クリーンテクノロジー 発売日・バックナンバー

■特集1：シリコンウエーハを取り巻く課題とその対策
○シリコン表面における複数種有機物分子の吸着脱離挙動／横浜国立大学大学院工学研究院／羽深 等・山屋大輔
○化学汚染がデバイス特性に与える影響／NECエレクトロニクス／白水好美
○シリコンウエーハの先浄技術／日立製作所／津金 賢
○微小パーティクルの挙動と制御／東京エレクトロン／林 輝幸・田村明威・土橋和也
○新型液中パーティクルカウンタについて／リオン／木本幸弘

■特集2：マスフローコントローラの最新動向2
〔製品紹介〕
○半導体製造業界向けMFC設計におけるCFDの利用／Advanced Energy／Mike McDonald
○Brooks/MSP気化器によるダイアモンド-ライク コーティング改善／Brooks Instrument／Ed Fisher・Rich.Fravel／日本エマソン／黄 宏勝
○実使用ガス流量精度保証MFC／日立金属／杉本真郷
○ALD及びCVD用成膜材料の気化供給技術／リンテック／小野弘文

■コーヒーブレイク
○「40年ぶりのトランジスタ大変革」を読み解く(上)／服部 毅

■解説
○事業継続マネジメント(BCM)のすすめ／SEMI日本地区BCM研究会／黄野吉博・白澤健志
○導電性微小粒子物質検知装置の開発／近代テクノリサーチ／菊地守夫
○機械設備用イソブチレン系耐震材／龍田化学／谷口 薫
○プリント基板表面のプラズマ洗浄／サーフクリーン／加藤聖隆
○半導体製造用集積化ガス供給システム／フジキン／池田和弥・土肥亮介・西野功二・永瀬正明・山路宮治雄・篠原 勉・谷川 毅
○カーボンナノチューブによる揮発性有機化合物の選択除去／北海道大学／曽根弘昭・古月文志

■シリーズ：研究室紹介
○長岡工業高等専門学校 電気電子システム工学科 電子材料研究室／長岡工業高等専門学校／片桐裕則

■製品紹介
○導入が進むクリーン度常時監視システム／日本電産サンキョー／登内 宏

■基礎講座：エンジニアリングのためのGMP豆知識5
○クリーンルームのISO規格(2)／GMPリサーチ／山川康泰

■SEAJ News
○半導体製造装置 販売統計／日本半導体製造装置協会

■≪200号記念号≫
○月刊『クリーンテクノロジー』通巻200号の発刊にあたり／クリーンテクノロジー編集委員会／編集部

■特集1：産業分野別に見るクリーン化技術の現状と動向
○半導体製造とクリーン化技術／三菱電機／園田信夫
○半導体製造におけるパーティクル対策／東京エレクトロンAT／守屋 剛・長池宏史
○医薬・製薬工場におけるクリーンエアーシステムの動向／日本エアーテック／平澤真也
○製薬工場クリーンルームの計画技術／大成建設／加藤美好・岸野 豊
○食品産業とクリーン化技術／東京顕微鏡院／伊藤 武
○液晶製造におけるクリーン化技術／栗田工業／井田純一
○液晶製造とクリーン化技術／日立プラントテクノロジー／平田順太
○微生物を利用した環境修復技術／栗田工業／水本正浩

■特集2：マスフローコントローラの最新動向1
○電子機器産業分野における流体制御技術の動向／フローテクノサービス／石原聖司
〔製品紹介〕
○最新のインターフェース動向／MKS Insrument,Inc／日本エム・ケー・エス／M.J. Quaratiello・Kaveh Zakar・Isao Suzuki
○圧力制御式流量コントローラ／フジキン／永瀬正明・西野功二・土肥亮介・池田和弥
○次世代マスフローモジュール／堀場エステック／安田忠弘

