クリーンテクノロジー 発売日・バックナンバー

■特集：半導体・液晶のクリーン化を推進する分析技術
○クリーン化と分析技術／分析工房／藪本周邦

　LSIの製造時におけるクリーン化の進展にともなって材料分析技術も感度を向上させ続けてきた。ここではシリコンウェーハ上の金属汚染や有機物を物理的化学的に分析する技術の現状を述べ、あわせて適用上の限界や留意点について紹介する。


○ITRSの要求値と開発現場の感覚／シャープ／粟屋信義

　最近20年のSi-LSIプロセスの歴史の中で、シリサイド、銅配線、高誘電率ゲート絶縁膜等、新材料の導入は、デバイスの微細化や性能向上を実現する上で不可欠な技術革新と位置づけられている。本稿では、金属汚染を嫌うMOS製造ラインに新材料を導入してきた現場の研究開発者の視点からみたITRASの要求値の意味することを論じ、今後の技術動向を展望する。


○次世代の新材料系メタルのデバイスへの影響とCu配線等への化学汚染の影響／NECエレクトロニクス／白水好美

　新材料として使用される各種メタルのクロスコンタミネーションの懸念が出てきている・クリーンルーム環境、FOUP内環境、装置内環境からの化学汚染の実態と影響に関して注目されている。本稿では新材料系メタルのデバイスへの影響と化学汚染のCu配線等への影響について記述する。


○極微量領域におけるウエーハ上金属汚染の評価技術／東京エレクトロン／土橋和也・斉藤美佐子

　本報告では5E9atoms/cm2レベルに対応するウエーハ上金属汚染の評価技術として、一般的に使用されている溶液化前処理＋ICP-MS法について、溶液化前処理によるコンタミネーション影響を明確にすることで、高感度かつ再現性よく安定した分析手法を立ち上げたので紹介する。


○有機ELパネル開発における分析技術／富士電機アドバンストテクノロジー／瀧川亜樹

　多層薄膜デバイスのひとつである、有機ELパネルの発光不良部の分析は、発光不良種類に応じて微視解析・表面分析・分光分析など種々の手法を柔軟に適用することが必要である。ここでは発光不良とこれらの手法適用について説明する。


○ディスプレイ材料における微小異物の分析方法／東レリサーチセンター／青木靖仁・村木直樹

　ディスプレイ材料で観測される異物は、表示材料という特性上、小さなものであっても製品の品位を著しく低下させる重大な欠点となりうる。異物の混入防止や原因究明のためには、発生異物の位置確認や形態観察、どの工程・部材由来かという組成分析が非常に重要である。微小部の分析手法には様々なものがあり、それぞれの目的に応じて使い分ける必要性がある。微小異物の有効な分析手法について、その事例を含めて紹介する。


○二次イオン質量分析法（SIMS）における表面近傍における深さ校正技術／NTTアドバンステクノロジ／高野明雄

　二次イオン質量分析法（SIMS）は、半導体中の不純物深さ方向分析技術として不可欠な手法であるが、この深さ方向分析に対して年々浅い領域での正確な評価が望まれている。ここでは、SIMS深さ方向分析における表面近傍での深さの校正法について概説する。


○ナノメートルスケールにおける機械的物性評価手法／オミクロン ナノテクノロジー ジャパン／大川登志郎

　ナノメートルスケールにおける機械的物性評価を行う場合、従来の光学顕微鏡を用いて圧痕・スクラッチ痕の観察を行う測定手法では限界が生じている。本稿では、現在注目されている光学顕微鏡を用いずに機械的物性評価を行う、ナノインデンテーション法、ナノスクラッチ法・走査型摩耗試験を紹介する。


○テラヘルツ波の産業応用／先端赤外／西澤誠治

　テラヘルツ波は、基礎研究応用のみならず、既に産業応用への試みが勢力的にはじめられている。世界に先駆けて実用化開発されたテラヘルツ・パルス分光（THz-TDS）汎用市販装置について、その原理的優位性・基礎分光測光性能を集約しその産業応用への展開を述べる。


○ガス純度1pptへの挑戦／日本エイピーアイ／溝上員章

　ガス純度PPT（10－12）の測定が可能な大気圧イオン化質量分析装置（APIMS）を用いたウルトラクリーンテクノロジー評価技術や半導体・液晶製造装置等のユースポイントまでPPTレベルを実現可能なクリーン化技術（ハイパー処理）、ナノテク・素粒子計測等の最先端分野で行われている最新技術に関して紹介する。


○先進の表面分析機器／アルバック・ファイ／眞田則明・金鍾得・飯田真一

　表面微小部の欠陥・パーティクルの化学組成を調べる手法であるオージェ電子分光装置（AES）、表面極浅領域の微量の無機・有機汚染を調べる手法である飛行時間型二次イオン質量分析装置（TOF-SIMS）の最新装置と分析事例を紹介する。


○薬品・水の極微量分析／多摩化学工業／赤羽勤子

　半導体産業における技術・材料の開発及び評価にとって極微量金属不純物分析は非常に重要である。ppbレベル以下の分析値の精度と信頼性の確保に必要不可欠である超純水・試薬の品質と役割について述べる。


○アンモニア中の高感度不純物分析／大陽日酸／小野宏之・竹口東士夫

　GaN薄膜半導体製造の原料ガスであるNH3ガス中の高感度不純物分析法を検討した。H2O不純物を10ppb以下、Si不純物を0.1wt.ppb以下で測定する方法を確立した。特にH2O分析はOn-site分析法を確立し、原料ガス中の不純物濃度とデバイス特性の関係性について評価した。



■コーヒーブレイク
○450㎜大口径ウエーハへの移行に関する誤解／服部 毅

■解説
○バイオクリーンルーム室内環境の迅速・高感度微生物計測技術／日立製作所／野田英之・岡野定雅弘／日立プラントテクノロジー／宮下野恵・後藤田龍介・小沢 理

　本稿では、ATP生物発光法を利用した迅速・高感度浮遊菌計測システムについて解説する。無培養で菌体を数個レベルから検出でき、1時間で微生物汚染度の結果を得ることが可能となった。培養法に代わるBCR向け微生物汚染モニタとしての利用が期待できる。



■製品紹介
○クリーンルーム用低アウトガス防振ゴム／テクノ月星／川地恵子・児玉洋典／スターコックス／利行眞一

■連載：半導体製造装置の新たなクリーン化の課題 1
○熱によるパーティクル飛散と輸送／東京エレクトロン／守屋 剛・松井英章

■基礎講座：分かりやすいクリーンルームの管理手法 10（最終回）
○これだけは身に付けたいクリーン化技術の基礎 おさえておきたいクリーン化技術の注目点と考え方（その10）／三菱電機／園田信夫

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クリーンテクノロジー　2008年12月号　PDF版価格: 2,000円（税込）
品番: 200812pdfl
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■特集1：最先端半導体製造におけるクリーンテクノロジー
○最先端半導体製造における金属汚染とその対策／東芝セミコンダクター社／嶋崎綾子
○最先端半導体製造におけるパーティクル対策／東京エレクトロン／守屋 剛
○最先端半導体における分子状汚染とその対策／ソニー／嵯峨幸一郎
○ケミカル汚染モニタ／スペクトリス／加藤 洋／Particle Measuring Systems Inc.／Steven Rowley
○超高感度アンモニアモニタ／ソナック／山崎和子・余 万吉

■コーヒーブレイク
○写真でみるセミコン・ウェスト2008／服部 毅

■特集2：半導体標準化に貢献するSEMIスタンダード
○コンセンサス標準戦略／一橋大学／江藤 学
○300mmシリコンウェーハ標準化のインパクト／東洋大学／富 純一／立命館大学／立本博文
○SEMIスタンダードの役割と可能性／SEMIジャパン／奥田健一郎
○SEMIスタンダードの変革と業界の変遷／TDK／岡部 勉
○450mmウェーハ用SEMI規格開発動向／アクティオン／小松省二
○SEMIスタンダード利用のSiウエーハメーカからのメリット／コバレントマテリアル／泉妻宏治
○半導体製造装置への静電気放電(ESD)と静電吸着(ESA)による影響評価と制御のためのSEMIガイドE78／原田産業／村上俊郎
○新ガイドラインSEMI S26-0308／大日本スクリーン製造／西口直克
○SEMI S2 半導体製造装置の環境、健康、および安全に関するガイドライン／キヤノンアネルバ／真白すぴか

■解説
○色素増感太陽電池の実用化に向けて／東京理科大学／荒川裕則
○自動車の塗装工程、乾燥炉中の粒子測定／ソナック／水野真人・池田卓司

■製品紹介
○顧客ニーズに合ったTOC連続測定シリーズ／ティ・アンド・シー・テクニカル

■基礎講座：分かりやすいクリーンルームの管理手法 9
○これだけは身に付けたい作業員管理の基礎知識／三菱電機／園田信夫

■特集1：最先端半導体製造におけるクリーンテクノロジー
○最先端半導体製造における金属汚染とその対策／東芝セミコンダクター社／嶋崎綾子
○最先端半導体製造におけるパーティクル対策／東京エレクトロン／守屋 剛
○最先端半導体における分子状汚染とその対策／ソニー／嵯峨幸一郎
○ケミカル汚染モニタ／スペクトリス／加藤 洋／Particle Measuring Systems Inc.／Steven Rowley
○超高感度アンモニアモニタ／ソナック／山崎和子・余 万吉

