クリーンテクノロジー 発売日・バックナンバー

■特集：製薬工場における清浄化技術
○製薬工場に求められる洗浄技術と将来動向／東洋エンジニアリング／島 一己

　元薬マルチ工場における機器類、配管系、切替え部の洗浄に関する現場的な問題点、設計する上での留意点、今後の動向の一つである粉体の取り扱いなどを中心に紹介する。


○封じ込め技術の課題と展望／日揮／入谷 剛・橋本尚美

　本稿では封じ込め技術を対応箇所で分類し、各項目において、封じ込めおよび交叉汚染防止の観点から、封じ込め技術の課題と展望について示す。


○入荷原材料の汚染防止対策／千代田化工建設／松本 治

　入荷原材料とそのハンドリング操作に起因する品質阻害要因を4分類（・内容物への外部からの異物混入　・内容物に分解・変質　・外装付着物の製品への混入　・混同による不適切物の混入）し、リスク要因と対応策を例示するとともに、GMPでの関連記述を示す。


○製薬工場における平面計画／千代田テクノエース／河島 勇

　医薬品施設のエンジニアリングで、生産設備設計と並んで重要な固形製剤施設と無菌製剤施設計画の傾向、コンセプト、事例を含め実際の計画に於ける留意点についても具体的に示す。


○空調自動制御設備とバリデーション／山武／芥川雅之

　空調自動制御システムもコンピュータシステムバリデーションの対象であるとの認識が、製薬関係エンドユーザの間で一般化しつつある。現場の担当者はどのように対応すればよいか、グローバルなガイドラインを参考に考察する。


○クリーンルームの殺菌・滅菌方法／テクノ菱和／品田宜輝・海老根猛

　本稿では、医薬品製造施設や実験動物飼育施設、研究施設等で実施されているホルマリン燻蒸を取り上げ、その具体的方法とホルムアルデヒドガスの無害化処理による室内外の環境対策手法を紹介する。


○製薬工場における防虫対策／イカリ消毒／今野禎彦

　本稿では、高度な製品管理が必要な製造設備において、どのようにして虫体異物混入事故が発生するのか、またこれを防止するための技法について紹介する。


〔製品紹介〕
○製剤設備における無菌設計技術／日本ミリポア／勢〆英明

■コーヒーブレイク
○理科系のための……（その11）／服部 毅

■解説
○次世代省エネデバイス技術／東芝／四戸 孝

　パワーデバイスは、インバータ家電からハイブリッド自動車、新幹線などに広く使われており、省エネ・環境保全のキーデバイスとしてその重要性が高まってきている。本稿では、実用化が現実味を帯びてきたSiCパワーデバイスの開発動向について解説する。


○シリコン材料表面の金属除去用新洗浄溶液／大阪大学／高橋昌男・小林 光

　半導体デバイス製造における表面洗浄はデバイス特性の劣化防止のみならず、歩留まり向上の点からも非常に重要なプロセスである。本稿ではシアン溶液を用いた半導体洗浄について紹介する。


○低パーティクルESD材料の開発／クレハ／西畑直光・川崎達也

　デバイス高性能化により最先端分野で切望されるクレンリネス向上および静電気破壊対策について、クレハでは、特殊炭素および独自分散技術を用いて低汚染性ESD対策材を開発した。今回、新規技術により、さらなるクレンリネス向上を行った結果を紹介する。


○バイオセンサーによる空気汚染測定法／東京大学／徐 長厚・金 鐘訓・加藤信介

　本研究ではカビ及びメダカをセンサーとし、シックハウス症候群で問題化されているホルムアルデヒドの空気中の濃度を評価した。カビ及びメダカのセンサーとしての有効性はあるものの、低濃度の気中ホルムアルデヒド濃度の評価については課題が残っている。


○DNA解析を用いた環境中真菌の測定／東海大学／山本尚理／東京大学／柳澤幸雄

　通常、環境中の真菌の検出方法として用いられている培養法は、死菌や培地に適合しない菌については検出することができない。一方、DNA解析法は、菌の生育能に依存することなく適用可能な手法である。真菌DNAを検出するためのプライマーやプローブの種類もこれまでに多数報告されてきていることから、今後、環境中真菌を検出するにあたり汎用的な手法となることが期待される。


○温室効果ガス排出量大幅削減に向けて技術が果たす役割／みずほ情報総研／甘利朋矢

　現在、将来における温室効果ガス排出量の大幅削減に向けた議論が活発に行われており、我が国においても相応の温室効果ガス排出削減が求められている。そこで、国内で発表されている温室効果ガス排出大幅削減達成シナリオを基に、民生部門における温室効果ガス排出大幅削減に省エネ関連技術が果たす役割について紹介する。


○パソコン使用に伴う室内空気汚染の抑制／富士通研究所／竹内文代・尾崎光男

　パソコンに関してVOC放散速度の測定方法と指針値が規定されている。製品から放散するVOCの管理には、源流である部品段階での放散挙動の理解と評価が重要である。バッグ法により捉えたVOC放散挙動、部品のスクリーニング試験方法について述べる。



■製品紹介
○MPC方式高圧瞬低対策装置／東芝三菱電機産業システム／森 治義

■企業シリーズ
○超純水中 超微量シリカの最新測定技術／スワン・アナリティカル・ジャパン／福田愛二

■基礎講座：分かりやすいクリーンルームの管理手法 7
○これだけは身に付けたい静電気対策の基礎知識／三菱電機／園田信夫

■特集：食物の安全対策とその課題
○食品工場の食中毒事故の傾向と対策／東京顕微鏡院／伊藤 武

　国内における微生物による食中毒事故は毎年700件（患者数約1万名）である。最も発生件数が多いのはノロウイルスで、次いでカンピロバクター、サルモネラ、腸炎ビブリオである。それぞれの病原微生物に対応した対策が必要である。


○食品安全に必要なシステムとは／ロイド レジスター クオリティ アシュアランス リミテッド／坂下琢治／近畿大学／米虫節夫

　食の安全を保証する仕組みつくりとともに、いかに安全を安心に変えるかも重要なことである。本稿では食品衛生7S、ISO22000、さらにFS31000を中心に、食品安全に必要なシステムの構築と運用について概説する。


○食品アレルゲン検査／オリエンタル酵母工業／矢野竹男・酒井裕美子

　食物アレルギー患者への健康危害の防止および社会生活の向上を目的として、平成14年より食物アレルギー表示が実施されている。本稿では、食品アレルギー物質の検出法の開発を行う上での困難性、ならびに検出法の有用性と注意点に関して報告する。


○食物の安全・安心に向けた食品検査／カルビー／古賀秀徳

　アレルギー物質（特定原材料）の表示に向け、食品中の特定原材料の有無について検査を実施してきている。その検査方法の概要および取り組んでいる検査業務の一端を紹介するとともに、その業務の中での困り事についても紹介する。


○食物アレルギーを取り巻く制度の現状と課題／東京大学／神奈川芳行

　食物アレルギー患者の健康被害防止のために、平成13年4月に食品衛生法が改正され、アレルギー表示制度が開始された。その後、食品中のアレルギー物質の検知方法の開発や、実態調査等に基づく表示対象物質の追加がなされているが、同制度の現状と今後の課題について解説する。


○環境化学発がん物質とその閾値／中央労働災害防止協会／福島昭治／大阪市立大学／魏民・梯アンナ・鰐淵英機

　ラット発がん実験から、遺伝毒性発がん物質には閾値があると結論する。非遺伝毒性発がん物質の中には発がんホルミシスを示すものがあり、確実に閾値が存在する。これらの事実は食品に含まれる化学物質の発がんリスク評価のみならず、リスク管理に大いに貢献する。



■コーヒーブレイク
○2つの課題を抱える将来の半導体製造／服部 毅

■小特集：ナノテクノロジー最前線
○ナノ粒子及びナノ構造体材料の合成と課題／広島大学／奥山喜久夫・Ferry Iskandar

　各種のナノ粒子材料について、現在企業から入手できる種類と大きさを紹介し、合成法の課題を述べた後、ナノ粒子材料のポーラス化、薄膜化、コンポジット化などの構造化における現状と課題を述べ、ナノ粒子材料をハンドリングする単位操作の重要性を紹介する。


