンウェーハへのパーティクル付着防止／東京エレクトロン／及川純史

　近年、半導体業界ではデバイスの微細化が急速に進んでおり、制御するパーティクルについても微小化が要求されている。この微小パーティクル制御のため静電気斥力を利用し、Wafer上へのパーティクル付着に成功した。最適条件では96％の付着防止を達成している。


○静電気障害の原因となる現象と静電気測定の基礎／春日電機／鈴木輝夫

　電子産業で多くの静電気障害の原因となっている静電気現象と、帯電量（帯電電位と帯電電荷量）の測定原理と測定を行う上での注意事項等について、電界と電気力線を用いて解説する。


○HDDにおけるESDコントロール事例／富士通／仲島智秀

　HDD磁気ヘッドの破壊原因としては、ESDだけが疑われている印象が強い。しかしながら、要因を詳細に分析すると、電磁気起因面ではEOSやEMIもありうる。本稿では、HDD製造におけるESD対策をメインにEOS／EMIコントロール事例について紹介する。


○静電気による粉じん爆発とその事例／労働安全衛生総合研究所／山隈瑞樹

　粉体を安全に取り扱うために、粉じんの爆発特性（最小着火エネルギーおよび爆発下限界濃度）および静電気発生機構と放電の形態について平易に解説する。また独自の資料から最近の粉じん爆発の傾向を分析するとともに、教訓的な事例3件を紹介する。


〔製品紹介〕
○イオン搬送式除電装置／日立プラントテクノロジー／竹浪敏人・戎 勝巳

　静電気対策には一般的に除電器が使用されているが、イオンを発生させる除電器から帯電体までの距離を短くして除電能力の低下を防ぐ必要があり、メンテナンス性に課題があった。本稿では除塵と除電を同時に行うことを可能としたイオン搬送式除電装置について紹介する。


○軟X線の漏洩が無く、数十nmの発塵の無いイオナイザ／近藤工業／本堀 勲

　静電気対策の一つとして、一般的に用いられているイオナイザはコロナ放電式のものが多い。本稿では、従来のものとは違い、X線を漏洩させない事を最大の特長とする軟X線を使用したイオナイザについて紹介する。



■コーヒーブレイク
○半導体産業の革新をめざして／服部 毅

■解説
○シリコンウエーハ表面有機汚染における標準化の現状と課題／住化分析センター／平 敏和／NECエレクトロニクス／白水好美・廣島正一

　現在シリコンウエーハ表面の有機汚染分析には、TD／GC-MS法が一般的に用いられている。本稿においては、TD／GC-MS法の限界を紹介するとともに、他の有用な分析手法について説明する。


○正負クラスターイオンによるインフルエンザウイルス除去特性とメカニズム／シャープ／松岡憲弘・西川和男

　正負クラスターイオンによるインフルエンザの感染力低減効果について検証を行った。その結果、高濃度イオンにより、99.9％減少することを確認した。ウイルス表面でイオンが反応した活性種としてOHラジカルを生成し、感染機能を消失させていると推定される。


○完全制御型イネ植物工場／朝日工業社／中島啓之

　最近では、遺伝子組換え技術を応用して、植物本来の含有成分でない高付加価値物質を、固体内で生産する技術が注目されている。本稿では、イネの育成に特化した完全制御型植物工場に必要な機能と、試験用栽培室を構築する際に行った検討事項の一部を紹介する。



■企業シリーズ
○オンラインTOC分析計の新たなバリデーション基準への潮流／セントラル科学／松永広助

■基礎講座：進化するプリント配線板とクリーン化技術入門 3
○ビルドアップ配線板の製法とクリーン化／小林技術事務所／小林 正／長谷川技術事務所／長谷川堅一

■連載：半導体製造装置の新たなクリーン化の課題 4
○プラズマ異常放電のモニタリングと信号解析／東京エレクトロン／守屋 剛／立命館大学／宮野尚哉

■特集：半導体先端リソグラフィの動向とクリーン化
○先端リソグラフィ技術の動向／日立製作所 中央研究所／岡崎信次

　半導体集積回路の高集積化を担ってきたリソグラフィ技術は、さらなる微細化を目指して開発が進んでいる。従来の光リソグラフィ技術の延命技術とEUV露光技術、さらにインプリント技術や自己組織化技術等の新方式も提案されており、本稿ではこれらを概観する。


○液浸リソグラフィの現状と汚染対策／ニコン／藤原朋春

　液浸リソグラフィのパターン欠陥制御において、リソクラスターのクリーン化技術開発は、最重要課題の一つである。現在、露光装置の洗浄技術、レジストプロセス技術の最適化などにより、半導体デバイスの量産に充分な欠陥レベルを実現している。