■コーヒーブレイク
○写真でみるセミコン・ウェスト2008／服部 毅

■特集2：半導体標準化に貢献するSEMIスタンダード
○コンセンサス標準戦略／一橋大学／江藤 学
○300mmシリコンウェーハ標準化のインパクト／東洋大学／富 純一／立命館大学／立本博文
○SEMIスタンダードの役割と可能性／SEMIジャパン／奥田健一郎
○SEMIスタンダードの変革と業界の変遷／TDK／岡部 勉
○450mmウェーハ用SEMI規格開発動向／アクティオン／小松省二
○SEMIスタンダード利用のSiウエーハメーカからのメリット／コバレントマテリアル／泉妻宏治
○半導体製造装置への静電気放電(ESD)と静電吸着(ESA)による影響評価と制御のためのSEMIガイドE78／原田産業／村上俊郎
○新ガイドラインSEMI S26-0308／大日本スクリーン製造／西口直克
○SEMI S2 半導体製造装置の環境、健康、および安全に関するガイドライン／キヤノンアネルバ／真白すぴか

■解説
○色素増感太陽電池の実用化に向けて／東京理科大学／荒川裕則
○自動車の塗装工程、乾燥炉中の粒子測定／ソナック／水野真人・池田卓司

■製品紹介
○顧客ニーズに合ったTOC連続測定シリーズ／ティ・アンド・シー・テクニカル

■基礎講座：分かりやすいクリーンルームの管理手法 9
○これだけは身に付けたい作業員管理の基礎知識／三菱電機／園田信夫

■特集：クリーンルームの防災と安全対策
○クリーンルームの防災と安全対策／高砂熱学工業／大久保義典

　近年、事業継続計画（BCP）が企業に求められているなかで、地震が多発していることもあり、これを契機に実施される事業所が増加することが期待できる。ここでは被災事例を通して、そこから得られた対策及び被災後の対応を中心に述べる。


○総合地震防災システム／清水建設／栗原修一・南部世紀夫

　気象庁の緊急地震速報は、各業界で活用法が検討され、事業継続策の一環として導入が進みつつある。この緊急地震速報を活用した「シミズ総合地震防災システム」の概要、導入事例にみる活用方法、さらには、本システムを利用した場合の速報効果について報告する。


○クリーンルームの地震対策／大成建設／出雲洋治

　クリーンルームの地震対策を網羅的に記述。BCP上の減災計画の観点から、クリーンルームの機能維持を計るための対策を、耐震・制振・免震と絡めた技術について紹介する。


○クリーンルームのモニタリングシステム／三機工業／飯田浩一

　クリーンルームを構成する多岐の設備から、モニタリング情報を集約し、設備全体を総合的に防災監視するシステムについて、実施例をもとに概要と設計上の留意点など、その現状を紹介する。


○超高感度煙検知システム／能美防災／関口浩幸

　クリーンルームはその特殊な空調構造から、一般の室内と異なり、火災に至る前の初期段階の煙検知が著しく困難であるという問題点が潜在している。本稿では、クリーンルーム用煙検知システムとして超高感度検知システムの概要について紹介する。


○クリーンルーム向けIG-541消火システム／日本ドライケミカル／犬飼恒彦

　クリーンルーム従事者の人命尊重、高額資産の保全及び地球環境保護は防災担当者の最重要課題である。そこで、現在消防法に定められている消火設備の内、最もクリーンルームの消火設備として適している「IG－541消火設備」について紹介する。


○クリーンルームにおけるガス検知器／理研計器／植木浩平

　毒性や可燃性ガスを多く利用している半導体業界等のクリーンルームにおける災害時・事故時の安全管理に、ガス検知器は重要な役割を担っている。漏洩したガスを出来るだけ早く、確実に検知することが求められるガス検知器の性能・機能について解説する。


○排気ダクトの現状と課題／巴商会／山田雅己

　近年、日本各地で大地震が多発しており、その中でPVCダクトは甚大な被害を受けている。本稿では、地震によるダクト破断リスクや企業が被災しても重要事業を中断させない為に耐震性・耐火性に大変優れた、ATS社の難燃性樹脂ダクトについて紹介する。



■コーヒーブレイク
○日本人の英語力は世界最低レベル／服部 毅

■小特集：膜・分離技術最前線
○膜・分離技術の現状と今後の課題／東レ／植村忠廣・谷口雅英

　近年の水循環化への対応技術として、水処理用分離膜が注目されている。分離膜は、対象に応じて様々なものがあるが、本稿では、膜・分離技術の現状と共に近年急速に普及が進んでいる浄水高度処理、海水淡水化、下廃水再利用に用いられるRO/NF膜の特長、技術動向について述べる。


○超純水製造システムにおける膜分離技術／栗田工業／新井伸説

　膜分離技術は、超純水の製造過程において、濁質、イオン、有機物、微粒子を除去する技術として欠かすことができない。本稿では、超純水製造システムにおける膜分離技術の適用例等について紹介する。


○超純水の清浄化技術／オルガノ／大信紀子

　本稿では、超純水の金属不純物濃度の現状及び極微量の金属不純物を低減するために提案している『イオン吸着膜システム』について、0.01pptのレベルまで評価した結果について紹介する。


○純水装置の変貌－MBからEDIへ／野村マイクロ・サイエンス／阿部俊和

　これまで水の純化はイオン交換樹脂主体で行われてきたが、電気脱イオン装置の登場によって大きく変貌しつつある。本稿では、電気脱イオン装置を説明するとともに、電気脱イオン装置の課題、電気脱イオン装置採用にあたっての取り組みについて説明する。



■解説
○シックハウス症候群の診断法・治療法の最新動向／北里大学／坂部 貢

　シックハウス症候群の病態については、未だ不明の点が多く、医学、薬学、建築学、環境学等が連携した学際的な研究が求められている。本稿ではシックハウス症候群の診断法および治療法の最新動向について、本症の病態解明に関する厚生労働科学研究の報告を中心として解説する。


○宇宙船内における空気再生／宇宙航空研究開発機構／桜井誠人

　長期有人宇宙活動のために、外部からの物質補給に依存しない生命維持システムを構築する必要がある。呼気であるCO2の酸素を取り出して人の呼吸に必要な酸素として利用するべく、CO2分離濃縮→CO2還元（サバチエ反応）→水電解→酸素のプロセスの成立を目指した。


○微生物の迅速検出法／東京農工大学／斉藤美佳子・松岡英明

　食品、日用品、医療機器、環境試料など、われわれが日常的に接するもの、そして最終的には体に取り込まれるものが、微生物に汚染していないことを確かめることは、健康で安全な生活のためには必須である。本稿では広く微生物の迅速検出法について俯瞰する。


○建物内の微生物対策／清水建設／山口 一

　細菌やカビ（真菌）は、人に病気やアレルギーを引き起こすばかりでなく、医薬品等の生産施設では製品の品質に影響を与える。本稿では、住宅ばかりでなくオフィス、病院、生産施設等の建物用途に応じた微生物対策の概要を説明する。更に、新しい除菌・除染システムを紹介する。



■製品紹介
○卓上型ウエーハ表面検査機／ケミトロニクス／八掛保夫

■企業シリーズ
○超純水中 超微量ナトリウムの最新計測技術／スワン・アナリティカル・ジャパン／福田愛二

■基礎講座：分かりやすいクリーンルームの管理手法 8
○これだけは身に付けたい静電気対策の基礎知識（その2）／三菱電機／園田信夫

■特集：製薬工場における清浄化技術
○製薬工場に求められる洗浄技術と将来動向／東洋エンジニアリング／島 一己

　元薬マルチ工場における機器類、配管系、切替え部の洗浄に関する現場的な問題点、設計する上での留意点、今後の動向の一つである粉体の取り扱いなどを中心に紹介する。


○封じ込め技術の課題と展望／日揮／入谷 剛・橋本尚美

　本稿では封じ込め技術を対応箇所で分類し、各項目において、封じ込めおよび交叉汚染防止の観点から、封じ込め技術の課題と展望について示す。


○入荷原材料の汚染防止対策／千代田化工建設／松本 治

　入荷原材料とそのハンドリング操作に起因する品質阻害要因を4分類（・内容物への外部からの異物混入　・内容物に分解・変質　・外装付着物の製品への混入　・混同による不適切物の混入）し、リスク要因と対応策を例示するとともに、GMPでの関連記述を示す。


○製薬工場における平面計画／千代田テクノエース／河島 勇

　医薬品施設のエンジニアリングで、生産設備設計と並んで重要な固形製剤施設と無菌製剤施設計画の傾向、コンセプト、事例を含め実際の計画に於ける留意点についても具体的に示す。


○空調自動制御設備とバリデーション／山武／芥川雅之

　空調自動制御システムもコンピュータシステムバリデーションの対象であるとの認識が、製薬関係エンドユーザの間で一般化しつつある。現場の担当者はどのように対応すればよいか、グローバルなガイドラインを参考に考察する。


○クリーンルームの殺菌・滅菌方法／テクノ菱和／品田宜輝・海老根猛

　本稿では、医薬品製造施設や実験動物飼育施設、研究施設等で実施されているホルマリン燻蒸を取り上げ、その具体的方法とホルムアルデヒドガスの無害化処理による室内外の環境対策手法を紹介する。