■コーヒーブレイク
○フラッシュ・アニメ「やわらか戦車」の退却／服部 毅

■解説
○ウェット処理シリコン表面水素終端構造のSPM及びIR分析／広島大学／高萩隆行
○金ナノ粒子触媒が環境衛生を変えるか／首都大学東京／齊藤未歩・春田正毅

■シリーズ：研究室紹介
○横浜国立大学大学院 羽深・相原研究室／横浜国立大学／羽深 等

■製品紹介
○ホコリセンサーとホコリモニターシステム／光伸舎／白川光英

■基礎講座：エンジニアリングのためのGMP豆知識4
○クリーンルームのISO規格(1)／GMPリサーチ／山川康泰

■SEAJ News
○半導体製造装置 販売統計／日本半導体製造装置協会




＜次号予告＞
　■特集：シリコンウエーハを取り巻く課題とその対策
　○シリコン表面における複数種有機物分子の吸着脱離挙動／横浜国立大学大学院工学研究院／羽深　等・山屋大輔
　○メタル有機汚染がデバイス特性に与える影響／NECエレクトロニクス／白水好美
　○シリコンウエーハの先浄技術／日立製作所／津金　賢
　○微小パーティクルの挙動と制御／東京エレクトロン／林　輝幸・田村明威
　○新型液中パーティクルカウンタについて／リオン／木本幸弘
　■特集2：【製品紹介】マスフローコントローラの最新動向
　○半導体製造業界向けMFC設計におけるCFDの利用／ADVANCED ENERGY／Mike McDonald
　○Brooks（R）/MSP気化器によるダイアモンド-ライク コーティング改善／日本エマソン／黄　宏勝／Emerson Process Management Brooks Instrument／Ed Fisher
　○実使用ガス流量精度保証MFC／日立金属／杉本真郷
　○ALD及びCVD用成膜材料の気化供給技術／リンテック／小野弘文

■特集：排ガス処理の最新動向
○排ガス処理装置の最新動向／太陽日酸／富田修康・増崎 宏
○吸着濃縮装置を前段に用いた有機排気処理装置／大気社／助宮賢治
○排気ガス中VOCの新たな除去技術／慶應義塾大学／田中 茂
〔製品紹介〕
○半導体製造装置の電熱式排ガス処理装置／カンケンテクノ／塚田 勉
○燃焼式排ガス処理装置／東京ガスケミカル／秋澤徹郎・杉原賢一
○プロセス排気分析結果に基づく排ガス処理装置の設計／巴商会／平本隆司
○排ガス除害装置の新しいトレンド／エドワーズ／高橋克典
○三菱-DAS 除害装置の紹介／三菱化工機／岸本保之
○低温プラズマを用いたPFCガス除害装置／ランドマークテクノロジー／山本洋生
■小特集：低周波磁界とクリーン化技術
○環境磁界の現状／日本電設工業／山崎 勉
○シールドの方法／住友電設／村田美久
○半導体製造工場の電磁環境／トーエネック／横川喜与志

■コーヒーブレイク
○ファブライト・プロセスライト戦略で勝つ／服部 毅

■解説
○ミニマルマニュファクチャリングとクリーン化技術／産業技術総合研究所／原 史朗
○PDP用ペースト材料／ノリタケ機材／市川賢一
○静電気を除去してからホコリを除去する新発想のエアシャワー／TRINC／高柳 真
○汎用原料を用いた新型薄膜太陽電池／長岡工業高等専門学校／片桐裕則

■製品紹介
○クリーンルーム内の早期火災検知／ホーチキ／成澤 諭

■基礎講座／エンジニアリングのためのGMP豆知識3
○医薬品製造のGMP・ガイダンス(3)／GMPリサーチ／山川康泰

■SEAJ News
○半導体製造装置 販売統計（平成19年3月）／日本半導体製造装置協会

■特集：京都議定書≪CO2削減≫に貢献するクリーンルーム空調省エネ技術Ｖ
○半導体工場における蒸気負荷の削減／東芝セミコンダクター社／板井裕次郎
○冷凍機冷却水による加熱の省エネルギー効果／東芝／柳澤俊彦・木村真也
○冷熱源システム最適化制御による省エネルギーとCO2削減の事例紹介／富士フィルム／田辺正剛／日本アメリカン・スタンダード・トレイン／北島 進・當眞嗣尚
○塗装ブース空調用全熱交換器による省エネルギー・CO2削減／鵬／吉川文九
○二流体細霧加湿システム／大林組／相賀 洋／オーク設備工業／岡本高志
○超高効率小型水冷インバータスクリュチラー／神戸製鋼所／住元弘明