○吸入によるナノ粒子の呼吸器沈着／放射線医学総合研究所／山田裕司

　エアロゾルと呼ばれる空気中に浮遊する微粒子は、呼吸を介して体内に取り込まれる。呼吸器への沈着はエアロゾル性状や呼吸生理状態などによって異なるため、吸入による健康影響を考えるに当たっては、先ず呼吸器内への沈着様式やその特徴を知ることが重要である。


○ナノテクの安全性と国際標準化／産業技術総合研究所／川崎 一

　国際標準化機構では、ナノテクの用語や計測技術の標準化とともに安全性についても議論されている。経済協力開発機構でも工業用ナノ物質の安全性や管理について議論されている。ここでは、これらの国際機関でのナノテクの安全性に関わる議論について紹介する。



■研究室紹介
○東京エレクトロン 技術開発センター 汚染制御グループ／東京エレクトロン／松井英章

■解説
○病院環境における空気調和設備の設計／日本設計／井田 寛

　本報では設計の立場から病院の空気調和計画における特徴のひとつである院内感染に対する空調計画例を紹介する。はじめに感染症の分類と感染経路について述べ、各室の洗浄度についての指針を紹介する。設計例として、一般病棟、クリーン病棟、感染病棟、手術部、特殊排気部門を示し、特に病棟空調計画については日和見感染対応の空調システム、シミュレーションモデルを紹介する。


○病院環境における気流の計画／東京大学／成 旻起・加藤信介

　病院の病室での室内気流の設計に際しては、気流により感染性の汚染物質や臭気などが室内に拡散するリスクを評価しこれの低減を検討する必要があろう。流体シミュレーションを用いた病室の気流検討の事例を紹介する。



■製品紹介
○半導体製造装置の諸元集計システム／富士通四国システムズ／仙波啓道／富士通マイクロエレクトロニクス／高田友之

■企業シリーズ
○超純水トレース用溶存酸素計／スワン・アナリティカル・ジャパン／福田愛二

■基礎講座：分かりやすいクリーンルームの管理手法 6
○これだけは身に付けたいクリーン化技術の基礎知識（その6）／三菱電機／園田信夫

■特集：太陽電池とクリーンテクノロジー
○太陽電池の現状と将来／産業技術総合研究所／近藤道雄

太陽電池への関心は急速な高まりを見せ、また生産量や産業規模も大きく膨らんできている。しかし導入ポテンシャルを考えるとまだ現状は序の口であり、更なる普及拡大が期待できる。本稿では太陽電池産業、技術の現状と将来について概観を述べる。
○NEDOにおける太陽光発電を用いた実証研究／新エネルギー・産業技術総合開発機構／諸住 哲

（独）新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO技術開発機構）では新エネルギーの普及に密接に関係する系統連係技術の実証研究を行っている。本稿では太陽光発電の利用を主とする実証研究において、その研究の目的と成果について解説する。
○太陽光発電集中連系時の課題と対応技術／電力中央研究所／小林広武

温暖化対策等により、導入ニーズが益々高まっている太陽光発電を対象に、配電系統に集中連係した場合の電圧管理面と保護保安上の問題点と、パワーエレ機器や通信を利用した、太陽光発電側、系統側それぞれの新しい対策技術の開発状況について述べる。
○太陽電池の製造プロセスとクリーンテクノロジー／三菱電機／有本 智

多結晶シリコン太陽電池は、量産レベルで15％以上の変換効率が容易に得られるようになっている。しかし更なる低コスト化の実現には、変換効率の改善と基板薄肉化が最重要課題である。本稿では、多結晶シリコン太陽電池の現状と今後の高性能化に向けた技術を紹介する。
○太陽電池用ガラス基板／旭硝子／尾山卓司

太陽電池市場の伸びは目覚ましく、今後も更なる拡大が期待されている。また使用原料の少ない薄膜型が市場における存在感を増している。本稿では、これらの太陽電池に用いられるガラス基板、特に薄膜太陽電池に用いられる透明導電膜付きガラス基板について述べる。
○薄膜太陽電池の新たな提案／アプライドマテリアルズジャパン／佐藤辰哉

地球環境に優しいエネルギー源として、太陽電池の需要は世界的に増大している。本稿では太陽電池技術について俯瞰すると共に、アプライドマテリアルズの『SunFab Thin Film Line』を題材とした新たな提案について紹介する。
○高効率太陽電池／三洋電機／辰見治彦・丸山英治

結晶Si系太陽電池は、現在の市場で圧倒的なシェアを占めている。本稿では、結晶Si系太陽電池の現状ならびに、三洋電機が開発したHIT太陽電池の特長および今後の低コスト化に向けたアプローチについて紹介する。
○太陽光発電という名のバブル／本誌編集委員長／服部 毅

■コーヒーブレイク
○常識を疑うシリーズ(6)／服部 毅

■小特集：ITRS2007改訂のポイント
○ITRS2007の概要／富士通マイクロエレクトロニクス／長田俊彦

目下45nmHik導入が進行しており、デバイス性能（処理能力／消費電力）が大きく改善している。またFLASHの1年前倒しで、微細化技術が一段と進歩している。他方、従来技術の改良により、半導体の利用範囲が広がり、新しい素子の開発も促進され、多様な可能性を示している。
○歩留まり改善における改訂のポイント／NECエレクトロニクス／桑原純夫

ITRSのYE章は、以前はDR（Defect Reduction）章と呼ばれており、SEMATECH会員会社がデータを公開／共有した欠陥低減プロジェクトの資産を引き継いだものだが、微細化／水平分業の進展等により、内容の見直しが求められている。
○ウエーハ環境汚染制御における改訂のポイント／日立製作所／津金 賢

ITRSにおける歩留まり改善の章は、歩留まりモデルと装置許容欠陥数（YMDB）、欠陥検出と特徴付け（DDC）、そしてウエーハ環境汚染制御（WECC）の3つに分けられている。本稿ではWECCの要求項目内容と改訂のポイントについて解説する。
○クリーンルーム搬送における改訂のポイント／村田機械／山本 眞

450mm、NGFが議論されているが、半導体工場内キャリア搬送の将来に大きな指針を与えるものの一つにITRSロードマップがある。主要な指標を2007年度版と2005年度版とを比較することにより、その変更のポイントを明確にする。
■解説
○TiO2/光触媒フィルタによるホルムアルデヒドの除去特性／朝日工業社／村上栄造／横浜国立大学／堀 雅宏

近年、光触媒を利用した空気浄化装置が普及してきたが、酸化能力が不十分な場合は、有害な中間生成物の発生を伴うことがある。本稿ではホルムアルデヒドを除去対象物質とし、強力なUV照射と光触媒ユニットの多段設置による有害生成物の抑制効果を紹介する。
○続・日本薬局方第15改正：製薬用水のJP、USP及びEP三局の比較／大気社／村上大吉郎

本誌2007年7月号において解説した『日本薬局方第15改正：製薬用水のJP、USP及びEP三局の比較』の続編として、JP15、USP30、さらにEUP2002の概要を示し、また合わせて3局の相違について解説する。
■研究室紹介
○清水建設（株）技術研究所 新クリーンルーム実験棟／清水建設／長谷部弥

■製品紹介
○半導体製造装置用軸受／ジェイテクト／奥田康一
○pnダイード温度センサのMEM型真空センサへの応用／メムス・コア／慶光院利映・小山克人・桜井史敏

■基礎講座：分かりやすいクリーンルームの管理手法 5
○これだけは身に付けたいクリーン化技術の基礎知識（その5）／三菱電機／園田信夫

■特集：CO2削減に貢献する半導体既設工場の省エネ対策
○ルネサステクノロジ高知事業所のエネルギ起源CO2削減活動／ルネサステクノロジ／高石 優・小笠原弘・柴田健一・岡林一夫

　ルネサステクノロジ高知事業所は、経済性・環境性の両立を目指し、CO2削減に積極的に取組んできた。本稿では、近年5年間の改善取組み内容と今後の改善施策について報告する。成果としては、2002年度～2007年度の5年間で動力設備のCO2排出量を11％削減した。
○セイコーエプソン酒田事業所の温暖化ガス削減活動／エプソンファシリティ・エンジニアリング／菅原達也