○製薬工場における防虫対策／イカリ消毒／今野禎彦

　本稿では、高度な製品管理が必要な製造設備において、どのようにして虫体異物混入事故が発生するのか、またこれを防止するための技法について紹介する。


〔製品紹介〕
○製剤設備における無菌設計技術／日本ミリポア／勢〆英明

■コーヒーブレイク
○理科系のための……（その11）／服部 毅

■解説
○次世代省エネデバイス技術／東芝／四戸 孝

　パワーデバイスは、インバータ家電からハイブリッド自動車、新幹線などに広く使われており、省エネ・環境保全のキーデバイスとしてその重要性が高まってきている。本稿では、実用化が現実味を帯びてきたSiCパワーデバイスの開発動向について解説する。


○シリコン材料表面の金属除去用新洗浄溶液／大阪大学／高橋昌男・小林 光

　半導体デバイス製造における表面洗浄はデバイス特性の劣化防止のみならず、歩留まり向上の点からも非常に重要なプロセスである。本稿ではシアン溶液を用いた半導体洗浄について紹介する。


○低パーティクルESD材料の開発／クレハ／西畑直光・川崎達也

　デバイス高性能化により最先端分野で切望されるクレンリネス向上および静電気破壊対策について、クレハでは、特殊炭素および独自分散技術を用いて低汚染性ESD対策材を開発した。今回、新規技術により、さらなるクレンリネス向上を行った結果を紹介する。


○バイオセンサーによる空気汚染測定法／東京大学／徐 長厚・金 鐘訓・加藤信介

　本研究ではカビ及びメダカをセンサーとし、シックハウス症候群で問題化されているホルムアルデヒドの空気中の濃度を評価した。カビ及びメダカのセンサーとしての有効性はあるものの、低濃度の気中ホルムアルデヒド濃度の評価については課題が残っている。


○DNA解析を用いた環境中真菌の測定／東海大学／山本尚理／東京大学／柳澤幸雄

　通常、環境中の真菌の検出方法として用いられている培養法は、死菌や培地に適合しない菌については検出することができない。一方、DNA解析法は、菌の生育能に依存することなく適用可能な手法である。真菌DNAを検出するためのプライマーやプローブの種類もこれまでに多数報告されてきていることから、今後、環境中真菌を検出するにあたり汎用的な手法となることが期待される。


○温室効果ガス排出量大幅削減に向けて技術が果たす役割／みずほ情報総研／甘利朋矢

　現在、将来における温室効果ガス排出量の大幅削減に向けた議論が活発に行われており、我が国においても相応の温室効果ガス排出削減が求められている。そこで、国内で発表されている温室効果ガス排出大幅削減達成シナリオを基に、民生部門における温室効果ガス排出大幅削減に省エネ関連技術が果たす役割について紹介する。


○パソコン使用に伴う室内空気汚染の抑制／富士通研究所／竹内文代・尾崎光男

　パソコンに関してVOC放散速度の測定方法と指針値が規定されている。製品から放散するVOCの管理には、源流である部品段階での放散挙動の理解と評価が重要である。バッグ法により捉えたVOC放散挙動、部品のスクリーニング試験方法について述べる。



■製品紹介
○MPC方式高圧瞬低対策装置／東芝三菱電機産業システム／森 治義

■企業シリーズ
○超純水中 超微量シリカの最新測定技術／スワン・アナリティカル・ジャパン／福田愛二

■基礎講座：分かりやすいクリーンルームの管理手法 7
○これだけは身に付けたい静電気対策の基礎知識／三菱電機／園田信夫

■特集：食物の安全対策とその課題
○食品工場の食中毒事故の傾向と対策／東京顕微鏡院／伊藤 武

　国内における微生物による食中毒事故は毎年700件（患者数約1万名）である。最も発生件数が多いのはノロウイルスで、次いでカンピロバクター、サルモネラ、腸炎ビブリオである。それぞれの病原微生物に対応した対策が必要である。


○食品安全に必要なシステムとは／ロイド レジスター クオリティ アシュアランス リミテッド／坂下琢治／近畿大学／米虫節夫

　食の安全を保証する仕組みつくりとともに、いかに安全を安心に変えるかも重要なことである。本稿では食品衛生7S、ISO22000、さらにFS31000を中心に、食品安全に必要なシステムの構築と運用について概説する。


○食品アレルゲン検査／オリエンタル酵母工業／矢野竹男・酒井裕美子

　食物アレルギー患者への健康危害の防止および社会生活の向上を目的として、平成14年より食物アレルギー表示が実施されている。本稿では、食品アレルギー物質の検出法の開発を行う上での困難性、ならびに検出法の有用性と注意点に関して報告する。


○食物の安全・安心に向けた食品検査／カルビー／古賀秀徳

　アレルギー物質（特定原材料）の表示に向け、食品中の特定原材料の有無について検査を実施してきている。その検査方法の概要および取り組んでいる検査業務の一端を紹介するとともに、その業務の中での困り事についても紹介する。


○食物アレルギーを取り巻く制度の現状と課題／東京大学／神奈川芳行

　食物アレルギー患者の健康被害防止のために、平成13年4月に食品衛生法が改正され、アレルギー表示制度が開始された。その後、食品中のアレルギー物質の検知方法の開発や、実態調査等に基づく表示対象物質の追加がなされているが、同制度の現状と今後の課題について解説する。


○環境化学発がん物質とその閾値／中央労働災害防止協会／福島昭治／大阪市立大学／魏民・梯アンナ・鰐淵英機

　ラット発がん実験から、遺伝毒性発がん物質には閾値があると結論する。非遺伝毒性発がん物質の中には発がんホルミシスを示すものがあり、確実に閾値が存在する。これらの事実は食品に含まれる化学物質の発がんリスク評価のみならず、リスク管理に大いに貢献する。



■コーヒーブレイク
○2つの課題を抱える将来の半導体製造／服部 毅

■小特集：ナノテクノロジー最前線
○ナノ粒子及びナノ構造体材料の合成と課題／広島大学／奥山喜久夫・Ferry Iskandar

　各種のナノ粒子材料について、現在企業から入手できる種類と大きさを紹介し、合成法の課題を述べた後、ナノ粒子材料のポーラス化、薄膜化、コンポジット化などの構造化における現状と課題を述べ、ナノ粒子材料をハンドリングする単位操作の重要性を紹介する。


○吸入によるナノ粒子の呼吸器沈着／放射線医学総合研究所／山田裕司

　エアロゾルと呼ばれる空気中に浮遊する微粒子は、呼吸を介して体内に取り込まれる。呼吸器への沈着はエアロゾル性状や呼吸生理状態などによって異なるため、吸入による健康影響を考えるに当たっては、先ず呼吸器内への沈着様式やその特徴を知ることが重要である。


○ナノテクの安全性と国際標準化／産業技術総合研究所／川崎 一

　国際標準化機構では、ナノテクの用語や計測技術の標準化とともに安全性についても議論されている。経済協力開発機構でも工業用ナノ物質の安全性や管理について議論されている。ここでは、これらの国際機関でのナノテクの安全性に関わる議論について紹介する。



■研究室紹介
○東京エレクトロン 技術開発センター 汚染制御グループ／東京エレクトロン／松井英章

■解説
○病院環境における空気調和設備の設計／日本設計／井田 寛

　本報では設計の立場から病院の空気調和計画における特徴のひとつである院内感染に対する空調計画例を紹介する。はじめに感染症の分類と感染経路について述べ、各室の洗浄度についての指針を紹介する。設計例として、一般病棟、クリーン病棟、感染病棟、手術部、特殊排気部門を示し、特に病棟空調計画については日和見感染対応の空調システム、シミュレーションモデルを紹介する。


○病院環境における気流の計画／東京大学／成 旻起・加藤信介

　病院の病室での室内気流の設計に際しては、気流により感染性の汚染物質や臭気などが室内に拡散するリスクを評価しこれの低減を検討する必要があろう。流体シミュレーションを用いた病室の気流検討の事例を紹介する。



■製品紹介
○半導体製造装置の諸元集計システム／富士通四国システムズ／仙波啓道／富士通マイクロエレクトロニクス／高田友之

■企業シリーズ
○超純水トレース用溶存酸素計／スワン・アナリティカル・ジャパン／福田愛二

■基礎講座：分かりやすいクリーンルームの管理手法 6
○これだけは身に付けたいクリーン化技術の基礎知識（その6）／三菱電機／園田信夫

■特集：太陽電池とクリーンテクノロジー
○太陽電池の現状と将来／産業技術総合研究所／近藤道雄

太陽電池への関心は急速な高まりを見せ、また生産量や産業規模も大きく膨らんできている。しかし導入ポテンシャルを考えるとまだ現状は序の口であり、更なる普及拡大が期待できる。本稿では太陽電池産業、技術の現状と将来について概観を述べる。
○NEDOにおける太陽光発電を用いた実証研究／新エネルギー・産業技術総合開発機構／諸住 哲

（独）新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO技術開発機構）では新エネルギーの普及に密接に関係する系統連係技術の実証研究を行っている。本稿では太陽光発電の利用を主とする実証研究において、その研究の目的と成果について解説する。
○太陽光発電集中連系時の課題と対応技術／電力中央研究所／小林広武

温暖化対策等により、導入ニーズが益々高まっている太陽光発電を対象に、配電系統に集中連係した場合の電圧管理面と保護保安上の問題点と、パワーエレ機器や通信を利用した、太陽光発電側、系統側それぞれの新しい対策技術の開発状況について述べる。
○太陽電池の製造プロセスとクリーンテクノロジー／三菱電機／有本 智