○ダブルパターニング技術／東芝 セミコンダクター社／橋本耕治

　光リソグラフィ技術はかつて予測された限界値を次々と打破し、現在でもLSI製造の主役を担っている。本稿では、光リソグラフィ技術延命の鍵となるダブルパターニング技術の中で比較的実用化が近い「ピッチ分割型」「側壁転写型」について、そのプロセスと精度の観点から論じる。


○EUV露光技術の開発状況／半導体先端テクノロジーズ／森 一朗

　ハーフピッチ32nm以下の回路線幅を必要とする半導体デバイスに適用できるリソグラフィ技術として、EUV露光技術の早期実用化への期待が高まっている。極めて高い技術的ハードルがあったが、長年の着実な研究開発によって解決の目処が立ってきた。本稿ではその開発状況について概説する。


○EUV露光におけるクリーン化技術／半導体先端テクノロジーズ／西山岩男

　EUVリソグラフィでは、真空中の残留ガスに起因するミラーの光化学汚染、プラズマ光源に起因するミラーダメージ、EUVマスクのパーティクル汚染などの課題が存在する。これらの課題に対するクリーン化技術の現状について解説する。


○ナノインプリント技術とデバイス応用／兵庫県立大学／松井真二

　10umパターン転写を可能にするナノインプリント技術が発明されてから13年が経ち、その間にプロセスの開発研究が進み、デバイス応用展開が光デバイス、パターンドメディアを中心に立ち上がってきており、実用量産技術として認知されつつある。熱ナノインプリント、光硬化ナノインプリントについて解説し、現状の技術と各種デバイス応用例について述べる。


○EBリソグラフィの特徴とEB装置開発の現状／アドバンテスト／山田章夫

　フォトリソグラフィにおけるマスク価格の高騰やターン・アラウンド・タイムの増加を契機に、先端デバイスの試作や少量生産手段として、EB直接描画技術に対する期待が高まっている。本稿ではEB直接描画のメリットと、その適用規模拡大を目指した装置開発の現状について紹介する。


○露光工程の化学汚染／竹中工務店／石黒 武

　リソグラフィ技術の進展に伴って、半導体の露光工程では、製造プロセスに起因するマスクへイズなどの化学汚染が顕在化している。本稿では、実験で再現した汚染現象の事例や環境制御レベルを自由に設定できるクリーンルームで検証した対策効果について紹介する。



■コーヒーブレイク
○半導体産業の新しいビジネスモデルは台湾から／服部 毅

■解説
○バッチ洗浄での電解硫酸によるレジスト剥離／栗田工業／大津 徹

　電解硫酸でのレジスト剥離における洗浄槽内残留TOC濃度を、有機物分解経路の特定より見出したシミュレートモデルにより計算し、実際の洗浄機を使用した実験と比較検討し、残留TOC濃度が把握できる知見を得た。


○環境対応型の加水分解触媒技術／岡山大学／押木俊之

　我が国が先導する低炭素社会の実現には、革新的技術開発が必要である。古典的な加水分解反応に対して、新たな視点で取り組み、廃水ゼロの環境対応型化学触媒法の開発に成功した。



■製品紹介
○次世代フォトレジスト用フィルター／キッツマイクロフィルター／地曳明人

■企業シリーズ
○超臨界水酸化方式全有機炭素(TOC)分析計／セントラル科学／松永広助

■基礎講座：進化するプリント配線板とクリーン化技術入門 2
○プリント配線板の製造プロセスとクリーン化のポイント／小林技術事務所／小林 正／長谷川技術事務所／長谷川堅一

■連載：半導体製造装置の新たなクリーン化の課題 3
○真空チャンバ内水分の問題と制御／東京エレクトロン／守屋 剛・松井英章

■特集：CO2削減に貢献する蒸気レス最前線
○総論 CO2削減に貢献する蒸気レス最前線／東京電力／原田光朗

　蒸気レスとは、従来の直接燃焼や蒸気等に依存していた加熱・加湿を熱源転換やヒートポンプの採用により蒸気をなくしたり、蒸気発生の高効率化を図るという意味で使用されている。本稿では特集の総論として全体を俯瞰するとともに、CO2の削減手法について提案する。


○電気トレース転換による省エネルギー効果／テクノカシワ／新田治義／タイコ サーマルコントロールズジャパン／永田一衛

　クリーンな環境を保つため、工場におけるプロセス配管／機器の保温、凍結防止を電気トレースと蒸気トレースで経済性、制御性、環境性を比較。また最新の電気トレース技術による省エネルギー効果、CO2削減効果について紹介する。