　セイコーエプソン酒田事業所では、瞬低対策において灯油を燃料とするコージェネレーションシステムにおいて効果を上げてきた。しかし原油価格の高騰等で化石燃料からの脱却が急務となった。本稿では短期間で実施した大規模なエネルギー構造転換の成果について報告する。
○クリーンルーム（CR）循環風量削減による省エネ／東芝セミコンダクター社／濱本鉄久・東 辰浩・末光秀吉

　半導体製品の製造においては、製造環境の高清浄度化、一定温湿度の維持等で、膨大な空調電力を消費している。本稿では、CR構造と製品運用の特性に応じて清浄度維持に必要な循環風量に緩和することで、空調電力の省エネを行った事例について紹介する。
○空調機気化式加湿化の取組み／ルネサステクノロジ／佐久間敏

　ルネサステクノロジ甲府事業所では、これまでCO2削減施策として、冷凍機や蒸気ボイラの高効率機器へのリプレイスやフリークーリングなどを実施してきたが、今回、空調機運転で多くの燃料エネルギーを消費する「加湿」の改善に取り組んだ内容について報告する。
○冷凍機用ポンプ流量制御システムによる半導体工場の省エネ／ダイダン／齋藤久士

　冷凍機用ポンプ流量制御スステム（フロースマート）は冷凍機の冷水1次ポンプ及び冷却水ポンプを空調負荷に応じて流量制御することでポンプの搬送動力を大幅に削減できる。これまで多くの導入実績を通じて安定性、安全性が確認されており、多くの省エネルギー化に貢献している。
○最高70℃取り出し可能な循環加温タイプ熱源機／神戸製鋼所／下田平修和

　近年、地球温暖化への取り組みから、高効率な熱源機の開発が進められているが、温水負荷への対応は十分ではない。本稿では、「最高70℃」の温水が取り出し可能な循環加温タイプの熱源機について、システムの概要と性能等の特徴を紹介する。
○省エネルギーに貢献するコンプレッサ／アトラスコプコ／三浦孝夫

　地球温暖化対策として、より省エネルギー効率の高い製品を供給することが、我々メーカには求められている。本稿では、主力製品であるインバータ制御コンプレッサの省エネルギー効果について、試験運転の結果や導入事例をもとに記述する。
■コーヒーブレイク
○韓国・忠清南道・牙山（アサン）市にて／服部 毅

■解説
○半導体デバイスのESD耐性評価装置の開発／阪和電子工業／澤田真典

　半導体デバイスは、高集積化・低電圧化により、ESDにおける耐性が低下している。そのためESD保護回路の開発と耐性確認は重要である。本稿では、ESD保護回路の開発を効率よく行えるツールについて説明する。
○半導体プロセス用20nmフィルターの性能／日本ポール／能勢昌之・水野豪仁

　最先端の半導体デバイスを製造する上で、ウエーハ表面からの粒子除去は必須であり、その要求は年々厳しくなっている。本稿では、最先端フィルターの性能を紹介すると共に、その評価方法についての取り組みを併せて紹介する。
○熱泳動力による微小パーティクルの付着防止挙動／東京エレクトロン／田村明威・松井英章・林 輝幸

　次世代パーティクル制御技術として、熱泳動力に着目し評価を行い、非常に高い効果が観察されている。本稿では60nmパーティクルウエーハの付着防止効果と、20nm程度の極微小パーティクルへの効果の理論的解析結果を報告する。
○化学物質管理とリスクコミュニケーションの今後の方向性／科学技術振興機構／安井 至

　化審法の見直しプロセスがはじまった。この法律は日本の化学物質管理の根幹をなす法律のひとつである。しかしいくつかの問題点が無いとはいえない。本稿では化学物質管理の考え方とともに、リスクコミュニケーションの方向性について解説する。
○環境に優しいデバイス除去技術／金沢工業大学／堀邊英夫

　電子デバイス製造においてレジスト除去は、薬液等を用いており環境負荷が大きい。今回加熱したタングステンに水素ガスを接触させ生成した水素ラジカルを用いたレジスト除去について検討した。除去されにくいイオン注入レジストも通常のレジストと同様に除去可能であった。
○VOC対策に向けた光触媒空気浄化装置／兵庫県立大学／服部 正・山下健治

　開発した紫外線LED面発光体は紫外線エネルギー分布の均斉度が非常に高く、光触媒空気浄化装置に適した紫外線光源である。また紫外線LED面発光体を用いた光触媒空気浄化装置は活性炭のみによる除去方法に比べ使用済み活性炭量を1/5以下に減少できることが確認できた。
○空気清浄機による室内微生物対策／松下エコシステムズ／稲垣 純

　健康意識の高まりから、一般家庭でも清潔な空気が求められている。空気清浄機を例として、室内に浮遊する粉塵・カビ・アレルゲンなどの捕集効果を示すとともに、空気清浄フィルタを清潔に保つための機能性素材について、その特長と効果を解説する。
○クリーンルームの清浄度評価について／ビオテスト／松本 泉

　製造に関わる環境の微生物モニタリングと原材料から製造ラインを含む最終製品までの清浄度管理は重要な問題である。本稿では、製造に関わる環境のモニタリングについて紹介する。
○液晶・プリント基板等のミスト洗浄用強打力2流体ノズル／いけうち／権藤政則

　エレクトロニクス製品の高精度化に伴い、洗浄においてもかなり厳しい要求が出てきている。特に液晶・プリント基板等の洗浄工程においては、従来の1流体ノズルでは限界があった。本稿では、粒子径が小さく、打力の強い2流体ノズルの特性について説明する。
■製品紹介
○クリーンリーム向け省エネ熱源システム／日立プラントテクノロジー／福井伊津志・中島健一
○光触媒繊維モジュール／宇部興産／柳比呂志

■基礎講座：分かりやすいクリーンルームの管理手法 3
○これだけは身に付けたいクリーン化技術の基礎知識（その4）／三菱電機／園田信夫

■特集：半導体製造における欠陥検査・分析技術
○半導体デバイス製造における分析／東レリサーチセンター／森田直威・坂口晃一・小川賢吾・萬 尚樹・寺田恵三・味岡恒夫

　半導体デバイス製造において、歩留まりを向上させるには、その発生原因を検証し改善・最適化することが肝要である。本稿では半導体デバイス製造に必要な解析と分析に関して述べるが、筆者が受託分析を行う立場を踏まえ、特に清浄化のための分析に関して述べる。
○シリコンウエーハの欠陥検査法／ケーエルエー・テンコール／玉木裕介

　45nm世代のプロセスでは、洗浄可能なデフェクトとそうでないものを自動分離する機能や、ウォータマークの検出などの付加的機能も求められている。本稿ではこれらの新しい機能を実例とともに紹介する。
○半導体製造装置におけるパーティクル監視／東京エレクトロン／守屋 剛・長池宏史

　デバイス性能の向上やコスト低減と合わせ、パーティクル等による製品歩留まりの低下が発生している。本稿では、量産ラインにおける半導体製造装置の清浄度を管理するために必要となるパーティクルモニタの課題、鍵となる技術について解説する。
［製品紹介］
○シリコンウエーハ内部欠陥検査装置／ケメット・ジャパン／岸田文樹

　ケメット・ジャパンでは、次世代半導体の歩溜まり、品質向上に寄与する検査装置に力を注いでいる。本稿では、従来は見逃されていた欠陥検査を定量化することを可能にした検査装置（エアーポケット）をについて紹介する。
○回路パターン欠陥検査装置／東京エレクトロン／西澤秀介

　半導体デバイスの製造工程においては、製品の歩留まりをいかにして高いレベルに保つかが非常に重要である。本稿では東京エレクトロンが販売提携結んでいるHMI社の欠陥検査装置2機種について紹介する。
○パターン付きウエーハ外観検査装置／東レエンジニアリング／山本比佐史

　半導体ウエーハの品質保証のために外観検査の重要性はますます高まっている。この課題を解決するために、東レエンジニアリングでは全数検査が実現できる高速検査装置を開発してきた。ここでは最新機種である“7000R”シリーズについて紹介する。
○ノンパターンウエーハ表面上のパーティクル及び欠陥の検出／トプコン／野田 啓