多結晶シリコン太陽電池は、量産レベルで15％以上の変換効率が容易に得られるようになっている。しかし更なる低コスト化の実現には、変換効率の改善と基板薄肉化が最重要課題である。本稿では、多結晶シリコン太陽電池の現状と今後の高性能化に向けた技術を紹介する。
○太陽電池用ガラス基板／旭硝子／尾山卓司

太陽電池市場の伸びは目覚ましく、今後も更なる拡大が期待されている。また使用原料の少ない薄膜型が市場における存在感を増している。本稿では、これらの太陽電池に用いられるガラス基板、特に薄膜太陽電池に用いられる透明導電膜付きガラス基板について述べる。
○薄膜太陽電池の新たな提案／アプライドマテリアルズジャパン／佐藤辰哉

地球環境に優しいエネルギー源として、太陽電池の需要は世界的に増大している。本稿では太陽電池技術について俯瞰すると共に、アプライドマテリアルズの『SunFab Thin Film Line』を題材とした新たな提案について紹介する。
○高効率太陽電池／三洋電機／辰見治彦・丸山英治

結晶Si系太陽電池は、現在の市場で圧倒的なシェアを占めている。本稿では、結晶Si系太陽電池の現状ならびに、三洋電機が開発したHIT太陽電池の特長および今後の低コスト化に向けたアプローチについて紹介する。
○太陽光発電という名のバブル／本誌編集委員長／服部 毅

■コーヒーブレイク
○常識を疑うシリーズ(6)／服部 毅

■小特集：ITRS2007改訂のポイント
○ITRS2007の概要／富士通マイクロエレクトロニクス／長田俊彦

目下45nmHik導入が進行しており、デバイス性能（処理能力／消費電力）が大きく改善している。またFLASHの1年前倒しで、微細化技術が一段と進歩している。他方、従来技術の改良により、半導体の利用範囲が広がり、新しい素子の開発も促進され、多様な可能性を示している。
○歩留まり改善における改訂のポイント／NECエレクトロニクス／桑原純夫

ITRSのYE章は、以前はDR（Defect Reduction）章と呼ばれており、SEMATECH会員会社がデータを公開／共有した欠陥低減プロジェクトの資産を引き継いだものだが、微細化／水平分業の進展等により、内容の見直しが求められている。
○ウエーハ環境汚染制御における改訂のポイント／日立製作所／津金 賢

ITRSにおける歩留まり改善の章は、歩留まりモデルと装置許容欠陥数（YMDB）、欠陥検出と特徴付け（DDC）、そしてウエーハ環境汚染制御（WECC）の3つに分けられている。本稿ではWECCの要求項目内容と改訂のポイントについて解説する。
○クリーンルーム搬送における改訂のポイント／村田機械／山本 眞

450mm、NGFが議論されているが、半導体工場内キャリア搬送の将来に大きな指針を与えるものの一つにITRSロードマップがある。主要な指標を2007年度版と2005年度版とを比較することにより、その変更のポイントを明確にする。
■解説
○TiO2/光触媒フィルタによるホルムアルデヒドの除去特性／朝日工業社／村上栄造／横浜国立大学／堀 雅宏

近年、光触媒を利用した空気浄化装置が普及してきたが、酸化能力が不十分な場合は、有害な中間生成物の発生を伴うことがある。本稿ではホルムアルデヒドを除去対象物質とし、強力なUV照射と光触媒ユニットの多段設置による有害生成物の抑制効果を紹介する。
○続・日本薬局方第15改正：製薬用水のJP、USP及びEP三局の比較／大気社／村上大吉郎

本誌2007年7月号において解説した『日本薬局方第15改正：製薬用水のJP、USP及びEP三局の比較』の続編として、JP15、USP30、さらにEUP2002の概要を示し、また合わせて3局の相違について解説する。
■研究室紹介
○清水建設（株）技術研究所 新クリーンルーム実験棟／清水建設／長谷部弥

■製品紹介
○半導体製造装置用軸受／ジェイテクト／奥田康一
○pnダイード温度センサのMEM型真空センサへの応用／メムス・コア／慶光院利映・小山克人・桜井史敏

■基礎講座：分かりやすいクリーンルームの管理手法 5
○これだけは身に付けたいクリーン化技術の基礎知識（その5）／三菱電機／園田信夫

■特集：CO2削減に貢献する半導体既設工場の省エネ対策
○ルネサステクノロジ高知事業所のエネルギ起源CO2削減活動／ルネサステクノロジ／高石 優・小笠原弘・柴田健一・岡林一夫

　ルネサステクノロジ高知事業所は、経済性・環境性の両立を目指し、CO2削減に積極的に取組んできた。本稿では、近年5年間の改善取組み内容と今後の改善施策について報告する。成果としては、2002年度～2007年度の5年間で動力設備のCO2排出量を11％削減した。
○セイコーエプソン酒田事業所の温暖化ガス削減活動／エプソンファシリティ・エンジニアリング／菅原達也

　セイコーエプソン酒田事業所では、瞬低対策において灯油を燃料とするコージェネレーションシステムにおいて効果を上げてきた。しかし原油価格の高騰等で化石燃料からの脱却が急務となった。本稿では短期間で実施した大規模なエネルギー構造転換の成果について報告する。
○クリーンルーム（CR）循環風量削減による省エネ／東芝セミコンダクター社／濱本鉄久・東 辰浩・末光秀吉

　半導体製品の製造においては、製造環境の高清浄度化、一定温湿度の維持等で、膨大な空調電力を消費している。本稿では、CR構造と製品運用の特性に応じて清浄度維持に必要な循環風量に緩和することで、空調電力の省エネを行った事例について紹介する。
○空調機気化式加湿化の取組み／ルネサステクノロジ／佐久間敏

　ルネサステクノロジ甲府事業所では、これまでCO2削減施策として、冷凍機や蒸気ボイラの高効率機器へのリプレイスやフリークーリングなどを実施してきたが、今回、空調機運転で多くの燃料エネルギーを消費する「加湿」の改善に取り組んだ内容について報告する。
○冷凍機用ポンプ流量制御システムによる半導体工場の省エネ／ダイダン／齋藤久士

　冷凍機用ポンプ流量制御スステム（フロースマート）は冷凍機の冷水1次ポンプ及び冷却水ポンプを空調負荷に応じて流量制御することでポンプの搬送動力を大幅に削減できる。これまで多くの導入実績を通じて安定性、安全性が確認されており、多くの省エネルギー化に貢献している。
○最高70℃取り出し可能な循環加温タイプ熱源機／神戸製鋼所／下田平修和

　近年、地球温暖化への取り組みから、高効率な熱源機の開発が進められているが、温水負荷への対応は十分ではない。本稿では、「最高70℃」の温水が取り出し可能な循環加温タイプの熱源機について、システムの概要と性能等の特徴を紹介する。
○省エネルギーに貢献するコンプレッサ／アトラスコプコ／三浦孝夫

　地球温暖化対策として、より省エネルギー効率の高い製品を供給することが、我々メーカには求められている。本稿では、主力製品であるインバータ制御コンプレッサの省エネルギー効果について、試験運転の結果や導入事例をもとに記述する。
■コーヒーブレイク
○韓国・忠清南道・牙山（アサン）市にて／服部 毅

■解説
○半導体デバイスのESD耐性評価装置の開発／阪和電子工業／澤田真典

　半導体デバイスは、高集積化・低電圧化により、ESDにおける耐性が低下している。そのためESD保護回路の開発と耐性確認は重要である。本稿では、ESD保護回路の開発を効率よく行えるツールについて説明する。
○半導体プロセス用20nmフィルターの性能／日本ポール／能勢昌之・水野豪仁

　最先端の半導体デバイスを製造する上で、ウエーハ表面からの粒子除去は必須であり、その要求は年々厳しくなっている。本稿では、最先端フィルターの性能を紹介すると共に、その評価方法についての取り組みを併せて紹介する。
○熱泳動力による微小パーティクルの付着防止挙動／東京エレクトロン／田村明威・松井英章・林 輝幸

　次世代パーティクル制御技術として、熱泳動力に着目し評価を行い、非常に高い効果が観察されている。本稿では60nmパーティクルウエーハの付着防止効果と、20nm程度の極微小パーティクルへの効果の理論的解析結果を報告する。
○化学物質管理とリスクコミュニケーションの今後の方向性／科学技術振興機構／安井 至

　化審法の見直しプロセスがはじまった。この法律は日本の化学物質管理の根幹をなす法律のひとつである。しかしいくつかの問題点が無いとはいえない。本稿では化学物質管理の考え方とともに、リスクコミュニケーションの方向性について解説する。
○環境に優しいデバイス除去技術／金沢工業大学／堀邊英夫

　電子デバイス製造においてレジスト除去は、薬液等を用いており環境負荷が大きい。今回加熱したタングステンに水素ガスを接触させ生成した水素ラジカルを用いたレジスト除去について検討した。除去されにくいイオン注入レジストも通常のレジストと同様に除去可能であった。
○VOC対策に向けた光触媒空気浄化装置／兵庫県立大学／服部 正・山下健治