■コーヒーブレイク
○理科系のための…（その9）／服部 毅

■解説
○ナノシリコン粒子大量製造法／物質・材料研究機構／佐藤慶介
○手術中における術野近傍の清浄度測定例／戸田建設／村江行忠
○サンプリング時の分級効果を利用した粒径分布計測法／電力中央研究所／辻 博文・牧野尚夫／広島大学／吉田英人
○超小型エジェクタ式微細流体混入装置による燃料改質／オーラテック／江口俊彦／久留米工業大学／渡邉孝司／久留米高専／中武靖仁
○日本薬局方15改正：製薬用水のJP,USP及びEP三局の比較／大気社／村上大吉郎
○インフルエンザでのサージカルマスクの役割／松山記念病院／山内勇人
○遠隔パーティクルカウンターを用いたエアロゾルの選別計測／日本原子力研究所開発機構／大図 章

■製品紹介
○省エネ型恒温恒湿クリーンルームシステム／日本スピンドル製造／泉 憲司
○受精卵培養装置／日本エアーテック／板倉一生
○プレート式熱交換器（PHE）、ブレージングプレート式熱交換器（BHE）の紹介／日阪製作所／平井美敏

■基礎講座：エンジニアリングのためのGMP豆知識
○医薬品製造のGMP・ガイダンス(2)／GMPリサーチ／山川康泰

■SEAJ News
○半導体製造装置 販売統計（平成19年2月）／日本半導体製造装置協会

■特集：製剤プロセスとクリーン化技術
○製剤プロセスのクリーン化技術／サン・技術事務所／大関謙一
○過酸化水素ガスによるスーパーデコンタミネーション／エアレックス／川﨑康司・宮本 実・北村雅裕・七澤敦士・赤塚信也・笹木綾子
○日本薬局方製薬用水規定の最近動向とオンラインTOC分析計のバリデーション／セントラル科学／松永広助
○無菌製剤施設等のクリーン化技術と管理基準／バイオメディア／羽柴智彦
[製品紹介]
○小型粉体機器組み込みアイソレータ／ダルトン／渡邉隆弘
○オフライン及びオンラインTOC計器を用いた洗浄バリデーションの提案／ティーアンドシーテクニカル／吉田貴充
○製薬プロセスにおける環境計測器／東京ダイレック／田中 豊
○製薬プロセスで利用される機器・システム／リオン／一条和夫・東 圭
■コーヒーブレイク
○半導体集積回路研究の最先端／服部 毅
■解説
○化学品の分類および表示に関する世界調和システム（GHS）／日本大学／城内 博
○プラズマ放電によるウイルス不活化技術／ダイキン工業／香川謙吉・小沢 智・新井潤一郎
○自動車塗装設備の現状とCO2削減技術／大気社／三堀顕弘
○有機EL用封止材料／ナガセケムテックス／飯田隆文
○マイクロバブルによる貯水池深水層などの水質浄化／神戸大学／道奥康冶
■製品と技術
○ホウ素除去・回収システム／前澤工業／今田勝也
○受精卵培養クリーンベンチ／日本エアーテック／板倉一生
■基礎講座：製薬用水とクリーン化技術（最終回）／エンジニアリングのためのGMP豆知識1
○製薬用水へ求められる視点と水システムの全貌について／野村マイクロ・サイエンス／布目 温
○医薬品製造のGMP・ガイダンス 1／GMPリサーチ／山川康泰
■展示会情報
○20周年を迎えるインターフェックス ジャパン
■SEAJ News
○半導体製造装置 販売統計／日本半導体製造装置協会