　ノンパターンウェーハ用表面検査装置は、半導体プロセスの歩留まり管理基ツールとして広く使用されている。本稿では、長年にわたり同装置を開発してきたトプコンのウエーハ表面検査装置WMシリーズについて紹介する。
○高精度最高速の検査性能を実現した三次元二次元ウエーハバンプ検査装置／高岳製作所／田嶋英幸

　技術開発速度の速いウエーハ分野での適用を目的としたウエーハバンプ検査装置を開発した。本装置は、φ300mmウエーハを高精度で1時間に16枚という速度で検査することができる。その製品の概要について紹介する。
■コーヒーブレイク
○半導体製造技術の最前線（下）／服部 毅

■小特集：病院内環境とクリーン化技術
○病院内環境調査／東海大学／松木秀明・田爪正氣

　病院内の空気中ホルムアルデヒド・二酸化窒素濃度、および空気中細菌・保育器および哺乳瓶保温器内水からブドウ球菌を分離、薬剤感受性試験によりMRSA、MRCNSの実態を把握するための調査結果について解説する。
○わが国の医療機関における院内感染対策の現状／東京歯科大学／須山祐之

　世界各国に広がる感染汚染の問題は今後の院内感染対策を見直す時期となった。しかし院内感染対策を重視した設備および医療従事者の感染に対する意識、知識は充分とはいえない。本稿ではわが国の院内感染対策の現状について解説する。
○病院における空調システムメンテナンス／日本ウイントン／清水 晋

　高度な医療が発展している現在、医師には高度な技術が求められ、また病院にも高度な医療に対応した設備を設置することが求められている。本稿では空調設備のメンテナンスと室内の清掃・消毒・清浄度測定など、トータルな衛生的メンテナンスの必要性について解説する。
■解説
○粒子の付着力と付着性／岡山大学／後藤邦彰

　「粒子が小さいと付着性が高い」というのはよく言うが、粒子が小さいと付着力が強いのであろうか？本稿では、粒子一平板間および粒子間で付着が起きる場合を例として取り上げ、付着性と付着現象の考え方を付着力と分離力のバランスに着目して整理してみる。
○自動車部品洗浄の技術動向／デンソー／柳川敬太

　近年、自動車部品は小型・精密化が進み、洗浄の重要性が高まりつつある。また製品競争力の向上には洗浄工程の合理化を追求し、コストミニマムな手法を選択することが必要である。本稿では自動車部品の洗浄と評価技術について、その概要と技術動向を解説する。
○ビル空調における微生物測定と空調機器対策／新日本空調／高塚 威

　2003年に健康増進法が施行されるなど、国民保健の向上に向けた行政の取り組みが本格化してきた。本稿ではビル空調の維持管理の視点から、臭気と微生物の関連性について測定・調査を行った内容を紹介し、空調システムにおける微生物対策や機器について解説する。
○ガスファンヒーターにおけるスギ花粉アレルゲンの除去効果の評価／大阪ガス／山下信彦

　近年、室内に浮遊する微小な粒子がヒトの健康に深く関わっていることが明らかにされ、関心が集まっている。本稿では、特に一般消費者の関心が高いスギ花粉に注目し、ガスファンヒーターのスギ花粉除去効果について評価した。
○空気清浄機の空中除菌性能の評価法／環境生物学研究所／阿部恵子

　近年、様々なタイプの空中浮遊微生物除去および防止のための機器が開発されているが、その性能については開発メーカでの評価となっている。本稿では客観的な立場において検証する空気清浄機の空中除菌性能の評価法について解説する。
■製品紹介
○光触媒の能力をフルに生かした脱臭殺菌装置／朝日工業社／村上栄造

■基礎講座：分かりやすいクリーンルームの管理手法 3
○これだけは身に付けたいクリーン化技術の基礎知識（その3）／三菱電機／園田信夫

■特集：微粒子挙動とシミュレーション
○気流・ダスト流れシミュレーション／新日本空調／岡本隆太

　近年、クリーンルームの気流設計には、CFDが多用されるようになってきている。本稿では、クリーン環境を構築するために極めて有用なツールであるシミュレーション技術をどのような問題に適用しているかを、実例を交えて解説する。
○微粒子のクリーンルーム内挙動／大林組／諏訪好英

　本稿では、クリーンルーム内の微粒子挙動について筆者の持っているイメージを示し、またクリーンルーム内の気流と微粒子汚染の対策において陥りやすい問題点、留意点について考察する。
○新しい気流の可視化／日本エアーテック／磯部好秀

　クリーンルームにおける気流の可視化方法には、タフト法や注入トレーサー法があるが、それぞれの長所とともに、短所も見受けられる。それらの短所、問題点を解決する装置として、クリーンビューワーの構造と特長について紹介する。
○設計者が利用する熱流体解析の現状と今後／ソフトウエアクレイドル／吉川淳一郎

　本稿では、熱流体解析ソフトウェア開発会社の立場から、ソフトウェアの問題点や運用方法、利用者に求められる能力に解説する。また最近変化が大きい熱流体解析を利用するコンピュータ環境などについて紹介する。
○フローセル方式のパーティクルカウンタによる新たな汚染粒子の測定／リオン／近藤 郁

　半導体やFPDなど、電子デバイス産業における生産効率の向上には、汚染粒子の抑制が必須であり、より効果的な粒子管理方法が常に求められている。本稿では粒子の挙動を考慮した新たな粒子測定管理への試みについて説明する。
○クリーンルームにおける微粒子解析事例／日本カノマックス／宮田雄二

　クリーンルームを評価する上で、空気中の微粒子計測は最も重要な要素である。またその解析を行うことは、発じん源の特定を行う上で、重要な要素である。本稿では浮遊微粒子濃度試験機やクリーンルームにおける発じんの問題等において、事例とも合わせ解説する。
○有機EL用燐光材料の高効率製造技術／産業技術総合研究所／今野英雄

■コーヒーブレイク
○半導体製造技術の最前線（上）／服部 毅

■解説
○バッチ式シリコンウエハ洗浄機における超音波と水流／横浜国立大学／羽深 等・岡田勇太・吉井拓史／プレテック／加藤正行

　電子回路の作製においては各工程において発生した汚染、残渣などを取り除くために、大口径のシリコンウエーハを頻繁に洗浄することとなる。本稿では、バッチ式洗浄槽における水の動き・流れに対する超音波の効果について観察を行ったので、その詳細を報告する。
○電解硫酸によるレジスト剥離システム／栗田工業／永井達夫

　半導体製造工程のレジスト剥離処理としてSPM法が広く用いられているが、大量の硫酸と過酸化水素を使用することが課題となっている。そこで硫酸を電気分解することで過硫酸を生成し、その強力な酸化力を利用する技術を開発した。
○自動車車室内の空気質に関する基礎的研究／武蔵工業大学／岩下 剛

　自動車室内の空気環境に要求されるレベルは建築の居住環境に近くなってきている。本研究は走行環境及び停車環境において乗員が曝露される空気質について調査することを目的とし、粉塵、超微粒子、オゾンの各濃度を求め、健康性・快適性・運転作業性への影響を検討した。
○大気圧プラズマによる廃棄物処理システム／東京工業大学／渡邊隆之／クリーンテクノロジー／大槻浩司

　大気圧プラズマ技術は環境問題の解決のための先端基盤技術の一つとして、現在注目を集めている分野である。本稿ではフロン、ハロン、PFC、およびPCBを大気圧プラズマによって分解するシステムについて紹介する。
○植物を活用した新しい環境再生システム／奈良先端科学技術大学院大学／松井　健史／辻本正直

　植物を利用した水処理システムは、低コスト・省エネルギー型システムとして期待されている。環境ホルモンの除去・分解能に優れた高機能植物と、廃棄物再利用濾材を組み合わせた植物栽培型浄化システムについて紹介する。
○磁気力を利用した水の浄化と回収物質の再資源化／首都大学東京／伊藤大佐

　磁気分解により、ウラン汚染水のゼロエミッション浄化及びリンの回収と再資源化が可能であることを示した。原子炉の燃料棒冷却水中の放射性重金属の浄化と放射性廃棄物の減容化、及び下水処理場等でのリンの浄化と回収したリンのリサイクルに適用可能である。
○VOC排出抑制のためのプロセスモデリング／東京大学／菊池康紀・平尾雅彦