　開発した紫外線LED面発光体は紫外線エネルギー分布の均斉度が非常に高く、光触媒空気浄化装置に適した紫外線光源である。また紫外線LED面発光体を用いた光触媒空気浄化装置は活性炭のみによる除去方法に比べ使用済み活性炭量を1/5以下に減少できることが確認できた。
○空気清浄機による室内微生物対策／松下エコシステムズ／稲垣 純

　健康意識の高まりから、一般家庭でも清潔な空気が求められている。空気清浄機を例として、室内に浮遊する粉塵・カビ・アレルゲンなどの捕集効果を示すとともに、空気清浄フィルタを清潔に保つための機能性素材について、その特長と効果を解説する。
○クリーンルームの清浄度評価について／ビオテスト／松本 泉

　製造に関わる環境の微生物モニタリングと原材料から製造ラインを含む最終製品までの清浄度管理は重要な問題である。本稿では、製造に関わる環境のモニタリングについて紹介する。
○液晶・プリント基板等のミスト洗浄用強打力2流体ノズル／いけうち／権藤政則

　エレクトロニクス製品の高精度化に伴い、洗浄においてもかなり厳しい要求が出てきている。特に液晶・プリント基板等の洗浄工程においては、従来の1流体ノズルでは限界があった。本稿では、粒子径が小さく、打力の強い2流体ノズルの特性について説明する。
■製品紹介
○クリーンリーム向け省エネ熱源システム／日立プラントテクノロジー／福井伊津志・中島健一
○光触媒繊維モジュール／宇部興産／柳比呂志

■基礎講座：分かりやすいクリーンルームの管理手法 3
○これだけは身に付けたいクリーン化技術の基礎知識（その4）／三菱電機／園田信夫

■特集：半導体製造における欠陥検査・分析技術
○半導体デバイス製造における分析／東レリサーチセンター／森田直威・坂口晃一・小川賢吾・萬 尚樹・寺田恵三・味岡恒夫

　半導体デバイス製造において、歩留まりを向上させるには、その発生原因を検証し改善・最適化することが肝要である。本稿では半導体デバイス製造に必要な解析と分析に関して述べるが、筆者が受託分析を行う立場を踏まえ、特に清浄化のための分析に関して述べる。
○シリコンウエーハの欠陥検査法／ケーエルエー・テンコール／玉木裕介

　45nm世代のプロセスでは、洗浄可能なデフェクトとそうでないものを自動分離する機能や、ウォータマークの検出などの付加的機能も求められている。本稿ではこれらの新しい機能を実例とともに紹介する。
○半導体製造装置におけるパーティクル監視／東京エレクトロン／守屋 剛・長池宏史

　デバイス性能の向上やコスト低減と合わせ、パーティクル等による製品歩留まりの低下が発生している。本稿では、量産ラインにおける半導体製造装置の清浄度を管理するために必要となるパーティクルモニタの課題、鍵となる技術について解説する。
［製品紹介］
○シリコンウエーハ内部欠陥検査装置／ケメット・ジャパン／岸田文樹

　ケメット・ジャパンでは、次世代半導体の歩溜まり、品質向上に寄与する検査装置に力を注いでいる。本稿では、従来は見逃されていた欠陥検査を定量化することを可能にした検査装置（エアーポケット）をについて紹介する。
○回路パターン欠陥検査装置／東京エレクトロン／西澤秀介

　半導体デバイスの製造工程においては、製品の歩留まりをいかにして高いレベルに保つかが非常に重要である。本稿では東京エレクトロンが販売提携結んでいるHMI社の欠陥検査装置2機種について紹介する。
○パターン付きウエーハ外観検査装置／東レエンジニアリング／山本比佐史

　半導体ウエーハの品質保証のために外観検査の重要性はますます高まっている。この課題を解決するために、東レエンジニアリングでは全数検査が実現できる高速検査装置を開発してきた。ここでは最新機種である“7000R”シリーズについて紹介する。
○ノンパターンウエーハ表面上のパーティクル及び欠陥の検出／トプコン／野田 啓

　ノンパターンウェーハ用表面検査装置は、半導体プロセスの歩留まり管理基ツールとして広く使用されている。本稿では、長年にわたり同装置を開発してきたトプコンのウエーハ表面検査装置WMシリーズについて紹介する。
○高精度最高速の検査性能を実現した三次元二次元ウエーハバンプ検査装置／高岳製作所／田嶋英幸

　技術開発速度の速いウエーハ分野での適用を目的としたウエーハバンプ検査装置を開発した。本装置は、φ300mmウエーハを高精度で1時間に16枚という速度で検査することができる。その製品の概要について紹介する。
■コーヒーブレイク
○半導体製造技術の最前線（下）／服部 毅

■小特集：病院内環境とクリーン化技術
○病院内環境調査／東海大学／松木秀明・田爪正氣

　病院内の空気中ホルムアルデヒド・二酸化窒素濃度、および空気中細菌・保育器および哺乳瓶保温器内水からブドウ球菌を分離、薬剤感受性試験によりMRSA、MRCNSの実態を把握するための調査結果について解説する。
○わが国の医療機関における院内感染対策の現状／東京歯科大学／須山祐之

　世界各国に広がる感染汚染の問題は今後の院内感染対策を見直す時期となった。しかし院内感染対策を重視した設備および医療従事者の感染に対する意識、知識は充分とはいえない。本稿ではわが国の院内感染対策の現状について解説する。
○病院における空調システムメンテナンス／日本ウイントン／清水 晋

　高度な医療が発展している現在、医師には高度な技術が求められ、また病院にも高度な医療に対応した設備を設置することが求められている。本稿では空調設備のメンテナンスと室内の清掃・消毒・清浄度測定など、トータルな衛生的メンテナンスの必要性について解説する。
■解説
○粒子の付着力と付着性／岡山大学／後藤邦彰

　「粒子が小さいと付着性が高い」というのはよく言うが、粒子が小さいと付着力が強いのであろうか？本稿では、粒子一平板間および粒子間で付着が起きる場合を例として取り上げ、付着性と付着現象の考え方を付着力と分離力のバランスに着目して整理してみる。
○自動車部品洗浄の技術動向／デンソー／柳川敬太

　近年、自動車部品は小型・精密化が進み、洗浄の重要性が高まりつつある。また製品競争力の向上には洗浄工程の合理化を追求し、コストミニマムな手法を選択することが必要である。本稿では自動車部品の洗浄と評価技術について、その概要と技術動向を解説する。
○ビル空調における微生物測定と空調機器対策／新日本空調／高塚 威

　2003年に健康増進法が施行されるなど、国民保健の向上に向けた行政の取り組みが本格化してきた。本稿ではビル空調の維持管理の視点から、臭気と微生物の関連性について測定・調査を行った内容を紹介し、空調システムにおける微生物対策や機器について解説する。
○ガスファンヒーターにおけるスギ花粉アレルゲンの除去効果の評価／大阪ガス／山下信彦

　近年、室内に浮遊する微小な粒子がヒトの健康に深く関わっていることが明らかにされ、関心が集まっている。本稿では、特に一般消費者の関心が高いスギ花粉に注目し、ガスファンヒーターのスギ花粉除去効果について評価した。
○空気清浄機の空中除菌性能の評価法／環境生物学研究所／阿部恵子

　近年、様々なタイプの空中浮遊微生物除去および防止のための機器が開発されているが、その性能については開発メーカでの評価となっている。本稿では客観的な立場において検証する空気清浄機の空中除菌性能の評価法について解説する。
■製品紹介
○光触媒の能力をフルに生かした脱臭殺菌装置／朝日工業社／村上栄造

■基礎講座：分かりやすいクリーンルームの管理手法 3
○これだけは身に付けたいクリーン化技術の基礎知識（その3）／三菱電機／園田信夫

■特集：微粒子挙動とシミュレーション
○気流・ダスト流れシミュレーション／新日本空調／岡本隆太

　近年、クリーンルームの気流設計には、CFDが多用されるようになってきている。本稿では、クリーン環境を構築するために極めて有用なツールであるシミュレーション技術をどのような問題に適用しているかを、実例を交えて解説する。
○微粒子のクリーンルーム内挙動／大林組／諏訪好英

　本稿では、クリーンルーム内の微粒子挙動について筆者の持っているイメージを示し、またクリーンルーム内の気流と微粒子汚染の対策において陥りやすい問題点、留意点について考察する。
○新しい気流の可視化／日本エアーテック／磯部好秀

　クリーンルームにおける気流の可視化方法には、タフト法や注入トレーサー法があるが、それぞれの長所とともに、短所も見受けられる。それらの短所、問題点を解決する装置として、クリーンビューワーの構造と特長について紹介する。
○設計者が利用する熱流体解析の現状と今後／ソフトウエアクレイドル／吉川淳一郎

　本稿では、熱流体解析ソフトウェア開発会社の立場から、ソフトウェアの問題点や運用方法、利用者に求められる能力に解説する。また最近変化が大きい熱流体解析を利用するコンピュータ環境などについて紹介する。
○フローセル方式のパーティクルカウンタによる新たな汚染粒子の測定／リオン／近藤 郁

　半導体やFPDなど、電子デバイス産業における生産効率の向上には、汚染粒子の抑制が必須であり、より効果的な粒子管理方法が常に求められている。本稿では粒子の挙動を考慮した新たな粒子測定管理への試みについて説明する。
○クリーンルームにおける微粒子解析事例／日本カノマックス／宮田雄二