■特集1：先進の半導体平坦化CMP技術
○半導体平坦化CMP技術の課題と展望／九州大学／土肥俊郎
○半導体デバイスと平坦化CMPの最新動向／日立製作所／山田洋平
[製品紹介]
○Applied Materials Reflexion LK(TM) CMP装置／アプライド マテリアルズ ジャパン／有馬靖二
○次世代酸化セリウムスラリー及びCu/CMPスラリー／昭和電工／伊藤 桂
○次世代CMP技術に要求されている装置技術と弊社CMP装置の特徴／東京精密／山根昭彦
○CMPスラリー供給装置／東横化学／平川 清
○あらゆるワークに対応するポリッシング装置／不二越機械工業／中村由夫
○銅配線用CMPスラリーの開発／富士フイルム／関 裕之・安波昭一郎
■特集2：空気浄化テクノロジー2
○正極・負極性クラスターイオンによる空気清浄化技術／シャープ／西川和男
○土壌を用いた大気浄化システム／フジタ／金子和己
○可視光応答型光触媒による室内空気質の浄化／住友金属工業／田坂誠均・正木康浩／
　和歌山工業高等専門学校／福田 匡／積水ハウス／間瀬昭則・木村俊朗
■コーヒーブレイク
○理科系のための… 8／服部 毅
■解説
○誘電分極体スクリーンによる病害虫遮蔽システム
　／近畿大学／野々村照雄・松田克礼・豊田秀吉／野菜茶葉研究所／本多健一郎／
　大阪府食とみどりの総合技術センター／草刈眞一／奈良県農業総合センター／井村岳男／カゴメ／金原淳司
○事務所ビルにおけるバイオエアロゾルの挙動とその制御方法／国立保健医療科学院／柳 宇
○浮遊微生物粒子の捕集と検出／産業医科大学／石松維世
○建築室内環境における超微粒子の分布／芝浦工業大学／西村直也
○短ギャップ・高濃度オゾン発生器／三菱電機／葛本昌樹
■製品と技術
○電源障害対策による生産システムの安定稼動／オムロン／林 昭
○床振動制御システム／鹿島建設／片村立太
■基礎講座：製薬用水とクリーン化技術6
○製薬用水へ求められる視点と水システムの全貌について／野村マイクロ・サイエンス／布目 温
■SEAJ News
○半導体製造装置 販売統計／日本半導体製造装置協会

■特集1：次世代超大型液晶工場向け自動搬送システム・機器
○次世代超大型液晶工場自動搬送システム動向／イーキャッツ／林 武秀
○FPDカセット搬送システムと枚葉生産／村田機械／山本 眞
○FPD/液晶用ガラス枚葉搬送システム／三機工業／矢野憲一
○第8・9世代対応型ガラス基板搬送ロボット／不二越／加藤真次
○大型ガラス基板搬送用クリーンロボット／安川電機／末吉 智
○大型ガラス基板搬送ロボット／日本電産サンキョー／荒井 正
○大型ガラス基板非接触搬送装置／ソーラーリサーチ研究所／明石 博
■特集2：空気浄化テクノロジー1
○VOC吸着・回収システム／日本産業洗浄協議会／土井潤一
○ストリーマ放電による空気浄化技術／ダイキン工業／香川謙吉
○室内空気汚染濃度低減材の評価法／建材試験センター／石川 祐子
■コーヒーブレイク
○サムスン恐るべし! （その4）／服部 毅
■解説
○シックハウス症候群の原因解明と予防対策／北海道大学 ／岸 玲子
○超純水中シリカの計測／東北大学 ／金子恵美子
■製品紹介
○低発塵性制電ワイピングクロスの紹介／テイカ／江上賢洋
■基礎講座：製薬用水とクリーン化技術5
○製薬用水へ求められる視点と水システムの全貌について／野村マイクロ・サイエンス／布目 温
■展示会案内
○FPD業界世界最大のビッグイベント『FINETECH JAPAN～ファインテック・ジャパン～』過去最大規模で開催
■SEAJ News
○半導体製造装置 販売統計（2006年11月）／日本半導体製造装置協会

■特集：半導体ケミカル汚染の現状と課題
○半導体ケミカル汚染の現状と課題／NECエレクトロニクス／白水好美
○空気清浄度維持システムの変化とケミカルフィルタの対応／近藤工業／杉山訓樹
○クリーンルーム構成材からのアウトガス測定法と対策／新日本空調／神戸正純・高塚 威
○クリーンルーム内ケミカル汚染物測定法の最近の話題／住化分析センター／平 敏和・竹田菊男・藤本武利

■コーヒーブレイク
○半導体デバイス最新情報／服部 毅

■解説
○VUV光脱離による有機カーボン層汚染除去／大阪電気通信大学／瀧川靖雄・戸出真由美／NTP／佐々木亘
○病院におけるクリーンテクノロジーの紹介／三機工業／永田栄作
○洗えるバイオクリーンルームの開発／五洋建設／小座野貴弘・末永義明
○金属ナノ粒子の製造／イオックス／市來正義
○HF水溶液を用いたアルミナ膜の裏面洗浄プロセス／東芝セミコンダクター社／永島幸延・冨田 寛
○シックハウス対策と濃度低減効果／長谷工コーポレーション／木村 洋
○蛍光寿命イメージング装置の開発と細胞測定／九州大学／内村智博
○室内空気及び各種材料中のVOC分析について／アジレント・テクノロジー／中村貞夫
○省エネルギー型低露点用乾式除湿機／日立プラントテクノロジー／頭島康博／日立製作所／藤居達郎
○LSI製造における局所環境用汚染センサー／富士通研究所／高須良三・片岡祐治