　金属加工に不可欠となる洗浄プロセスにおいて、VOCの排出抑制が必要となっている。本研究では、様々な対策技術を適切に評価し同入するため、工業的装置を用いた定量実験に基づき、洗浄装置モデルを構築している。モデルの概要とこれまでの成果を説明する。
○過熱水蒸気を用いたガラス基板端面洗浄技術／三菱電機／野田清治・中井隆文／島田理化工業／片岡辰雄

　ガラス切断後に端面に付着した異物を除去する目的で過熱水蒸気を利用した洗浄ツールを開発した。過熱水蒸気処理は従来の二流体ノズルによる処理と比較して性能が2倍高く、処理時間1秒以内で研磨後の基板の端面異物量を50％以上減少できることが分かった。
○活性炭におけるVOCの単成分系および2成分系の吸着／高砂熱学工業／秋山貴洋

　活性炭を用いて空気中のVOCを除去する際の吸着現象に関して、単成分系の吸着平衡、および多成分系の吸着平衡のモデル化の方法について紹介する。また、活性炭フィルタにおけるトルエン＋ベンゼンの2成分系での吸着脱離挙動のシミュレーション事例を示す。
○クリーンユニットシステムプラットフォーム(CUSP)による極限光洗浄度ISOクラス-1(マイナス1)の実現／北海道大学／石橋 晃

　自然界には非常に大きな階層構造がある。トップダウン、ボトムアップの両系を接続・統合することができれば相乗効果が引出せ、人類の未来に展望が開ける。クリーンユニットシステムプラットフォームは、科学技術及び生産現場でこの大きな可能性を支え、また現実化していく一助となると期待されている。
○クリーンルーム用衣服の動向と将来展望（後編）／福井工業大学／浅田敏勝／ゴールドウィン／七間一誠

　クリーンな作業環境を維持するために、人が身に付ける衣服は、発塵源としても防塵源としても重要な役割を演じている。本稿（後編）では、クリーンルーム用衣服の着衣管理と設計について解説する。
■基礎講座：分かりやすいクリーンルームの管理手法 2
○これだけは身に付けたいクリーン化技術の基礎知識 その2／三菱電機／園田信夫

■特集：有機ELパネル製造の現状を探る
○有機ELパネルの市場動向／アイサプライ・ジャパン／増田淳三

　有機ELは、機構的に表示部は個体、厚さは数ミリメートルで軽く、次世代ディスプレイとして期待されている。この自己発光の固体ディスプレイが誕生して20年、製品化が始まって10年の節目にあたる。本稿では誕生20年目の次世代ディスプレイ有機ELの課題と今後の動向について探る。
○有機EL材料の開発状況／出光興産／酒井俊男

　出光興産では、有機EL素子に用いる材料開発を行っており、最近、非常に長寿命・高効率な蛍光型RGBの発光材料を見出した。本稿では低分子型有機EL材料の開発状況を概説するとともに、当社の最新材料を用いた蛍光3波白色素子の性能について紹介する。
○有機ELパネル製造でのユーティリティ／東北デバイス／赤星 治

　市場から有望視されて久しい有機ELであるが、その量産化には未だ課題が多い。大きな理由の一つが現在の主流である蒸着式成膜に起因することが多く、本稿では有機EL製造に求められるインフラとその理由について述べる。
○有機EL基板における薄膜平坦化・洗浄／トッキ／氏原孝志

　有機EL素子におけるホール注入電極（ITO膜）表面は、発光のきっかけとなるところであり、その表面状態は有機EL素子とって非常に重要であり、厳しい性能が要求される。この重要なITO膜表面の欠陥を無くし、有機EL素子の性能を向上させる薄膜平坦化・洗浄技術について解説する。
○有機EL照明パネルの異型切断／三星ダイヤモンド工業／前川和哉・阪口良太・川畑孝志

　技術開発、ガラスの大型化が進んだ液晶，PDP、有機ELパネルを効率良く切断することを可能にしたブレークレス・ガラス切り（Penett靠）を用いたガラス分断技術と異形切断への応用について述べる。
○有機ELパネル製造の局所クリーン化／日立プラントテクノロジー／平田順太

　有機ELパネル製造用クリーンルームでは、環境中の水分と有機物による汚染の防止が求められる。乾式除湿ローターによるドライ・ケミカルフリーな空気を生成し、装置周辺とメンテナンスエリアを局所ドライ・ケミカルフリー化を図ることで汚染防止を図る。
○有機EL用燐光材料の高効率製造技術／産業技術総合研究所／今野英雄

　本稿では、代表的な燐光材料であるトリス－シクロメタル化イリジウム錯体の合成法の現状と課題について述べる。また著者らが現在取り組んでいるマイクロ波を用いた新しい合成法について紹介する。
■コーヒーブレイク
○コーヒーブレイク／服部 毅

■解説
○クリーンルーム用衣服の動向と将来展望（前編）／福井工業大学／浅田敏勝／ゴールドウィン／七間一誠

　クリーンな作業環境を維持するために、人が身に付ける衣服は、発塵源としても防塵源としても重要な役割を演じている。本稿（前編）では、クリーンルーム用衣服と評価方法（人体発塵とクリーンルーム用衣服の現状）を中心に解説する。
○誘引型置換換気空調システムの非一方向流型クリーンルームへの適応性評価／高砂熱学工業／守屋寛之

　旋回流を組み合わせ、吹出し誘引作用を高めた誘引型置換換気空調システムを実施したクリーンルームにおいて、通常運転時（Operational）での浮遊微粒子濃度および温度の実測結果を報告し、作業域の清浄化および省エネルギー化の有効性検討について述べる
○解剖学実習室におけるホルムアルデヒド環境の改善手法／三機工業／新村浩一／自治医科大学／大河原重雄

　大学医学部の解剖学実験室におけるホルムアルデヒド環境を改善するために、発生量の把握から空気浄化システムの検討、効果の確認といった一連のプロセスについて、事例をもとに提示する。
○FFUによる気流制御の効果／九電工／清原晃二・福島逸成・馬場 健

　FFUによる気流制御を適切に行なうには、クリーンルームの使用目的に応じて、費用対効果を含めて総合的に検討する必要がある。本稿では実大模型実験と気流シミュレーションの解析結果をもとにFFUによる気流制御の効果について解説する。
○超臨界二酸化炭素中の微粒子計測技術／オルガノ／菅原 広

　超臨界二酸化炭素用光散乱式パーティクルカウンタの開発を行い、微粒子評価を行い、29.8MPaの耐圧を有し、純水中PSL相当径で、0.3μm粒子の計測可能性が示唆された。
本稿では超臨界二酸化炭素中の微粒子計測技術における研究成果について紹介する。
○自動車部品の洗浄とその清浄度測定／森合精機／松村繁廣

　自動車業界の加工部品洗浄では、清浄度が高くまた被洗浄部品の形状・機能に見合った洗浄装置と洗浄後の清浄度測定が、清浄度の高い機能部品の製造ラインで重要な工程を担っている。本稿では実用的なこれら洗浄技術・事例と洗浄後の清浄度測定について紹介する。
○宇宙用観測機器のコンタミネーション管理技術／物質・材料研究機構／木村秀夫／宇宙技術開発／浦山文隆

　地球の周りには人工衛星が飛び交い、社会に恩恵をもたらしているが、機器の高感度化が進むにつれ、コンタミネーションによる機器の感度低下、短寿命化の問題が顕在化してきた。本稿では、宇宙でのコンタミネーション問題に対する取り組み例について紹介する。
■シリーズ：研究室紹介
○九州大学 工学研究院 精密加工学研究室／九州大学／土肥俊郎・黒河周平・梅崎洋二

■製品紹介
○超純水製造装置／タキエンジニアリング／古杉哲也
■基礎講座：分かりやすいクリーンルームの管理手法 1
○これだけは身に付けたいクリーン化技術の基礎知識 その1／三菱電機／園田信夫