　クリーンルームを評価する上で、空気中の微粒子計測は最も重要な要素である。またその解析を行うことは、発じん源の特定を行う上で、重要な要素である。本稿では浮遊微粒子濃度試験機やクリーンルームにおける発じんの問題等において、事例とも合わせ解説する。
○有機EL用燐光材料の高効率製造技術／産業技術総合研究所／今野英雄

■コーヒーブレイク
○半導体製造技術の最前線（上）／服部 毅

■解説
○バッチ式シリコンウエハ洗浄機における超音波と水流／横浜国立大学／羽深 等・岡田勇太・吉井拓史／プレテック／加藤正行

　電子回路の作製においては各工程において発生した汚染、残渣などを取り除くために、大口径のシリコンウエーハを頻繁に洗浄することとなる。本稿では、バッチ式洗浄槽における水の動き・流れに対する超音波の効果について観察を行ったので、その詳細を報告する。
○電解硫酸によるレジスト剥離システム／栗田工業／永井達夫

　半導体製造工程のレジスト剥離処理としてSPM法が広く用いられているが、大量の硫酸と過酸化水素を使用することが課題となっている。そこで硫酸を電気分解することで過硫酸を生成し、その強力な酸化力を利用する技術を開発した。
○自動車車室内の空気質に関する基礎的研究／武蔵工業大学／岩下 剛

　自動車室内の空気環境に要求されるレベルは建築の居住環境に近くなってきている。本研究は走行環境及び停車環境において乗員が曝露される空気質について調査することを目的とし、粉塵、超微粒子、オゾンの各濃度を求め、健康性・快適性・運転作業性への影響を検討した。
○大気圧プラズマによる廃棄物処理システム／東京工業大学／渡邊隆之／クリーンテクノロジー／大槻浩司

　大気圧プラズマ技術は環境問題の解決のための先端基盤技術の一つとして、現在注目を集めている分野である。本稿ではフロン、ハロン、PFC、およびPCBを大気圧プラズマによって分解するシステムについて紹介する。
○植物を活用した新しい環境再生システム／奈良先端科学技術大学院大学／松井　健史／辻本正直

　植物を利用した水処理システムは、低コスト・省エネルギー型システムとして期待されている。環境ホルモンの除去・分解能に優れた高機能植物と、廃棄物再利用濾材を組み合わせた植物栽培型浄化システムについて紹介する。
○磁気力を利用した水の浄化と回収物質の再資源化／首都大学東京／伊藤大佐

　磁気分解により、ウラン汚染水のゼロエミッション浄化及びリンの回収と再資源化が可能であることを示した。原子炉の燃料棒冷却水中の放射性重金属の浄化と放射性廃棄物の減容化、及び下水処理場等でのリンの浄化と回収したリンのリサイクルに適用可能である。
○VOC排出抑制のためのプロセスモデリング／東京大学／菊池康紀・平尾雅彦

　金属加工に不可欠となる洗浄プロセスにおいて、VOCの排出抑制が必要となっている。本研究では、様々な対策技術を適切に評価し同入するため、工業的装置を用いた定量実験に基づき、洗浄装置モデルを構築している。モデルの概要とこれまでの成果を説明する。
○過熱水蒸気を用いたガラス基板端面洗浄技術／三菱電機／野田清治・中井隆文／島田理化工業／片岡辰雄

　ガラス切断後に端面に付着した異物を除去する目的で過熱水蒸気を利用した洗浄ツールを開発した。過熱水蒸気処理は従来の二流体ノズルによる処理と比較して性能が2倍高く、処理時間1秒以内で研磨後の基板の端面異物量を50％以上減少できることが分かった。
○活性炭におけるVOCの単成分系および2成分系の吸着／高砂熱学工業／秋山貴洋

　活性炭を用いて空気中のVOCを除去する際の吸着現象に関して、単成分系の吸着平衡、および多成分系の吸着平衡のモデル化の方法について紹介する。また、活性炭フィルタにおけるトルエン＋ベンゼンの2成分系での吸着脱離挙動のシミュレーション事例を示す。
○クリーンユニットシステムプラットフォーム(CUSP)による極限光洗浄度ISOクラス-1(マイナス1)の実現／北海道大学／石橋 晃

　自然界には非常に大きな階層構造がある。トップダウン、ボトムアップの両系を接続・統合することができれば相乗効果が引出せ、人類の未来に展望が開ける。クリーンユニットシステムプラットフォームは、科学技術及び生産現場でこの大きな可能性を支え、また現実化していく一助となると期待されている。
○クリーンルーム用衣服の動向と将来展望（後編）／福井工業大学／浅田敏勝／ゴールドウィン／七間一誠

　クリーンな作業環境を維持するために、人が身に付ける衣服は、発塵源としても防塵源としても重要な役割を演じている。本稿（後編）では、クリーンルーム用衣服の着衣管理と設計について解説する。
■基礎講座：分かりやすいクリーンルームの管理手法 2
○これだけは身に付けたいクリーン化技術の基礎知識 その2／三菱電機／園田信夫

■特集：有機ELパネル製造の現状を探る
○有機ELパネルの市場動向／アイサプライ・ジャパン／増田淳三

　有機ELは、機構的に表示部は個体、厚さは数ミリメートルで軽く、次世代ディスプレイとして期待されている。この自己発光の固体ディスプレイが誕生して20年、製品化が始まって10年の節目にあたる。本稿では誕生20年目の次世代ディスプレイ有機ELの課題と今後の動向について探る。
○有機EL材料の開発状況／出光興産／酒井俊男

　出光興産では、有機EL素子に用いる材料開発を行っており、最近、非常に長寿命・高効率な蛍光型RGBの発光材料を見出した。本稿では低分子型有機EL材料の開発状況を概説するとともに、当社の最新材料を用いた蛍光3波白色素子の性能について紹介する。
○有機ELパネル製造でのユーティリティ／東北デバイス／赤星 治

　市場から有望視されて久しい有機ELであるが、その量産化には未だ課題が多い。大きな理由の一つが現在の主流である蒸着式成膜に起因することが多く、本稿では有機EL製造に求められるインフラとその理由について述べる。
○有機EL基板における薄膜平坦化・洗浄／トッキ／氏原孝志

　有機EL素子におけるホール注入電極（ITO膜）表面は、発光のきっかけとなるところであり、その表面状態は有機EL素子とって非常に重要であり、厳しい性能が要求される。この重要なITO膜表面の欠陥を無くし、有機EL素子の性能を向上させる薄膜平坦化・洗浄技術について解説する。
○有機EL照明パネルの異型切断／三星ダイヤモンド工業／前川和哉・阪口良太・川畑孝志

　技術開発、ガラスの大型化が進んだ液晶，PDP、有機ELパネルを効率良く切断することを可能にしたブレークレス・ガラス切り（Penett靠）を用いたガラス分断技術と異形切断への応用について述べる。
○有機ELパネル製造の局所クリーン化／日立プラントテクノロジー／平田順太

　有機ELパネル製造用クリーンルームでは、環境中の水分と有機物による汚染の防止が求められる。乾式除湿ローターによるドライ・ケミカルフリーな空気を生成し、装置周辺とメンテナンスエリアを局所ドライ・ケミカルフリー化を図ることで汚染防止を図る。
○有機EL用燐光材料の高効率製造技術／産業技術総合研究所／今野英雄

　本稿では、代表的な燐光材料であるトリス－シクロメタル化イリジウム錯体の合成法の現状と課題について述べる。また著者らが現在取り組んでいるマイクロ波を用いた新しい合成法について紹介する。
■コーヒーブレイク
○コーヒーブレイク／服部 毅

■解説
○クリーンルーム用衣服の動向と将来展望（前編）／福井工業大学／浅田敏勝／ゴールドウィン／七間一誠

　クリーンな作業環境を維持するために、人が身に付ける衣服は、発塵源としても防塵源としても重要な役割を演じている。本稿（前編）では、クリーンルーム用衣服と評価方法（人体発塵とクリーンルーム用衣服の現状）を中心に解説する。
○誘引型置換換気空調システムの非一方向流型クリーンルームへの適応性評価／高砂熱学工業／守屋寛之

　旋回流を組み合わせ、吹出し誘引作用を高めた誘引型置換換気空調システムを実施したクリーンルームにおいて、通常運転時（Operational）での浮遊微粒子濃度および温度の実測結果を報告し、作業域の清浄化および省エネルギー化の有効性検討について述べる
○解剖学実習室におけるホルムアルデヒド環境の改善手法／三機工業／新村浩一／自治医科大学／大河原重雄

　大学医学部の解剖学実験室におけるホルムアルデヒド環境を改善するために、発生量の把握から空気浄化システムの検討、効果の確認といった一連のプロセスについて、事例をもとに提示する。
○FFUによる気流制御の効果／九電工／清原晃二・福島逸成・馬場 健

　FFUによる気流制御を適切に行なうには、クリーンルームの使用目的に応じて、費用対効果を含めて総合的に検討する必要がある。本稿では実大模型実験と気流シミュレーションの解析結果をもとにFFUによる気流制御の効果について解説する。
○超臨界二酸化炭素中の微粒子計測技術／オルガノ／菅原 広

　超臨界二酸化炭素用光散乱式パーティクルカウンタの開発を行い、微粒子評価を行い、29.8MPaの耐圧を有し、純水中PSL相当径で、0.3μm粒子の計測可能性が示唆された。
本稿では超臨界二酸化炭素中の微粒子計測技術における研究成果について紹介する。
○自動車部品の洗浄とその清浄度測定／森合精機／松村繁廣