■製品と技術
○製造現場で有用なコンソールの延長技術／富士通コンポーネント／青木和之
○超強力洗浄、超低騒音を実現／カイジョー／高橋典久

■基礎講座：製薬用水とクリーン化技術４
○製薬用水へ求められる視点と水システムの全貌について／野村マイクロ・サイエンス／布目 温

■SEAJ News
○日本半導体製造装置協会／編集部

■特集：京都議定書《CO2削減》に貢献するクリーンルーム空調省エネ技術 IV
○既存外調機への気化式加湿器の導入事例／ソニーセミコンダクタ九州／田中英男
○超高効率空冷ヒートポンプチラーの開発・販売／神戸製鋼所／住元弘明
○空冷ヒートポンプチラーの省エネルギー技術／三菱電機／隅田嘉裕
○研究施設、クリーンルームの空調設備に最適な高効率電気式空冷チラーのご紹介／東芝キヤリア空調システムズ
○高砂型統合熱源システム／高砂熱学工業／杉山浩美・永岡真紀
○「熱源トータル最適制御システム」の開発／東洋熱工業／小川敏明・村澤 達
○ターボ冷凍機のメンテナンス／三菱重工業／石井正宏・佐藤達哉・市岡丈彦
○ボールクリーニングシステム／東芝キヤリア空調システムズ／桑原廣之
○冷却水素での省エネルギー・省コストの実現に向けて／栗田工業／永井直宏
■コーヒーブレイク
○アメリカ、ベルギー、そしてメキシコにて／服部 毅
■解説
○大気圧放電プラズマを用いた殺菌技術／豊橋技術科学大学／谷野雅一・水野 彰
○低湿度雰囲気における液晶用ガラス基板表面への吸着水分量／新日本空調／高塚 威・永坂茂之／東北大学／宮本 明
○医療・実験動物施設などにおける湿度制御／日立アプライアンス／木場裕介
○クリーンルームにおける搬送システム／村田機械／山本 眞
○酵素フィルタについて／日揮ユニバーサル／磯前和郎
○AMC監視用連続微量測定装置／ダン・タクマ／吉澤 巌
○建築設備におけるアスベスト対策について考える／新日本空調／吉田新一
■基礎講座：製薬用水とクリーン化技術３
○製薬用水へ求められる視点と水システムの全貌について／野村マイクロ・サイエンス／布目 温

■特集：マイクロバブルとクリーンテクノロジー
○マイクロ・バブル技術の発展と今日的課題／徳山工業高等専門学校／大成博文
○世界初MNBによる半導体工場の排水処理／シャープ／山嵜和幸・坂田和之・中條数美
○マイクロバブルの食品分野への応用と展開／農業・食品産業技術総合研究機構／許 晴怡・中嶋光敏
○マイクロバブルの医療への応用の可能性／名古屋市立大学／岡嶋研二・原田直明
○大学などでのマイクロバブルの研究と応用／慶應義塾大学／柘植秀樹
○マイクロバブルによる低環境負荷洗浄技術／三菱電機／宮本 誠
○マイクロバブル技術による新産業の創成／ナノプラネット研究所／大成博音

■コーヒーブレイク
○半導体製造技術の最新情報／服部 毅

■解説
○複数種有機物のシリコン表面吸着脱離挙動／横浜国立大学／羽深 等・山屋大輔
○クリーンルーム空気中の化学成分分析技術／三機工業／戸田浩之
○PVC製品の可塑剤放散速度と室内濃度／ロンシール工業／近藤之彦／塩ビ工業・環境協会／高橋裕明
○動物舎における臭気対策／カルモア／榎本崇浩
○帯電ナノ液滴の合成と殺菌への応用／大阪府立大学／足立元明
○空気浄化ダクトによる大気汚染物質低減技術／大成建設技術センター／万字角英・生天目泰・森川泰成