■SEAJ News
○半導体製造装置 販売統計／日本半導体製造装置協会

■特集：最新半導体洗浄技術
○超臨界流体を用いた次世代半導体洗浄技術／Hattori Consulting International／服部 毅
○高dose II剥離におけるSPMレス洗浄の検討／富士通／佐藤俊哉
○300mmウェーハ用超臨界CO2洗浄装置／エスペック／稲原順一
○酸化膜エッチング液の枚葉スピン洗浄への適用検討／Sachem Inc.／Russell Stevens
○母材損傷を最小化するための石英管洗浄薬液及び洗浄方法／JIWONTECH／Gi-Won Lee
■コーヒーブレイク
○半導体洗浄技術最前線／服部 毅
■特集：最新半導体洗浄技術
〔製品紹介〕
○環境配慮型ケミカルレス洗浄のための高温・高濃度オゾン水洗浄装置／アイシーエフ／久野 敏明
○HDIレジスト剥離装置／アクアサイエンス／森平恭太
○ユニークな技術で45nm以降の半導体先端デバイスに対応／アプリシアテクノロジー／三浦和弘
○ウェット処理技術を中核とした次世代装置開発／エス・イー・エス／清水哲也
○大日本スクリーン製造の洗浄装置／大日本スクリーン製造／松永 聡
○ダメージレス・メガソニック枚葉洗浄／丸紅／松角大介
○差込全周容着方式による継手商品化／フロウエル／三徳正孝・鈴木 勲
○半導体用剥離・洗浄液／デュポン／平沢聡美
■小特集：太陽光エネルギー技術の現状
○太陽光発電のさらなる発展にむけて／豊田工業大学／山口真史
○薄膜系太陽電池の取組みについて／三菱重工業／石田信久
○太陽電池パネル製造プロセス向け排ガス除害・粉体処理装置／三菱化工機／岸本保之
■解説
○超短工期を実現する「モバイルファシリティユニット」工法の実際／大気社／森 卓也
○新しく注目される化学物質PFOSの分析技術／住化分析センター／吉田寧子・木村義孝
■シリーズ：研究室紹介
○横浜国立大学大学院 工学研究院 松本・中村研究室／横浜国立大学／松本幹治
■基礎講座：エンジニアリングのためのGMP豆知識9（最終回）
○医薬品製造における製薬用水の要件／GMPリサーチ／山川康泰
■SEAJ News

○半導体製造装置 販売統計／日本半導体製造装置協会

■特集：用途別にみるフィルタの最新動向
○エアフィルタの技術動向／日本エア・フィルター／岡本正行

　エアフィルタの構成、材料、機能等の基本的事項を述べながら、最近の動向をろ材開発を含めて紹介した。また、環境に優しい製品を意識して、ろ材交換型、再成式エアフィルタに加え、エコマーク製品も記述した。さらに抗菌、ガス除去フィルタの特性等も動向に加筆した。
○化学汚染対策用ケミカルフィルタ／ダン・タクマ／吉澤 巌

　半導体製造に関わる環境の化学汚染制御を実施するためのケミカルフィルタを用いた化学汚染制御技術全般に加え、最近の事例「ArFレーザーを用いた露光機で、低沸点Si化合物が原因とされるヘイズ発生」とその対策に触れる。
○超純水製造システムにおける逆浸透膜／栗田工業／新井伸説

　逆浸透膜は、超純水の製造過程において、イオン、有機物、微粒子を除去する分離膜として欠かすことができない。本稿では、超純水製造システムにおける逆浸透膜の利用について、また技術課題の一つである膜汚染対策、特に有機物汚染への対策方法について紹介する。
○逆浸透膜の技術／日東電工／越前 将・小原友海

　逆浸透膜は、さまざまな水処理用途に利用されているが、限られた地球資源を有効利用し、環境への負荷をできるだけ少なくするための省エネルギー化が要求されてきた。逆浸透膜による水処理の動向について概説する。
○金属除去フィルタの効果／日本インテグリス／橋本幸雄

　半導体製造で用いる超純水用金属除去フィルタの効果について紹介する。使用済みフィルタの多孔質膜、イオン交換膜に捕捉された粒子、およびイオン交換膜補足金属の分析を通して、極限まで純化された超純水の清浄度について考察する。
■コーヒーブレイク
○理科系のための…（10）／服部 毅

■解説
○嗅覚測定の精度管理と不確かさの推定／山口大学／樋口隆哉

　臭覚測定法の信頼性を確保するために、平成14年に精度管理マニュアルが取りまとめられた。今後は不確かさの算出方法を確立し、測定結果を解釈する際の統一的手順を提供することが求められる。
○可視画像を用いた大気エアロゾル観測／京都大学／大西将徳

　大気エアロゾルの高密度観測を実現する新しい観測手法として、大気分子と大気エアロゾルの散乱光の角度分布の違いを利用することで、可視画像から大気エアロゾル量を推定する観測手法を提案した。
○石油汚染土壌の高効率生物処理技術／立命館大学／松宮芳樹・久保 幹／大和化成／蓑田正史

　特殊微生物を用いた高効率バイオレメディエーションの開発に関し、石油汚染土壌の現状、石油を分解する特殊微生物の分離と特徴、さらに微生物挙動解析技術を用いた石油汚染土壌浄化に関するバイオレメディエーションの効率化について解説する。
○クリーンルームにおける室圧変動に関する実験的測定／戸田建設／村江行忠・岩村多美勇

　本稿では、様々な室圧制御が可能な実験室における扉開閉時および局所排気稼働時などの室圧変動に関する実験結果について報告する。
○石棉含有吹付け材除去工事における石綿粉じん濃度調査／清水建設／名知洋子

　吹付け材除去工事における作業区画の石綿粉じん濃度を測定し、・建物周辺と敷地内の作業区画における石綿粉じん濃度について、問題がないレベルにあること、・除去作業環境は適切に管理されていたことがわかった。
○電子機器から放散されるにおいの評価／住化分析センター／大嶋洋司

　製品からの化学物質放散量は、種々の試験法に基づき評価が行われているが、規制された成分以外に、製品から放散されるにおいが、近年注目を集めている。そこで我々は、レーザープリンタから放散されるにおいについて、評価を行った。
○GCにおいかぎによるにおい成分の測定／ジーエルサイエンス／千賀芳紀

　混合成分中の重要なにおいkey成分を特定するのにGCにおいかぎ法がある。これはキャピラリーGCの分離能を利用して単一のにおい成分をかぎわける有効な手法である。ここではGCにおいかぎに関する基礎、問題点やその対策を踏まえながら解説を行う。
○サンプリングバッグを用いた揮発性有機化合物の放散測定に関する研究／いすゞ中央研究所／達 晃一

　自動車業界を中心に利用されているサンプリングバッグ法について、実際の使用において注意すべき項目を、データを基に解説する。またバリデーション法について紹介する。
○宇宙機の熱真空試験における汚染防止／宇宙航空研究開発機構／猿渡英樹

　適切な汚染管理は、宇宙機の開発においても重要である。特に宇宙の高真空極低温環境を模擬する熱真空試験では、常温常圧環境よりも汚染の危険が高い。そのような環境における汚染管理の概要を紹介する。
■製品紹介
○VOC測定装置／伯東／厚木辰三
○工業分野向け高精度・高耐久な温湿度変換器／テストー／黒瀬佐知子
○新たなフッ素系不活性液体の開発／住友スリーエム／片岡 将和／3M Company.／Michel G. Costello
○超音波ノズルを活用した洗浄真空乾燥装置／ヤマトテクノス／山本義治
○先進の薄型ファンフィルタユニット／松下エコシステムズ／常川健留