　自動車業界の加工部品洗浄では、清浄度が高くまた被洗浄部品の形状・機能に見合った洗浄装置と洗浄後の清浄度測定が、清浄度の高い機能部品の製造ラインで重要な工程を担っている。本稿では実用的なこれら洗浄技術・事例と洗浄後の清浄度測定について紹介する。
○宇宙用観測機器のコンタミネーション管理技術／物質・材料研究機構／木村秀夫／宇宙技術開発／浦山文隆

　地球の周りには人工衛星が飛び交い、社会に恩恵をもたらしているが、機器の高感度化が進むにつれ、コンタミネーションによる機器の感度低下、短寿命化の問題が顕在化してきた。本稿では、宇宙でのコンタミネーション問題に対する取り組み例について紹介する。
■シリーズ：研究室紹介
○九州大学 工学研究院 精密加工学研究室／九州大学／土肥俊郎・黒河周平・梅崎洋二

■製品紹介
○超純水製造装置／タキエンジニアリング／古杉哲也
■基礎講座：分かりやすいクリーンルームの管理手法 1
○これだけは身に付けたいクリーン化技術の基礎知識 その1／三菱電機／園田信夫

■SEAJ News
○半導体製造装置 販売統計／日本半導体製造装置協会

■特集：最新半導体洗浄技術
○超臨界流体を用いた次世代半導体洗浄技術／Hattori Consulting International／服部 毅
○高dose II剥離におけるSPMレス洗浄の検討／富士通／佐藤俊哉
○300mmウェーハ用超臨界CO2洗浄装置／エスペック／稲原順一
○酸化膜エッチング液の枚葉スピン洗浄への適用検討／Sachem Inc.／Russell Stevens
○母材損傷を最小化するための石英管洗浄薬液及び洗浄方法／JIWONTECH／Gi-Won Lee
■コーヒーブレイク
○半導体洗浄技術最前線／服部 毅
■特集：最新半導体洗浄技術
〔製品紹介〕
○環境配慮型ケミカルレス洗浄のための高温・高濃度オゾン水洗浄装置／アイシーエフ／久野 敏明
○HDIレジスト剥離装置／アクアサイエンス／森平恭太
○ユニークな技術で45nm以降の半導体先端デバイスに対応／アプリシアテクノロジー／三浦和弘
○ウェット処理技術を中核とした次世代装置開発／エス・イー・エス／清水哲也
○大日本スクリーン製造の洗浄装置／大日本スクリーン製造／松永 聡
○ダメージレス・メガソニック枚葉洗浄／丸紅／松角大介
○差込全周容着方式による継手商品化／フロウエル／三徳正孝・鈴木 勲
○半導体用剥離・洗浄液／デュポン／平沢聡美
■小特集：太陽光エネルギー技術の現状
○太陽光発電のさらなる発展にむけて／豊田工業大学／山口真史
○薄膜系太陽電池の取組みについて／三菱重工業／石田信久
○太陽電池パネル製造プロセス向け排ガス除害・粉体処理装置／三菱化工機／岸本保之
■解説
○超短工期を実現する「モバイルファシリティユニット」工法の実際／大気社／森 卓也
○新しく注目される化学物質PFOSの分析技術／住化分析センター／吉田寧子・木村義孝
■シリーズ：研究室紹介
○横浜国立大学大学院 工学研究院 松本・中村研究室／横浜国立大学／松本幹治
■基礎講座：エンジニアリングのためのGMP豆知識9（最終回）
○医薬品製造における製薬用水の要件／GMPリサーチ／山川康泰
■SEAJ News

○半導体製造装置 販売統計／日本半導体製造装置協会

■特集：用途別にみるフィルタの最新動向
○エアフィルタの技術動向／日本エア・フィルター／岡本正行

　エアフィルタの構成、材料、機能等の基本的事項を述べながら、最近の動向をろ材開発を含めて紹介した。また、環境に優しい製品を意識して、ろ材交換型、再成式エアフィルタに加え、エコマーク製品も記述した。さらに抗菌、ガス除去フィルタの特性等も動向に加筆した。
○化学汚染対策用ケミカルフィルタ／ダン・タクマ／吉澤 巌

　半導体製造に関わる環境の化学汚染制御を実施するためのケミカルフィルタを用いた化学汚染制御技術全般に加え、最近の事例「ArFレーザーを用いた露光機で、低沸点Si化合物が原因とされるヘイズ発生」とその対策に触れる。
○超純水製造システムにおける逆浸透膜／栗田工業／新井伸説

　逆浸透膜は、超純水の製造過程において、イオン、有機物、微粒子を除去する分離膜として欠かすことができない。本稿では、超純水製造システムにおける逆浸透膜の利用について、また技術課題の一つである膜汚染対策、特に有機物汚染への対策方法について紹介する。
○逆浸透膜の技術／日東電工／越前 将・小原友海

　逆浸透膜は、さまざまな水処理用途に利用されているが、限られた地球資源を有効利用し、環境への負荷をできるだけ少なくするための省エネルギー化が要求されてきた。逆浸透膜による水処理の動向について概説する。
○金属除去フィルタの効果／日本インテグリス／橋本幸雄

　半導体製造で用いる超純水用金属除去フィルタの効果について紹介する。使用済みフィルタの多孔質膜、イオン交換膜に捕捉された粒子、およびイオン交換膜補足金属の分析を通して、極限まで純化された超純水の清浄度について考察する。
■コーヒーブレイク
○理科系のための…（10）／服部 毅

■解説
○嗅覚測定の精度管理と不確かさの推定／山口大学／樋口隆哉

　臭覚測定法の信頼性を確保するために、平成14年に精度管理マニュアルが取りまとめられた。今後は不確かさの算出方法を確立し、測定結果を解釈する際の統一的手順を提供することが求められる。
○可視画像を用いた大気エアロゾル観測／京都大学／大西将徳

　大気エアロゾルの高密度観測を実現する新しい観測手法として、大気分子と大気エアロゾルの散乱光の角度分布の違いを利用することで、可視画像から大気エアロゾル量を推定する観測手法を提案した。
○石油汚染土壌の高効率生物処理技術／立命館大学／松宮芳樹・久保 幹／大和化成／蓑田正史

　特殊微生物を用いた高効率バイオレメディエーションの開発に関し、石油汚染土壌の現状、石油を分解する特殊微生物の分離と特徴、さらに微生物挙動解析技術を用いた石油汚染土壌浄化に関するバイオレメディエーションの効率化について解説する。
○クリーンルームにおける室圧変動に関する実験的測定／戸田建設／村江行忠・岩村多美勇

　本稿では、様々な室圧制御が可能な実験室における扉開閉時および局所排気稼働時などの室圧変動に関する実験結果について報告する。
○石棉含有吹付け材除去工事における石綿粉じん濃度調査／清水建設／名知洋子

　吹付け材除去工事における作業区画の石綿粉じん濃度を測定し、・建物周辺と敷地内の作業区画における石綿粉じん濃度について、問題がないレベルにあること、・除去作業環境は適切に管理されていたことがわかった。
○電子機器から放散されるにおいの評価／住化分析センター／大嶋洋司

　製品からの化学物質放散量は、種々の試験法に基づき評価が行われているが、規制された成分以外に、製品から放散されるにおいが、近年注目を集めている。そこで我々は、レーザープリンタから放散されるにおいについて、評価を行った。
○GCにおいかぎによるにおい成分の測定／ジーエルサイエンス／千賀芳紀

　混合成分中の重要なにおいkey成分を特定するのにGCにおいかぎ法がある。これはキャピラリーGCの分離能を利用して単一のにおい成分をかぎわける有効な手法である。ここではGCにおいかぎに関する基礎、問題点やその対策を踏まえながら解説を行う。
○サンプリングバッグを用いた揮発性有機化合物の放散測定に関する研究／いすゞ中央研究所／達 晃一

　自動車業界を中心に利用されているサンプリングバッグ法について、実際の使用において注意すべき項目を、データを基に解説する。またバリデーション法について紹介する。
○宇宙機の熱真空試験における汚染防止／宇宙航空研究開発機構／猿渡英樹

　適切な汚染管理は、宇宙機の開発においても重要である。特に宇宙の高真空極低温環境を模擬する熱真空試験では、常温常圧環境よりも汚染の危険が高い。そのような環境における汚染管理の概要を紹介する。
■製品紹介
○VOC測定装置／伯東／厚木辰三
○工業分野向け高精度・高耐久な温湿度変換器／テストー／黒瀬佐知子
○新たなフッ素系不活性液体の開発／住友スリーエム／片岡 将和／3M Company.／Michel G. Costello
○超音波ノズルを活用した洗浄真空乾燥装置／ヤマトテクノス／山本義治
○先進の薄型ファンフィルタユニット／松下エコシステムズ／常川健留