■基礎講座：製薬用水とクリーン化技術２
○製薬用水へ求められる視点と水システムの全貌について／野村マイクロ・サイエンス／布目 温

■SEAJ News
○半導体製造装置 販売統計（平成18年9月）／日本半導体製造装置協会／編集部

■特集：次世代半導体洗浄技術
○東芝の65/45nmノード洗浄・乾燥技術（FEOL.BEOL）／東芝セミコンダクター社／冨田 寛
○ルネサスの65/45nmノード洗浄・乾燥技術（FEOL、BEOL）／ルネサステクノロジ／菅野 至
○ITRSロードマップにおけるWafer Environmental Contamination Control(WECC)／日立製作所／津金 賢
○メタルゲート/High-kゲートスタックのMOSFET作製プロセスとその洗浄技術／MIRAI-ASET／超先端電子技術開発機構／生田目 俊秀
○超希釈HF噴霧枚葉スピン洗浄“SCUD”／ソニー／平野栄樹・国安 仁・服部 毅
○超音波洗浄の原理と洗浄均一化、ダメージレス手法／カイジョー／副島潤一郎
○半導体洗浄技術の最新情報／ソニー／服部 毅
■コーヒーブレイク
○アントワープにてUCPSS2006報告／服部 毅
■特集：次世代半導体洗浄技術【製品紹介】…続く

■特集1：研究施設の安全管理とその課題
○研究施設による化学物質安全管理／神奈川産業技術センター／若倉正英
○実験・研究系廃棄物の安全な処理と今後の課題／ハチオウ／斉藤光男
○空調環境コントロールと実験室の安全／ビルディング・パフォーマンス・コンサルティング／北村規明

■特集2：VOC排出規制と処理・回収技術2
○光ファイバー型センサーによる微量ガス分析／東京農工大学／磯 守
○特殊シリカゲルを活用した無排水型VOC回収装置／出光エンジニアリング／深澤正志
○触媒酸化によるVOC処理／田中貴金属工業／菊原俊司

■コーヒーブレイク
○理科系は報われているか／服部 毅

■解説
○電子関連施設向け省エネルギー熱源システムの開発／大林組／与謝国平・宮原英男・吉田尚貴・西脇里志／環境計画研究所／伊藤信三
○続・VOC気中濃度予測手法に関する研究／長谷工コーポレーション／木村 洋／千葉工業大学／小峯裕己
○医薬品生産現場と知能ロボット／澁谷工業／村浜政貴
○食品衛生における手洗い／サラヤ／古田太郎
○精密部品用洗浄剤／ライオン／三宅 博
○高度なバイオクリーン施設構築に向けて／竹中工務店／齋藤 智

■製品と技術
○表面処理による製造装置における発塵対策／蒲田工業／飴本洋一郎
○天井カセット形パッケージエアコン用VOC除去フィルタ／鹿島建設／涌井 健・松本 肇・武廣絵里子／日本ピュアテック／西尾久夫・吉野浩和
○X線異物検査機／アンリツ産機システム／植山英弘

■特集１：フィルタにおけるクリーン化技術の最新動向
○半導体製造におけるフィルタの最新技術／三菱電機／園田信夫
○超純水の清浄化技術／オルガノ開発センター／大信紀子
○最新のフィルタ材料／北越製紙／渡辺正克
○超音波洗浄装置のクリーン化技術／カイジョー／副島潤一郎
○CMPの清浄化技術／荏原製作所／辻村 学
○薬液中の粒子検出器の現状と課題／リオン／松田朋信
■特集２：VOC排出規制と処理・回収技術１
○大気汚染防止法の改正に伴うVOC排出規制の考え方／経済産業省／神取 勉
○シリコーンゴム膜モジュールによるVOC回収／新潟大学／伊東 章
○マイクロ波を用いたVOC処理システムの開発／新日鐵化学／大西清高・樋口雅一／新日本製鐵／平 初雄／第和工業／高倉正照／奈良工業高等専門学校／梅原 忠／岡山大学／和田雄二／大阪大学／塚原保徳
■コーヒーブレイク
○半導体製造の未来を語るConFab2006／ソニー／服部 毅
■解説
○エアフィルタから発生する有機化合物の測定／国立保健医療科学院／鍵 直樹・池田耕一・柳 宇
○クリーンルーム内ケミカル汚染の実態調査／日本産業機械工業会／クリーンルーム委員会
○簡易増設型ケミカルフィルタの開発／鹿島建設／高橋幸成
○クリーンルームで使用される滅菌剤の現状と将来／国立医薬品食品衛生研究所／新谷英晴
■製品と技術
○液中のパーティクル管理をリアルタイムで簡単に／ミクニキカイ／林 泰寛・小堀裕子