■基礎講座：エンジニアリングのためのGMP豆知識9
○無菌医薬品製造における空調設備要件／GMPリサーチ／山川康泰

■SEAJ News
○半導体製造装置販売統計／日本半導体製造装置協会

■特集：半導体用洗浄薬液の最新動向
○先端半導体用薬液の現状と動向／本誌編集委員／服部 毅
○High-k/メタルゲート構造形成プロセスとエッチング・洗浄技術／半導体先端テクノロジーズ／佐藤基之・杉田義博
○Cu/Low-k構造プロセスの課題と洗浄技術／大日本スクリーン製造／杉本憲司・荒木浩之・今井正芳
○銅配線用CMP後洗浄液の開発／富士フイルム／西脇良典
【製品紹介】
○Cu/Low-k用の薬液／関東化学／小田貴文
○高性能Cu-CMP用後洗浄剤の特徴／和光純薬工業／林田一良
■コーヒーブレイク
○還暦を迎えたトランジスタ／服部 毅
■解説
○室内空気中の化学物質と吸着現象の基礎／九州大学大学院／伊藤一秀
○ホルマリン燻蒸対策技術／五洋建設／高橋祐一・小座野貴弘・末永義明
○虫は入れない／竹中工務店／稲岡 徹
○食品プラントで使用されるバイオサイドの特性と応用／アーチ・ケミカルズ・ジャパン／清野和浩
○食品の微生物学的リスクアナリシス／国立医薬品食品衛生研究所／山本茂貴
○企業におけるCSR活動について／アサヒビール／麻生尚輝
○アジアの環境水と食品の衛生状態／京都大学／西渕光昭・中口義次・小板橋努
■製品紹介
○0.1pA超の低ノイズ測定環境を実現した空気冷却式サーモチャック装置／東京ガスケミカル／秋澤徹郎
○塩分やアルミ包材に影響を受けない高感度金属異物検出技術／トック・エンジニアリング／近藤信一
○超極細繊維ワイパー／三菱製紙／松岡昌伸・兵頭建二
■基礎講座：エンジニアリングのためのGMP豆知識8
○無菌医薬品の製造過程に要求される洗浄度レベル／GMPリサーチ／山川康泰
■SEAJ News

○半導体製造装置販売統計／日本半導体製造装置協会

■特集：次世代半導体材料開発最前線
○総論 次世代半導体材料開発／次世代半導体材料技術研究組合／川本佳史
○次世代向けCMP材料の開発／JSR／長谷川亨
○ポーラスLow-k膜の物性評価技術／JSR／小久保輝一
○特殊材料ガスのビジネス展開とその課題／昭和電工／大久保雅裕
○Low-k、バッファコート材料の開発／住友ベークライト／朝隈純俊・番場敏夫
○耐熱化とウエーハ裏面加工プロセスへの応用／積水化学工業／杉田大平・大山康彦
○半導体製造におけるリソアシスト材料の開発／東京応化工業／熊谷智弥
○ポジ型感光性ポリイミドの開発と300mmプロセスへの対応／東レ／富川真佐夫
○ARC関連材料の開発とその課題／日産化学工業／渡邊久幸・中島康之
○CMPスラリー／日立化成工業／木村忠広・芳賀浩ニ
○フォトレジスト、CMPスラリ、Low-kの開発とその課題／富士フィルム／樽谷晋治・加藤知夫・浅野 明

■コーヒーブレイク
○セミコン・ウェスト2007／服部 毅

■解説
○電気集じんに関する新しい技術／豊橋技術科学大学／水野 彰
○異物対策の現状と検出・防除技術の課題／日本生活協同組合連合会／佐藤邦裕
○天然成分を用いたウィルス撃退フィルター／三菱製紙／奥 恭行
○進化するX線異物検出技術の最新動向／アンリツ産機システム／植山英弘
○包装品の密封不良検出への取り組みと改善課題／ニッカ電測／上村久仁男

■シリーズ：研究室紹介
○福井工業大学 浅田研究室／福井工業大学／浅田敏勝

■製品紹介
○花粉症対策用エアシャワー／三機工業／横山峰二・飯嶋和明・新村浩一
○エアロゾルエレクトロメータの原理と計測法／東京ダイレック／船戸浩二

■基礎講座：エンジニアリングのためのGMP豆知識7
○無菌医薬品製造における清浄度レベル／GMPリサーチ／山川康泰

■SEAJ News
○半導体製造装置販売統計（7月）／日本半導体製造装置協会

■巻頭企画：半導体ファシリティ座談会
○半導体工場、省エネ化の成功例と今後の課題／編集部

■特集：食品工場とクリーンテクノロジー
○輸入食品の安全性確保のための取り組み／東京顕微鏡院／伊藤 武・朝倉敬行・加藤文秋

輸入食品への依存度が極めて高い我が国において、国内生産品と同様に輸入食品に対しても安全性確保のために様々な対策を実施している。ここでは輸入食品の安全性確保のために実施している国内での取り組みと検査について解説する。
○タンパクふき取り法による食品製造現場での自主衛生検査の活用と有効性／農業・食品産業技術総合研究機構／川崎 晋

食品安全基本法制定後、自主衛生管理への取り組みがされ始め、多くの食品企業が微生物検査を実施している。その中の総合的な汚染度や洗浄度を迅速に評価できる技術であるタンパク拭き取り検査法について紹介する。
○清浄度分布をふまえたATP値の評価とその効果について／静岡県厚生部生活衛生局／小林千恵

食品営業施設の現場指導に活用できるATP抜き取り検査値の評価法を検討した。監視の際には、業種・業態別の洗浄度分析図を用いてATP値の評価を行うと、従事者の衛生管理の意識を高める効果と指導の効果を再検討することができた。
○流通の国際化と日本の現状／食品環境研究センター／新蔵登喜男

グローバル化の時代の中で、食品の規制も自国のみならず関係国の法令との関連性を考慮し、人口問題を見据え、マクロ的な視点にたって安全施策を立てるために、中国などのアジア地区を中心とした食の生産現場と国内の食の生産現場の実情を報告する。
○食品中の極小金属を見つけ出す／豊橋技術科学大学／田中三郎

食品内の異物検出法には渦電流方式、X線方式などがあるが、これらの方法では細いステンレス素線などの異物を検出することが難しい。超伝導センサ方式は披検査物を強力磁石で磁化し、その残留磁化を超高感度センサで計測するので、高感度な検出が可能である。
■コーヒーブレイク
○「40年ぶりのトランジスタ大変革」を読み解く（下）／服部 毅

■解説
○カビの測定におけるPDAとDG18培地の比較／国立保健医療科学院／柳 宇

カビの測定によく用いられるPDAとDG18培地の比較実験を中心に、国内外における研究や開発の現状と問題点について述べ、さらにISOの最新動向を含めた新しい情報を紹介する。
○最近のSEMI省エネルギー化促進活動／東京エレクトロン／井深 成仁

SEMIでの省エネルギー化推進活動は、ビジネス的側面でのEHSディビジョン傘下と、標準化推進活動傘下の両方で行われている。その中で、SEMIが取り組んでいる半導体製造装置の省エネルギー化促進活動について紹介し、課題と展望を述べる。
○超純水中の新しい微粒子計測方法／野村マイクロサイエンス／草野 徹

半導体産業ではDRAMハーフピッチの微細化が年々進み、超純水中の微粒子を厳しく管理する必要があるが、これまでの微粒子計測技術では困難であった粒子サイズ20nmを計測する新しい直接検鏡法が完成したので紹介する。
○バイオハザード対策施設の省エネ対策／イーアンドイープランニング／田中 稔

現在、あらゆる分野で省エネルギーが求められており、バイオハザード対策施設についても例外ではないが、安全を最優先とする施設において設備や運用の特徴、エネルギー使用の特性を明らかにし、安全第一を前提に、どのような省エネ対策が有効であるかについて考察する。
○ビル室内の作業環境に関する調査研究／東京美装興業／山野裕美

ビル管理者の作業環境や衛生環境の実態を把握することを目的とし、管理者に対してもより良好な環境となるよう、ビル室内での作業環境の調査研究を行ってきた。ここでは、清掃・設備・警備の控え室の室内環境測定及びアンケート調査を行った結果について報告する。
○屋内外環境での空中浮遊微生物数の変動／竹中工務店／齋藤 智

一般住環境や食堂厨房などでの環境衛生への基礎データとして、屋内と屋外の空中浮遊微生物数を、様々な季節・天候・時刻、場所で調査を行った。また、同時に空中浮遊粒子数や温湿度についてもデータを取り、浮遊菌数との関連について考察した。
○塗って作る高性能絶縁膜／産業技術総合研究所／小笹健仁

印刷による電子デバイス製造技術におけるキーポイントとなる低温塗布による高性能絶縁膜の作製技術を開発した。オゾンや紫外光を用いて形成される高純度の酸化シリコン薄膜はシリコン熱酸化膜と同等の高い表面平滑性と絶縁性能を同時にもたらした。
○用途拡大によるアルミ形材の浸透／三協マテリアル／桶 弘明