○ヒートポンプによる蒸気発生／東洋製作所／外村 琢・二宮達

　産業界ではCO2削減の手段として、ヒートポンプを利用した空調・給湯機を多く導入しているが、蒸気製造についてはボイラに頼っている。本稿では商用機で世界初となる蒸気製造可能な排熱回収ヒートポンプ式蒸気・温水製造装置について紹介する。


○ボイラ補給水予熱の省エネルギー効果とCO2削減／Q研技術士事務所／杉村允生

　筆者は多様な蓄熱計画に関与し、合わせて温室効果ガス削減にも取り組んでいる。本稿では、一般給湯におけるCO2削減、そして蒸気ボイラにおけるCO2削減の2つの事例について、図・表を多用しながら詳述する。


○蒸気エネルギー回収による省エネ技術／神戸製鋼所／松隈正樹・上原一浩

　「スクリュ式小型蒸気発生機SteamStar」は蒸気の未利用エネルギーの有効利用を図る小型の蒸気発電機である。少量の蒸気でも高効率な発電ができ、同時に減圧機能によって必要とする低圧の減圧蒸気を作ることができる。本稿ではその活用事例について紹介する。


○CO2ヒートポンプ乾燥システム／前川製作所／町田明登・西田耕作・門脇仁隆

　産業用の乾燥システムや加熱システムをターゲットとし、当社の産業用・業務用CO2ヒートポンプ給湯機をベースに加熱能力100kW、最高120℃までの熱風を発生させることができるヒートポンプシステムの開発を行った。本システムは、従来のボイラシステムと比較して、CO2排出量を60～76％削減できる画期的システムである。


○ハイブリッド給湯・蒸気システム／日本サーモエナー／森田明夫

　産業用蒸気システムの省エネルギー化や地球温暖化の新しい対策として、従来のボイラと高効率であるヒートポンプ給湯機を組み合わせた、ハイブリッド給湯・蒸気システムの概要、および導入事例について紹介する。


○ターボ冷凍機の冷却水利用・温水供給システム／ダイキンアプライドシステムズ／松村一美

　ターボ冷凍機においてはCOP6を超えるものが多く採用されているが、熱源システム全体の高効率化には機器だけで行うには限界がある。本稿では、システム全体の効率アップをすべく冷却水を利用したもの、および温水供給のシステムについて紹介する。



■コーヒーブレイク
○半導体産業のちょっと気になる話／服部 毅

■解説
○シリコン表面におけるオクタノール分子の吸着脱離挙動／横浜国立大学／羽深 等・川原慎洋

　多成分系有機物吸着汚染モデルを用いてシリコン表面における有機物汚染挙動を記述するため、有効最大吸着表面濃度と吸着・脱離速度定数を体系的に決定する方法を提案する。併せて、その方法をオクタノールの吸着・脱離速度定数の決定に適用した例を紹介する。


○クリーンルーム省エネルギーの実態調査／日本産業機械工業会 クリーンルーム委員会

　電子関連施設におけるクリーンルーム省エネルギーの実態についてアンケート調査を行った。本調査により、機器・装置単体での省エネルギー対応は多いが、システムでの対応は相対的に少ないことがうかがえ、今後システムの工夫による省エネルギー効果の向上の余地があると考えられる。


○30nm以下粒子除去フィルターの新規定格方法／日本ポール／水野豪仁

　半導体クエーハ、デバイス製造において管理されるパーティクル径が30nm以下になり、従来のフィルター定格法では30nm以下に対応できない。本稿では金ナノ粒子およびDSL／ICP－MSを用いた新規定格法を紹介する。


○MRG滅菌技術／ウイングターフ／羽柴智彦／大阪大学／民谷栄一

　今まで不可能であったコンピュータ等の精密機器内部の滅菌が可能になり、医療用ロボット、ゲノム解析装置等の滅菌・ゲノムハザード対策を可能としたMRG滅菌システムについて、適用事例等とも合わせて紹介する。



■製品紹介
○デジタル静電電位、電荷量測定器／春日電機／八木新治
○PAT対応新型TOC計／ハック・ウルトラ／厚木辰三
○クリーンルーム内における包装資材の帯電防止について／アソー／桑村浩幸

■企業シリーズ
○半導体超純水の水質変化トレンドモニタ／セントラル科学／松永広助

■基礎講座：進化するプリント配線板とクリーン化技術入門 1
○プリント配線板の基礎知識／小林技術事務所／小林 正／長谷川技術事務所／長谷川堅一

■連載：半導体製造装置の新たなクリーン化の課題 2
○水分子による汚染とその対策／東京エレクトロン／守屋 剛・松井英章