■特集１：プラズマプロセス技術における最新動向
○低温プラズマリアクタを用いた混合系VOCの分解／（独）産業技術総合研究所　／菅澤正己
○オゾンを酸化剤としたVOC分解技術／九州大学／永長久寛
○プラズマ脱着を利用した環境浄化技術／大阪府立大学／黒木智之・大久保雅章・山本俊昭
■特集２：アスベストの特性とその問題を探る
○建築分野におけるアスベスト問題／立命館大学　／石原一彦
○石綿の性質と石綿含有製品／中央労働災害防止協会／福岡 清
○アスベストの特性、用途、ばく露の機会と健康障害／（独）労働安全衛生総合研究所／篠原也寸志・森永謙二
■コーヒーブレイク
○理科系のための・・・・（その６）服部　毅
■解説
○レーザー光シートによる実践的な微粒子の挙動解析／福井工業大学／浅田敏勝・木下雄介／ゴールドウイン／七間一誠
○低環境負荷型Ｃｕコンタクト界面洗浄プロセスの構築／東芝／魚住宜弘・中嶋崇人・松村 剛・吉水康人・冨田 寛
○空調機フィンからの微生物の飛散性の評価／高砂熱学工業／高橋秀人・荒川宏樹
○京都メカニズム、日本企業の活用に期待／日本貿易振興機構／別府真由美
○地域と連携した外部支援活動の重要性／島津製作所／大瀬潤三
○医薬品工場における空調設備の省エネルギー／三機工業／稲葉輝彦
○エアフィルタのリユース実現に向けて／ダイダン／中村 真・田村和也／産業技術総合研究所／鈴木 明／東北大学／猪股 宏
○シリコン表面有機物汚染における流速の影響／横浜国立大学／羽深 等・多和田正紀･竹内 隆・相原雅彦
■製品紹介
○光触媒を活用した新規消臭アクリル繊維／日本エクスラン工業／塩田博孝

＜8月号目次＞
■ 特集：純水を取り巻く技術と現状
○ 最近の洗浄技術動向 日本エスイーゼット 増本哲己
○ 原水処理から2次純水まで、排水回収を含む 栗田工業 小林秀樹
大澤公伸
○ 超純水装置のバルブ 野村マイクロ・サイエンス 草野 徹
○ 純水・超純水の清浄度表示法のＪＩＳ化提案 横浜国立大学 松本幹治
○ 半導体産業排水の処理技術 オルガノ 恵良 彰
○ 最新の純水精製技術 日本ミリポア 石井直恵
金沢旬宣
■ 製品紹介
○ 超純水システムの保守管理 野村マイクロ・サイエンス 阿部俊和
○ 超クリーンＰＴＦＥ製渦流タービンポンプ ニクニ 亀井正志
和田公一
○ 耐食FRP製機器の評価について ニッポリエンジニアリング 阿曽隆幸
○ 超純水設備用プレート式熱交換機 日阪製作所 田原靖士
○ 超純水用分離膜 日東電工 田原伸治
別府雅志
○ ラボラトリ用新超純水製造システム オルガノ 鈴木菜穂子
■ コーヒーブレイク
○ ますます多様化するＩＴＲＳ 服部 毅
■ 解説
○ ナノデバイス時代の静電気対策 職業能力開発総合大学校 岡野一雄
○ 先端半導体ウェハーの表面評価技術 MIRAI-ASET／超先端電子技術開発機構 杉山直治
○ 大幅な省エネ化を実現したクリーンルームシステム空調設備 柳町空気調和エネルギー研究所 柳町 潔
■ 製品紹介
○ リアルタイムで測定可能な新しいタイプの粒子カウンター 東京ダイレック 濱 尚矢
○ 精密洗浄用超純水電解オゾン水製造装置 クロリンエンジニアズ 土門宏紀
○ 交流式防爆型除電装置 春日電機 八木新治