食品工場とも関わりのあるクリーンブースを中心に、これまでの弊社製品の採用事例の一部を挙げ、アルミ合金の特長とその使用メリットについて、さらに具体的採用例などから、アルミ形材の可能性について紹介させて頂く。
■シリーズ：研究室紹介
○慶應義塾大学理工学部 応用化学科環境化学研究室／慶應義塾大学／田中 茂

■製品紹介
○中性能、減容HEPAフィルター用濾材／三菱製紙／吉田光男・木村 薫
○空気浮上式ガラス基板搬送コンベア／第一施設工業／大田健一

■基礎講座：エンジニアリングのためのGMP豆知識6
○無菌医薬品製造のGMP・ガイダンス／GMPリサーチ／山川康泰

■SEAJ News
○半導体製造装置 販売統計／編集部

■特集1：シリコンウエーハを取り巻く課題とその対策
○シリコン表面における複数種有機物分子の吸着脱離挙動／横浜国立大学大学院工学研究院／羽深 等・山屋大輔
○化学汚染がデバイス特性に与える影響／NECエレクトロニクス／白水好美
○シリコンウエーハの先浄技術／日立製作所／津金 賢
○微小パーティクルの挙動と制御／東京エレクトロン／林 輝幸・田村明威・土橋和也
○新型液中パーティクルカウンタについて／リオン／木本幸弘

■特集2：マスフローコントローラの最新動向2
〔製品紹介〕
○半導体製造業界向けMFC設計におけるCFDの利用／Advanced Energy／Mike McDonald
○Brooks/MSP気化器によるダイアモンド-ライク コーティング改善／Brooks Instrument／Ed Fisher・Rich.Fravel／日本エマソン／黄 宏勝
○実使用ガス流量精度保証MFC／日立金属／杉本真郷
○ALD及びCVD用成膜材料の気化供給技術／リンテック／小野弘文

■コーヒーブレイク
○「40年ぶりのトランジスタ大変革」を読み解く(上)／服部 毅

■解説
○事業継続マネジメント(BCM)のすすめ／SEMI日本地区BCM研究会／黄野吉博・白澤健志
○導電性微小粒子物質検知装置の開発／近代テクノリサーチ／菊地守夫
○機械設備用イソブチレン系耐震材／龍田化学／谷口 薫
○プリント基板表面のプラズマ洗浄／サーフクリーン／加藤聖隆
○半導体製造用集積化ガス供給システム／フジキン／池田和弥・土肥亮介・西野功二・永瀬正明・山路宮治雄・篠原 勉・谷川 毅
○カーボンナノチューブによる揮発性有機化合物の選択除去／北海道大学／曽根弘昭・古月文志

■シリーズ：研究室紹介
○長岡工業高等専門学校 電気電子システム工学科 電子材料研究室／長岡工業高等専門学校／片桐裕則

■製品紹介
○導入が進むクリーン度常時監視システム／日本電産サンキョー／登内 宏

■基礎講座：エンジニアリングのためのGMP豆知識5
○クリーンルームのISO規格(2)／GMPリサーチ／山川康泰

■SEAJ News
○半導体製造装置 販売統計／日本半導体製造装置協会

■≪200号記念号≫
○月刊『クリーンテクノロジー』通巻200号の発刊にあたり／クリーンテクノロジー編集委員会／編集部

■特集1：産業分野別に見るクリーン化技術の現状と動向
○半導体製造とクリーン化技術／三菱電機／園田信夫
○半導体製造におけるパーティクル対策／東京エレクトロンAT／守屋 剛・長池宏史
○医薬・製薬工場におけるクリーンエアーシステムの動向／日本エアーテック／平澤真也
○製薬工場クリーンルームの計画技術／大成建設／加藤美好・岸野 豊
○食品産業とクリーン化技術／東京顕微鏡院／伊藤 武
○液晶製造におけるクリーン化技術／栗田工業／井田純一
○液晶製造とクリーン化技術／日立プラントテクノロジー／平田順太
○微生物を利用した環境修復技術／栗田工業／水本正浩

■特集2：マスフローコントローラの最新動向1
○電子機器産業分野における流体制御技術の動向／フローテクノサービス／石原聖司
〔製品紹介〕
○最新のインターフェース動向／MKS Insrument,Inc／日本エム・ケー・エス／M.J. Quaratiello・Kaveh Zakar・Isao Suzuki
○圧力制御式流量コントローラ／フジキン／永瀬正明・西野功二・土肥亮介・池田和弥
○次世代マスフローモジュール／堀場エステック／安田忠弘

■コーヒーブレイク
○フラッシュ・アニメ「やわらか戦車」の退却／服部 毅

■解説
○ウェット処理シリコン表面水素終端構造のSPM及びIR分析／広島大学／高萩隆行
○金ナノ粒子触媒が環境衛生を変えるか／首都大学東京／齊藤未歩・春田正毅

■シリーズ：研究室紹介
○横浜国立大学大学院 羽深・相原研究室／横浜国立大学／羽深 等

■製品紹介
○ホコリセンサーとホコリモニターシステム／光伸舎／白川光英

■基礎講座：エンジニアリングのためのGMP豆知識4
○クリーンルームのISO規格(1)／GMPリサーチ／山川康泰

■SEAJ News
○半導体製造装置 販売統計／日本半導体製造装置協会




＜次号予告＞
　■特集：シリコンウエーハを取り巻く課題とその対策
　○シリコン表面における複数種有機物分子の吸着脱離挙動／横浜国立大学大学院工学研究院／羽深　等・山屋大輔
　○メタル有機汚染がデバイス特性に与える影響／NECエレクトロニクス／白水好美
　○シリコンウエーハの先浄技術／日立製作所／津金　賢
　○微小パーティクルの挙動と制御／東京エレクトロン／林　輝幸・田村明威
　○新型液中パーティクルカウンタについて／リオン／木本幸弘
　■特集2：【製品紹介】マスフローコントローラの最新動向
　○半導体製造業界向けMFC設計におけるCFDの利用／ADVANCED ENERGY／Mike McDonald
　○Brooks（R）/MSP気化器によるダイアモンド-ライク コーティング改善／日本エマソン／黄　宏勝／Emerson Process Management Brooks Instrument／Ed Fisher
　○実使用ガス流量精度保証MFC／日立金属／杉本真郷
　○ALD及びCVD用成膜材料の気化供給技術／リンテック／小野弘文

■特集：排ガス処理の最新動向
○排ガス処理装置の最新動向／太陽日酸／富田修康・増崎 宏
○吸着濃縮装置を前段に用いた有機排気処理装置／大気社／助宮賢治
○排気ガス中VOCの新たな除去技術／慶應義塾大学／田中 茂
〔製品紹介〕
○半導体製造装置の電熱式排ガス処理装置／カンケンテクノ／塚田 勉
○燃焼式排ガス処理装置／東京ガスケミカル／秋澤徹郎・杉原賢一
○プロセス排気分析結果に基づく排ガス処理装置の設計／巴商会／平本隆司
○排ガス除害装置の新しいトレンド／エドワーズ／高橋克典
○三菱-DAS 除害装置の紹介／三菱化工機／岸本保之
○低温プラズマを用いたPFCガス除害装置／ランドマークテクノロジー／山本洋生
■小特集：低周波磁界とクリーン化技術
○環境磁界の現状／日本電設工業／山崎 勉
○シールドの方法／住友電設／村田美久
○半導体製造工場の電磁環境／トーエネック／横川喜与志

■コーヒーブレイク
○ファブライト・プロセスライト戦略で勝つ／服部 毅

■解説
○ミニマルマニュファクチャリングとクリーン化技術／産業技術総合研究所／原 史朗
○PDP用ペースト材料／ノリタケ機材／市川賢一
○静電気を除去してからホコリを除去する新発想のエアシャワー／TRINC／高柳 真
○汎用原料を用いた新型薄膜太陽電池／長岡工業高等専門学校／片桐裕則

■製品紹介
○クリーンルーム内の早期火災検知／ホーチキ／成澤 諭

■基礎講座／エンジニアリングのためのGMP豆知識3
○医薬品製造のGMP・ガイダンス(3)／GMPリサーチ／山川康泰

■SEAJ News
○半導体製造装置 販売統計（平成19年3月）／日本半導体製造装置協会