■基礎講座：エンジニアリングのためのGMP豆知識9
○無菌医薬品製造における空調設備要件／GMPリサーチ／山川康泰

■SEAJ News
○半導体製造装置販売統計／日本半導体製造装置協会

■特集：半導体用洗浄薬液の最新動向
○先端半導体用薬液の現状と動向／本誌編集委員／服部 毅
○High-k/メタルゲート構造形成プロセスとエッチング・洗浄技術／半導体先端テクノロジーズ／佐藤基之・杉田義博
○Cu/Low-k構造プロセスの課題と洗浄技術／大日本スクリーン製造／杉本憲司・荒木浩之・今井正芳
○銅配線用CMP後洗浄液の開発／富士フイルム／西脇良典
【製品紹介】
○Cu/Low-k用の薬液／関東化学／小田貴文
○高性能Cu-CMP用後洗浄剤の特徴／和光純薬工業／林田一良
■コーヒーブレイク
○還暦を迎えたトランジスタ／服部 毅
■解説
○室内空気中の化学物質と吸着現象の基礎／九州大学大学院／伊藤一秀
○ホルマリン燻蒸対策技術／五洋建設／高橋祐一・小座野貴弘・末永義明
○虫は入れない／竹中工務店／稲岡 徹
○食品プラントで使用されるバイオサイドの特性と応用／アーチ・ケミカルズ・ジャパン／清野和浩
○食品の微生物学的リスクアナリシス／国立医薬品食品衛生研究所／山本茂貴
○企業におけるCSR活動について／アサヒビール／麻生尚輝
○アジアの環境水と食品の衛生状態／京都大学／西渕光昭・中口義次・小板橋努
■製品紹介
○0.1pA超の低ノイズ測定環境を実現した空気冷却式サーモチャック装置／東京ガスケミカル／秋澤徹郎
○塩分やアルミ包材に影響を受けない高感度金属異物検出技術／トック・エンジニアリング／近藤信一
○超極細繊維ワイパー／三菱製紙／松岡昌伸・兵頭建二
■基礎講座：エンジニアリングのためのGMP豆知識8
○無菌医薬品の製造過程に要求される洗浄度レベル／GMPリサーチ／山川康泰
■SEAJ News

○半導体製造装置販売統計／日本半導体製造装置協会

■特集：次世代半導体材料開発最前線
○総論 次世代半導体材料開発／次世代半導体材料技術研究組合／川本佳史
○次世代向けCMP材料の開発／JSR／長谷川亨
○ポーラスLow-k膜の物性評価技術／JSR／小久保輝一
○特殊材料ガスのビジネス展開とその課題／昭和電工／大久保雅裕
○Low-k、バッファコート材料の開発／住友ベークライト／朝隈純俊・番場敏夫
○耐熱化とウエーハ裏面加工プロセスへの応用／積水化学工業／杉田大平・大山康彦
○半導体製造におけるリソアシスト材料の開発／東京応化工業／熊谷智弥
○ポジ型感光性ポリイミドの開発と300mmプロセスへの対応／東レ／富川真佐夫
○ARC関連材料の開発とその課題／日産化学工業／渡邊久幸・中島康之
○CMPスラリー／日立化成工業／木村忠広・芳賀浩ニ
○フォトレジスト、CMPスラリ、Low-kの開発とその課題／富士フィルム／樽谷晋治・加藤知夫・浅野 明

■コーヒーブレイク
○セミコン・ウェスト2007／服部 毅

■解説
○電気集じんに関する新しい技術／豊橋技術科学大学／水野 彰
○異物対策の現状と検出・防除技術の課題／日本生活協同組合連合会／佐藤邦裕
○天然成分を用いたウィルス撃退フィルター／三菱製紙／奥 恭行
○進化するX線異物検出技術の最新動向／アンリツ産機システム／植山英弘
○包装品の密封不良検出への取り組みと改善課題／ニッカ電測／上村久仁男

■シリーズ：研究室紹介
○福井工業大学 浅田研究室／福井工業大学／浅田敏勝

■製品紹介
○花粉症対策用エアシャワー／三機工業／横山峰二・飯嶋和明・新村浩一
○エアロゾルエレクトロメータの原理と計測法／東京ダイレック／船戸浩二

■基礎講座：エンジニアリングのためのGMP豆知識7
○無菌医薬品製造における清浄度レベル／GMPリサーチ／山川康泰

■SEAJ News
○半導体製造装置販売統計（7月）／日本半導体製造装置協会

■巻頭企画：半導体ファシリティ座談会
○半導体工場、省エネ化の成功例と今後の課題／編集部

■特集：食品工場とクリーンテクノロジー
○輸入食品の安全性確保のための取り組み／東京顕微鏡院／伊藤 武・朝倉敬行・加藤文秋

輸入食品への依存度が極めて高い我が国において、国内生産品と同様に輸入食品に対しても安全性確保のために様々な対策を実施している。ここでは輸入食品の安全性確保のために実施している国内での取り組みと検査について解説する。
○タンパクふき取り法による食品製造現場での自主衛生検査の活用と有効性／農業・食品産業技術総合研究機構／川崎 晋

食品安全基本法制定後、自主衛生管理への取り組みがされ始め、多くの食品企業が微生物検査を実施している。その中の総合的な汚染度や洗浄度を迅速に評価できる技術であるタンパク拭き取り検査法について紹介する。
○清浄度分布をふまえたATP値の評価とその効果について／静岡県厚生部生活衛生局／小林千恵

食品営業施設の現場指導に活用できるATP抜き取り検査値の評価法を検討した。監視の際には、業種・業態別の洗浄度分析図を用いてATP値の評価を行うと、従事者の衛生管理の意識を高める効果と指導の効果を再検討することができた。
○流通の国際化と日本の現状／食品環境研究センター／新蔵登喜男

グローバル化の時代の中で、食品の規制も自国のみならず関係国の法令との関連性を考慮し、人口問題を見据え、マクロ的な視点にたって安全施策を立てるために、中国などのアジア地区を中心とした食の生産現場と国内の食の生産現場の実情を報告する。
○食品中の極小金属を見つけ出す／豊橋技術科学大学／田中三郎

食品内の異物検出法には渦電流方式、X線方式などがあるが、これらの方法では細いステンレス素線などの異物を検出することが難しい。超伝導センサ方式は披検査物を強力磁石で磁化し、その残留磁化を超高感度センサで計測するので、高感度な検出が可能である。
■コーヒーブレイク
○「40年ぶりのトランジスタ大変革」を読み解く（下）／服部 毅

■解説
○カビの測定におけるPDAとDG18培地の比較／国立保健医療科学院／柳 宇

カビの測定によく用いられるPDAとDG18培地の比較実験を中心に、国内外における研究や開発の現状と問題点について述べ、さらにISOの最新動向を含めた新しい情報を紹介する。
○最近のSEMI省エネルギー化促進活動／東京エレクトロン／井深 成仁

SEMIでの省エネルギー化推進活動は、ビジネス的側面でのEHSディビジョン傘下と、標準化推進活動傘下の両方で行われている。その中で、SEMIが取り組んでいる半導体製造装置の省エネルギー化促進活動について紹介し、課題と展望を述べる。
○超純水中の新しい微粒子計測方法／野村マイクロサイエンス／草野 徹

半導体産業ではDRAMハーフピッチの微細化が年々進み、超純水中の微粒子を厳しく管理する必要があるが、これまでの微粒子計測技術では困難であった粒子サイズ20nmを計測する新しい直接検鏡法が完成したので紹介する。
○バイオハザード対策施設の省エネ対策／イーアンドイープランニング／田中 稔

現在、あらゆる分野で省エネルギーが求められており、バイオハザード対策施設についても例外ではないが、安全を最優先とする施設において設備や運用の特徴、エネルギー使用の特性を明らかにし、安全第一を前提に、どのような省エネ対策が有効であるかについて考察する。
○ビル室内の作業環境に関する調査研究／東京美装興業／山野裕美

ビル管理者の作業環境や衛生環境の実態を把握することを目的とし、管理者に対してもより良好な環境となるよう、ビル室内での作業環境の調査研究を行ってきた。ここでは、清掃・設備・警備の控え室の室内環境測定及びアンケート調査を行った結果について報告する。
○屋内外環境での空中浮遊微生物数の変動／竹中工務店／齋藤 智

一般住環境や食堂厨房などでの環境衛生への基礎データとして、屋内と屋外の空中浮遊微生物数を、様々な季節・天候・時刻、場所で調査を行った。また、同時に空中浮遊粒子数や温湿度についてもデータを取り、浮遊菌数との関連について考察した。
○塗って作る高性能絶縁膜／産業技術総合研究所／小笹健仁

印刷による電子デバイス製造技術におけるキーポイントとなる低温塗布による高性能絶縁膜の作製技術を開発した。オゾンや紫外光を用いて形成される高純度の酸化シリコン薄膜はシリコン熱酸化膜と同等の高い表面平滑性と絶縁性能を同時にもたらした。
○用途拡大によるアルミ形材の浸透／三協マテリアル／桶 弘明

食品工場とも関わりのあるクリーンブースを中心に、これまでの弊社製品の採用事例の一部を挙げ、アルミ合金の特長とその使用メリットについて、さらに具体的採用例などから、アルミ形材の可能性について紹介させて頂く。
■シリーズ：研究室紹介
○慶應義塾大学理工学部 応用化学科環境化学研究室／慶應義塾大学／田中 茂

■製品紹介
○中性能、減容HEPAフィルター用濾材／三菱製紙／吉田光男・木村 薫
○空気浮上式ガラス基板搬送コンベア／第一施設工業／大田健一

■基礎講座：エンジニアリングのためのGMP豆知識6
○無菌医薬品製造のGMP・ガイダンス／GMPリサーチ／山川康泰

■SEAJ News
○半導体製造装置 販売統計／編集部